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[发明专利]一种大面积陶瓷靶材组件及其制造方法-CN201911354803.6在审
发明人：周其刚;李宪民;侯金明;戴慧敏 -专利权人：南京欧美达应用材料科技有限公司
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种大面积陶瓷靶材组件的制造方法，包括如下过程：提供制造大面积陶瓷靶材组件所需的材料，包括背板、陶瓷靶材基片、导电胶；所述陶瓷靶材基片与背板连接固定的一面为第一焊接面，与第一焊接面相对的为溅射面，背板与陶瓷靶材基片连接固定的一面为第二焊接面；将陶瓷靶材基片的第一焊接面通过导电胶固定于背板的第二焊接面上，陶瓷靶材基片按环状跑道型进行拼接，相邻陶瓷靶材基片之间预留有缝隙；位于环状跑道侧边的陶瓷靶材基片和位于环状跑道端部的陶瓷靶材之间形成内部封闭空白区域，位于环状跑道两端的陶瓷靶材基片的侧边设置倒角。本发明提供的陶瓷靶材组件的制造方法，简单易行，便于加工，避免了靶材碎裂、脱靶等问题。
一种大面积陶瓷组件及其制造方法

[实用新型]一种可提高靶材利用率的靶座-CN201520217063.2有效
发明人：刘林;檀玉珩 -专利权人：山东禹城汉能薄膜太阳能有限公司
申请日： 2015-04-13 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种可提高靶材利用率的靶座。一种可提高靶材利用率的靶座，包括：靶材；导电膜层，位于靶材下方；靶材背板，其上表面设置导电膜层；靶材冷却层，设于靶材背板下方；靶材磁场层，设于靶材冷却层下方；靶材基座，设于靶材磁场层下方；陶瓷组件，包括陶瓷组件正极、陶瓷组件负极和陶瓷密封焊接件，所述陶瓷组件正极和陶瓷组件负极贯穿靶材背板、靶材冷却层、靶材磁场层、靶材基座设置，所述导电膜层和靶材背板通过陶瓷密封焊接件连接。本一种可提高靶材利用率的靶座，可提高该靶材的使用寿命，当该靶材使用寿命耗尽的时候，靶材上所剩的材料也不是太多，从而避免了靶材材料的浪费，节约了成本，实现靶材利用的最大值。
一种提高利用率

[实用新型]一种陶瓷溅射靶-CN201120333536.7有效
发明人：孙宜华;吕鑫 -专利权人：三峡大学;孙宜华;湖北三峡新型建材股份有限公司
申请日： 2011-09-07 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种陶瓷溅射靶，在陶瓷靶材一侧设有烧渗银层，背板层通过钎焊合金层以及烧渗银层与陶瓷靶材连接。所述的陶瓷靶材为氧化物烧结陶瓷。陶瓷靶材为AZO靶材、ITO靶材。本实用新型提供的陶瓷溅射靶，以氧化物烧结陶瓷为靶材，采用Sn－Zn－In－Bi四元合金或Sn－Zn－In三元合金为钎焊材料，陶瓷靶材连接面中温预烧渗极薄的银过渡层，实施陶瓷靶材与Cu或Cu合金背板的连接，能够低成本、高效率的生产，改善钎料润湿性，提高靶材与铜背板的连接性能，实现稳定溅射的溅射靶。
一种陶瓷溅射

[发明专利]一种陶瓷旋转靶材的焊接方法-CN202010323257.6在审
发明人：姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;祝龙飞 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2020-04-22 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： B23K1/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种陶瓷旋转靶材的焊接方法，所述方法包括：(1)对陶瓷旋转靶材依次进行预热和浸润处理，之后冷却得到处理靶材；(2)对背管依次进行预处理和浸润作业，之后得到处理背管；(3)将步骤(1)得到的处理靶材和步骤(2)得到的处理背管进行组装然后加热并填充焊料，之后降温得到焊接好的陶瓷旋转靶材；所述陶瓷旋转靶材和背管配套设置，且所述陶瓷旋转靶材至少包括1个。本发明提供的方法，陶瓷旋转靶材表面与背管焊接面浸润效果好，靶材与背管焊接缝隙中基本无气孔，绑定结合强度高，相邻旋转靶材之间拼接缝隙均匀、靶材表面高度一致无台阶，减少背管与陶瓷旋转靶材受热膨胀而产生的质量问题
一种陶瓷旋转焊接方法

[实用新型]陶瓷靶管外径研磨工装-CN201420677119.8有效
发明人：黄勇彪;林文宝 -专利权人：深圳市众诚达应用材料科技有限公司
申请日： 2014-11-13 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： B24B41/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种陶瓷靶管外径研磨工装，该研磨工装用于将陶瓷靶管固定在车床夹头上，包括供陶瓷靶管套设的芯棒、以及分别用于安装在所述陶瓷靶管两端的堵头，所述堵头穿设在所述芯棒上。本实用新型的陶瓷管外径研磨工装，通过芯棒伸入陶瓷靶管内并固定在车床夹头上，再通过堵头将陶瓷靶管定位在芯棒上，使得陶瓷靶管在研磨过程中不会发生破损或开裂情况，提高研磨质量及效率。
陶瓷外径研磨工装

