[发明专利]微光刻曝光系统的光学系统

权利要求书

1.一种微光刻投影曝光装置，包括照明系统和投影透镜，其中所述照明系统和/或所述投影透镜包括光学元件，所述光学元件包括在第二透镜部件(942b)中嵌入的第一透镜部件(942a)，其中所述第一透镜部件(942a)由在λ≈193nm处折射率大于1.7的立方晶体材料制成，并且其中所述第二透镜部件(942b)由光学各向同性材料制成。

2.如权利要求1所述的微光刻投影曝光装置，其中所述第一透镜部件(942a)由尖晶石制成。

3.如权利要求2所述的微光刻投影曝光装置，其中所述第一透镜部件(942a)由(100)-尖晶石制成，并且所述第二透镜部件(942b)由熔凝硅石(SiO₂)制成。

4.如权利要求1所述的微光刻投影曝光装置，其中所述第一透镜部件(942a)从包括下述的组中选择：氟化镁(MgF₂)、氟化镧(LaF₃)、蓝宝石(Al₂O₃)和结晶石英(SiO₂)。

5.如权利要求1至4中的任一项所述的微光刻投影曝光装置，其中所述第一透镜部件(942a)的光入射面与所述第二透镜部件(942b)的光出射面具有相同的曲率。

6.如权利要求1至4中的任一项所述的微光刻投影曝光装置，其中所述第一透镜部件(942a)的光入射面与所述第二透镜部件(942b)的光出射面之间没有间隙。

7.如权利要求1至4中的任一项所述的微光刻投影曝光装置，其中，在所述第一透镜部件(942a)的光入射面与所述第二透镜部件(942b)的光出射面之间布置浸液层或小的空气隙。

8.如权利要求1至4中的任一项所述的微光刻透镜曝光装置，其中，所述光学元件是像方的最后一个元件。

9.如权利要求1至4中的任一项所述的微光刻透镜曝光装置，其中，所述第二透镜部件(942b)是弯月透镜，并且所述第一透镜部件(942a)布置在所述弯月透镜的凹光出射侧，以与所述第二透镜部件(942b)一起形成大致的平凸透镜。