[发明专利]旋转圆柱磁控溅射靶无效
| 申请号： | 200710022233.1 | 申请日： | 2007-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN101285171A | 公开（公告）日： | 2008-10-15 |
| 发明（设计）人： | 孙德恩 | 申请（专利权）人： | 胜倍尔超强镀膜（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 | 代理人： | 陈忠辉;姚姣阳 |
| 地址： | 215122江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 旋转 圆柱 磁控溅射 | ||
【权利要求书】：
1.旋转圆柱磁控溅射靶，包括极靴、永磁体、中空圆柱靶材和芯轴，永磁体沿圆柱靶材的轴向嵌于极靴内，其特征在于：所述永磁体为长永久磁条和短永久磁条，相应地，极靴上设有用于安装长永久磁条和短永久磁条的定位槽，长永久磁条和短永久磁条分别安装在对应的定位槽内；长永久磁条和短永久磁条沿极靴圆周方向交替分布，从而组成多路条形磁体，长短永久磁条的极性相反，极化方向垂直于溅射阴极中心轴线，极靴两端的磁环与长短永久磁条构成闭合跑道形磁力线。
2.根据权利要求1所述的旋转圆柱磁控溅射靶，其特征在于：所述长永久磁条和短永久磁条分别通过长压条和短压条固定在极靴的定位槽内。
3.根据权利要求1或2所述的旋转圆柱磁控溅射靶，其特征在于：所述长永久磁条和短永久磁条沿极靴圆周方向以偶数个交替分布。
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