[实用新型]矩形平面多弧靶及真空镀膜装置-CN201320025570.7有效
发明人：王叔晖;刘竹杨 -专利权人：上海法德机械设备有限公司
申请日： 2013-01-17 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种矩形平面多弧靶及真空镀膜装置。该矩形平面多弧靶包括一靶座、一外圈陶瓷压条和一中心陶瓷压条，该外圈陶瓷压条围设于该靶座的顶端面的边缘，并形成用于容纳固定该靶材的一靶材区域，该中心陶瓷压条设于该靶材区域的中间并用于固定该靶材。本实用新型的矩形平面多弧靶及真空镀膜装置通过设置绝缘的陶瓷件在固定靶材的同时起到灭弧作用，提高了溅射镀膜的稳定性和效率。
矩形平面多弧靶真空镀膜装置

[发明专利]一种陶瓷靶材加工方法和加工设备-CN202210792330.3在审
发明人：刘佰玲;胡智向;童培云;余芳;刘毅华;周桂媚 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2022-07-05 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： B24B9/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种陶瓷靶材加工方法，包括切割步骤：采用旋转的切割砂轮与陶瓷靶材接触并发生相对运动而切割陶瓷靶材，切割砂轮切割时还摩擦陶瓷靶材的切割面而去除切割形成的毛刺。本发明的陶瓷靶材加工方法通过采用旋转的切割砂轮进行切割，切割砂轮切割时还能摩擦陶瓷靶材的切割面而将毛刺去除，如此，相对现有可省去后续采用CNC机加工去除毛刺的步骤，简化操作，同时，可省去购买CNC机，节省成本本发明还公开了一种陶瓷靶材加工设备。
一种陶瓷加工方法设备

[发明专利]靶材组件形成方法-CN201811114487.0在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;罗明浩;占卫君 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2018-09-25 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： C04B37/02 文献下载
摘要：一种靶材组件形成方法，包括：提供陶瓷靶材，所述陶瓷靶材具有靶材焊接面；提供金属背板，所述金属背板具有背板焊接面；将所述靶材焊接面镀镍，形成镍镀层；在所述镍镀层表面和所述背板焊接面上放置钎料，对所述陶瓷靶材以及所述金属背板进行焊接，形成靶材组件。本发明有助于提高所述陶瓷靶材与所述金属背板间的焊接强度。
组件形成方法

[实用新型]一种提高旋转陶瓷靶烧结变形的垫板-CN201120116005.2有效
发明人：文宏福 -专利权人：韶关市欧莱高新材料有限公司
申请日： 2011-04-20 - 公布日： 2012-01-04 - 主分类号： F27D5/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种提高旋转陶瓷靶烧结变形的垫板，在烧结炉的承烧板上面设有垫板，在垫板上面置有旋转陶瓷靶材生坯。在旋转陶瓷靶材生坯下方放置一辅助收缩的垫板，该垫板与承烧板以及陶瓷生坯之间均用高温砂隔开，在随同烧结时垫板与陶瓷靶材生坯同时同向收缩，确保靶材与垫烧板始终处于相对静止的位置，从而最大限度消除了摩擦，提高了陶瓷靶材烧结产品合格率
一种提高旋转陶瓷烧结变形垫板

[发明专利]一种陶瓷靶材的清洗方法-CN202110813219.3在审
发明人：姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;杨慧珍 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-07-19 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种陶瓷靶材的清洗方法，所述清洗方法包括以下步骤：将陶瓷靶材的表面进行擦拭清洗；将处理后的陶瓷靶材采用有机溶剂进行超声波清洗；将处理后的陶瓷靶材依次进行吹扫干燥和真空干燥，得到清洗后的陶瓷靶材本发明所述方法根据陶瓷靶材的材质特性，依次采用擦拭清洗、超声波清洗的方式将靶材表面的油污、污迹、粉尘等充分去除，再经吹扫、真空等干燥方式将清洗液去除，保证靶材表面的洁净度，从而保证溅射过程稳定，满足使用要求；所述方法中真空干燥前先进行吹扫干燥，可将靶材表面的清洗液成分快速吹干，避免液体长时间残留容易形成液体印记的问题；所述方法操作简单，清洗成本低，尤其适用于陶瓷类靶材的清洗。
一种陶瓷清洗方法

[实用新型]一种拼接型陶瓷靶材-CN202023303456.5有效
发明人：周其刚;李宪民;侯金明 -专利权人：南京欧美达应用材料科技有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种拼接型陶瓷靶材，包括多个固定在背板上的陶瓷靶材片，两片相邻的陶瓷靶材片的接触面上设有形状相吻合从而能将两片相邻的陶瓷靶材片拼接在一起的拼接边；两个相邻陶瓷靶材片中的其中一个陶瓷靶材片的拼接边倒置，另一陶瓷靶材片的拼接边向上设置在向下设置的拼接边的下方，从而使所述两个相邻的陶瓷靶材片贴合在一起；所述拼接边包括第一拼接边，所述第一拼接边的形状为中心对称的倒S形，所述第一拼接边上设有相适应的凹槽和凸起本实用新型的陶瓷靶材片采用拼接边拼接，与现有技术的拼接相比不存在贯穿的缝隙，有利于提高产品质量。
一种拼接陶瓷

