专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]环爪型装配抓钩-CN02240631.X无效
  • 刘慧君 - 刘慧君
  • 2002-06-24 - 2003-05-28 - H05K13/00
  • 在装配低压电器开关机构部件时,特别是TM10、DZ20、TM30等低压电器开关,由于绝缘塑壳的间隙比较小,采用以往的装配工具进行装配组装,往往操作不灵活,使用不方便,易损伤零部件,甚至还会造成操作者的人身安全
  • 环爪型装配
  • [外观设计]地砖(DZ20-CN201730206353.1有效
  • 王金蜜 - 王金蜜
  • 2017-05-26 - 2017-12-15 - 25-01
  • 1、本外观设计产品的名称为地砖(DZ20)。2、本外观设计产品用于建筑物地面装饰。3、本外观设计产品的设计要点是图案与色彩的结合。4、指定作为最能表明设计要点的图片主视图。
  • 地砖dz20
  • [发明专利]太阳能电池硅片清洗剂及其使用方法-CN200910157191.1有效
  • 俞相明;黄燕;陈国其 - 浙江向日葵光能科技股份有限公司
  • 2009-12-24 - 2010-06-16 - C11D1/22
  • 本发明提供了一种太阳能电池硅片清洗剂及其使用方法,属于太阳能电池生产技术领域,由如下体积比的组分配制而成:DZ1∶DZ2∶水=5~15∶1~10∶100;其中DZ1由如下摩尔比的组分组成:烷基苯磺酸钠∶五水偏硅酸钠∶焦磷酸四钾∶聚乙烯醇∶聚乙二醇∶水=5∶7∶3∶7∶6∶72;DZ2由如下摩尔比的组分组成:氢氧化铵∶双氧水∶水=5∶15∶80。本发明使用方法如下:将切割后的单晶硅片放在清洗剂中进行超声波清洗,其清洗时间为5分钟-20分钟,清洗温度为40℃-70℃。本发明清洗时间、清洗温度与清洗剂中的DZ1、DZ2的浓度相协调,以达到有效去除由线切割单晶硅而产生的表面油脂及硅片内部金属杂质。
  • 太阳能电池硅片洗剂及其使用方法
  • [发明专利]非接触三维形状测定机及方法-CN201710330185.6有效
  • 渡边裕;石山拓 - 株式会社三丰
  • 2017-05-11 - 2021-09-03 - G01B11/24
  • 非接触三维形状测定机(20)构成为基于一边使测头(10)沿光轴(Z轴)方向扫描一边利用摄像机(34、44)拍摄所得到的帧图像以及获取到该帧图像的位置信息,来合成摄像对象(8)的三维形状,非接触三维形状测定机(20)具备对拍摄多个原始图像的期间内的测头(10)的扫描位置(dZ1dZ2)进行检测的单元(12)、以及针对所拍摄到的原始图像通过利用了所述扫描位置(dZ1dZ2)的信息的线性插值来生成插值图像并且使用该插值图像来生成合成帧图像的单元(72)。
  • 接触三维形状测定方法
  • [发明专利]促进剂N,N-二环己基-2-苯并噻唑次磺酰胺的合成方法-CN201110280208.X无效
  • 朱军 - 科迈化工股份有限公司
  • 2011-09-20 - 2012-03-07 - C07D277/80
  • 本发明公开了一种促进剂N,N-二环己基-2-苯并噻唑次磺酰胺的合成方法,在10~30%硫酸200~1000ml加入到已有200~1000克二环己胺的反应釜中,在20~80℃、转速为200~1500转/分钟的条件下,使硫酸充分和二环己胺反应,过滤后加入到氧化釜中,再加入200~1000ml异丙醇,然后以20~100ml/分钟的流速加入质量含量为8.0~18.0%的氧化剂次氯酸钠,滴加时间为1.0~3.0小时,反应完毕后抽滤、水洗、过滤、干燥得橡胶促进剂DZ产品,促进剂DZ的纯度达到99%以上,收率达到了95%。本发明的优点在于:该方法过程简单,易于工业化,使用的二环己胺少,产品DZ收率高,质量好。
  • 促进剂环己基噻唑次磺酰胺合成方法

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