专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]抛光砖专用化学抛光-CN200610035936.3有效
  • 周文鹏 - 周文鹏
  • 2006-06-14 - 2006-11-15 - C09G1/02
  • 本发明公开了一种抛光砖专用化学抛光,该抛光是由如下组份构成:不同纳米级液体硅砂8-40%,离子活性、阴离子活性、氟碳表面活性的一种或一种以上表面活性组合0.01-1%,一种或一种以上的有机溶机混合物0.1-5%,去离子水60-90%,其中,离子活性可采用聚氧乙烯烷醚、聚氧乙烯多元醇醚;阴离子活性可采用十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠;氟碳表面活性采用全氟辛酸铵、全氟癸酸铵;机溶机混合物采用如甲醇、乙醇、丁酮;采用上述组份的抛光具有效提高抛光砖光泽,且耐久、保光性好的优点。
  • 抛光专用化学抛光
  • [发明专利]洗涤-CN201980034311.0有效
  • S·N·巴切洛尔;J·贝内特;D·C·索利 - 联合利华知识产权控股有限公司
  • 2019-05-16 - 2022-01-25 - C11D1/83
  • 本发明提供了一种液体洗衣洗涤组合物,其包含:a)8‑15%(基于所述组合物的总重量按重量计)的阴离子活性,其选自直链烷基苯磺酸盐及其与烷基醚硫酸盐的混合物;b)1‑5%(基于所述组合物的总重量按重量计)的离子活性,其选自平均每摩尔醇含有2‑40摩尔环氧乙烷的C8‑C18伯或仲直链或支链醇乙氧基化物;c)0.5‑15%(基于所述组合物的总重量按重量计)的聚合物清洁增强,其选自抗再沉积聚合物、去污聚合物及其混合物;其中阴离子活性(a)+离子活性(b)的总量为9‑20%(基于所述组合物的总重量按重量计);并且其中阴离子活性(a)与离子活性(b)的重量比为3:1至12:1。
  • 洗涤剂

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