[实用新型]铬平面靶热等静压装置-CN201820245947.2有效
发明人：张中美 -专利权人：东莞市欧莱溅射靶材有限公司
申请日： 2018-02-11 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型提供一种铬平面靶热等静压装置，包括热等静压炉，热等静压炉具有用于放置靶材工件的炉腔，在热等静压炉的炉腔内填充有陶瓷珠，陶瓷珠为圆球体形状，且该陶瓷珠具有流动性；炉腔内的陶瓷珠的中部形成一靶材工件热等静压空间，靶材工件放置于靶材工件热等静压空间，在靶材工件与炉腔的内壁之间具有流动间隙；陶瓷珠填充满靶材工件与炉腔之间的流动间隙，且在靶材工件的上方覆盖有一层陶瓷珠而形成一陶瓷珠流动压盖层。本实用新型通过热等静压炉、靶材工件以及陶瓷珠等的配合，在热等静压的高温高压环境下，利用陶瓷珠的热形变较小和流动性，使得靶材工件的形变降到最低，减少了侧弯、形变等情况，提高了产品的质量，减少了材料报废，降低了生产成本
陶瓷珠靶材炉腔热等静压热等静压炉热等静压装置本实用新型流动间隙平面靶形变高温高压环境工件放置热形变压盖层圆球体侧弯炉具内壁填充生产成本报废覆盖流动配合

[发明专利]一种热蒸发镀膜陶瓷靶材及制备方法-CN202210165519.X在审
发明人：许积文;余晨旭;杨玲;王华 -专利权人：桂林电子科技大学
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： C04B35/80 文献下载
摘要：本发明公开了一种热蒸发镀膜陶瓷靶材及制备方法，所述陶瓷靶材包括与原料粉体共同构成异质结构的结构材料，所述结构材料为与原料粉体相同化学组份的陶瓷纤维和/或陶瓷片，所述陶瓷纤维的长度为5‑100μm，直径为0.2‑6μm；所述陶瓷片的厚度为2‑10μm、宽度为20‑60μm；结构材料在陶瓷靶材中的占比为10‑35wt%。本发明通过在靶材原料中添加同种材质的陶瓷纤维、陶瓷片或者两者组合，使陶瓷靶材坯体在烧结后形成一种异质结构，在不影响镀膜质量的前提下，解决陶瓷靶材热蒸发时热冲击应力过大易造成开裂的问题。
一种蒸发镀膜陶瓷制备方法

[实用新型]固定多弧离子镀阴极靶座与限弧套筒相对位置的陶瓷环-CN201620557704.3有效
发明人：张钧;赵微;戴步实 -专利权人：沈阳大学
申请日： 2016-06-12 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：固定多弧离子镀阴极靶座与限弧套筒相对位置的陶瓷环，涉及一种离子镀设备的辅助构件，固定多弧离子镀阴极靶座与限弧套筒相对位置的陶瓷环，阴极靶座固定在限弧套筒的中心，磁环呈圆柱体，圆柱体的中心位置呈凸起的台状，陶瓷环（1）固定在阴极靶座（2）和限弧套筒（3）之间，阴极靶座（2）通过螺栓固定在炉体（5）上，炉体（5）和阴极靶座（2）之间有一个塑料绝缘环（4）。陶瓷环材质为绝缘陶瓷，该陶瓷环能够方便地将阴极靶座固定在限弧套筒的中心位置，这样就节省每次安装阴极靶座和限弧套筒需要人工调整阴极靶座和限弧套筒间距离的时间，保证阴极靶座和限弧套筒的相对位置，防止阴极靶座和限弧套筒连接
固定离子镀阴极套筒相对位置陶瓷

[发明专利]一种大功率陶瓷加热体及其制备方法-CN202211604758.7在审
发明人：齐会龙;李俊辉;聂革;刘斌;丁磊;钟勇;赵贯云;赵波洋 -专利权人：深圳市吉迩技术有限公司
申请日： 2022-12-13 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种大功率陶瓷加热体及其制备方法，涉及陶瓷加热体生产技术领域。一种大功率陶瓷加热体及其制备方法，所述大功率陶瓷加热体包括陶瓷基体、过渡层、加热层和金属电极，其制备方法包括以下步骤：S1前处理；S2沉积过渡层，采用A靶材，对前处理后的陶瓷基体进行真空磁控溅射，功率200‑400W，时间5‑30min；S3沉积加热层，采用B靶材，对陶瓷基体进行真空磁控溅射，功率300‑500W，时间60‑120min，使加热层沉积在过渡层之上；S4印刷金属电极；所述A靶材为镍靶材、钛靶材、铬靶材中的一种；所述B靶材为Ni80Cr20靶材、铂靶材、金靶材中的一种。本发明的大功率陶瓷加热体，无需纤维棉作为载体，能够防止糊芯，提高雾化利用率，延长使用寿命，且适用于大功率雾化器。
一种大功率陶瓷加热及其制备方法

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