[发明专利]一种监测镀件表面金属镀层厚度的方法

权利要求书

1.一种监测镀件表面金属镀层厚度的方法，其中，所述镀件包括基材和表面金属镀层，或者包括基材、表面金属镀层和次外层，其特征在于，与所述表面金属镀层相邻的基材或次外层含有表面金属镀层不含有的元素，该方法包括用入射电子束轰击镀件表面，并用X射线能谱仪采集多个镀件样品的表面的能谱图，该多个镀件样品的表面金属镀层的材料相同并且厚度不同，通过调节入射电子束的条件，得到各自恰好不能出现表面金属镀层不含有的元素的特征峰的入射电子束的条件，得到镀层厚度与各自入射电子束的条件的对应表；用X射线能谱仪采集待测镀件的表面能谱图，该待测镀件的表面金属镀层的材料与所述多个镀件样品的表面金属镀层的材料相同，通过调节入射电子束的条件，得到恰好不能出现表面金属镀层不含有的元素的特征峰的入射电子束的条件；在对应表中查找与该入射电子束的条件最接近的入射电子束的条件，该最接近的入射电子束的条件所对应的厚度即为待测镀件的表面金属镀层的测量厚度，所述多个镀件样品的镀层厚度呈等差数列；

得到恰好不能出现表面金属镀层不含有的元素的特征峰的入射电子的条件的方法为：顺次改变入射电子束的条件，在每个条件的入射电子束的轰击下采集样品的表面能谱图，直到得到满足如下要求的两个相邻的入射电子束的条件：在其中一个条件下，能谱图中仅出现表面镀层材料的特征峰，在另一个条件下，能谱图中出现表面镀层材料和表面镀层下的材料的特征峰；在上述两个入射电子束的条件之间重复上述过程，得到两个更接近的入射电子束的条件，如此循环，直到得到的两个入射电子束的条件之间不存在中间的入射电子束的条件，则最终得到的仅出现表面镀层材料的特征峰的入射电子束的条件为恰好不能出现表面金属镀层不含有的元素的特征峰的入射电子束的条件。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述X射线能谱仪为与扫描电子显微镜组合的X射线能谱仪，通过调节扫描电子显微镜的设定参数控制所述入射电子束的条件。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述扫描电子显微镜的设定参数包括加速电压。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述扫描电子显微镜的设定参数还包括工作距离、束斑、灯丝电流和放大倍数中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述表面金属镀层的厚度为0.05-0.8微米。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述表面金属镀层的元素为铁、铜、金、银、镍、铬、铅、铂、锰、锌和钨中的一种或几种。