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- [发明专利]非周期阵列天线设计方法-CN201310704401.0有效
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陈蕾;张天龄;余剑峰;王超;史小卫
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西安电子科技大学
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2013-12-19
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2017-03-08
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G06F17/50
- 本发明提供一种非周期阵列天线设计方法，包括建立非周期阵列天线单元模型组，非周期阵列天线单元模型组中包括至少两个天线单元模型，每个天线单元模型与相邻的天线单元模型的间距均不同，每个天线单元模型的方向图和有源电压驻波比均满足设计要求；建立初始非周期阵列天线模型，初始非周期阵列天线模型中包括至少三个天线单元；对初始非周期阵列天线模型依次循环使用优化算法综合优化、根据优化结果更新非周期阵列天线模型并使用非周期阵列天线单元模型组中的天线单元模型更新天线单元、全波分析处理，当在一次循环处理过程中使用优化算法得到的方向图和使用全波分析得到的方向图误差不超过预设阈值时，得到非周期阵列天线的设计结果。
- 周期阵列天线设计方法
- [发明专利]周期性波纹阵列-CN200880106871.4无效
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马克·莫里斯·米尼亚尔
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高通MEMS科技公司
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2008-09-08
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2010-08-11
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G02B26/00
- 一种微机电(MEMS)装置(800)包含衬底(802)、所述衬底(802)上的激活电极(804)、所述激活电极(804)上的反射层(810)，和所述激活电极(804)与所述反射层(810)之间的支撑层(808)。所述反射层(810)包含穿过所述反射层(810)的至少一个孔(814)。所述支撑层(808)包含在所述激活电极(804)与所述至少一个孔(814)之间的凹进(812)。在将控制信号施加到所述装置(800)后，所述反射层(810)的至少第一部分(816)经配置以移动到所述凹进(812)中，且所述反射层(810)的至少第二部分(818)经配置以保持静止。所述MEMS装置(800)的反射性主要通过改变从所述第一部分(816)反射的光与从所述第二部分(818)反射的光之间的相位差来调制。
- 周期性波纹阵列
- [实用新型]对数周期天线的组阵结构-CN201620032386.9有效
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张少林;崔立成
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深圳市顶一精密五金有限公司
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2016-01-13
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2016-07-06
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H01Q21/00
- 本实用新型提供了一种对数周期天线的组阵结构，涉及通信传输领域。该对数周期天线的组阵结构包括固定装置以及对数周期天线阵列，所述对数周期天线阵列包括多副对数周期天线，所述多副对数周期天线的每副对数周期天线包括天线集合线以及设置于所述天线集合线的多个天线振子，每副所述对数周期天线的天线集合线以及天线振子在同一平面内，所述对数周期天线阵列的每两副相邻的对数周期天线的天线集合线之间存在夹角且靠近所述对数周期天线阵列同一端的所述夹角大小相同，所述对数周期天线阵列的每两副对数周期天线的天线振子相互平行，所述对数周期天线阵列设置于所述固定装置
- 对数周期天线结构
- [实用新型]扩散器及投影系统-CN202222234118.3有效
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贾敏;明玉生;王聪;程治明;储星宇;汪杰;陈远
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宁波舜宇奥来技术有限公司
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2022-08-24
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2023-02-03
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G02B5/02
- 本实用新型的一种扩散器及投影系统，包括基底和多个微透镜，微透镜包括分界面上方的标准面型和分界面下方的补充面型，并配置为：多个微透镜呈周期阵列，扩散器的主面型为周期阵列的标准面型组成的面型；多个微透镜呈随机阵列，补充面型对被遮挡的标准面型进行面型补偿，补充面型的斜率根据主面型确定，当多个微透镜呈周期阵列分布时，扩散器的主面型即为周期阵列的面型，补充面型不参与周期阵列；当多个微透镜呈随机阵列分布时，补充面型进行面型补偿，在确定主面型后，设置补偿面型，使微透镜在周期阵列或不同随机量的随机阵列的情况下具有相同的光束整形效果，无需重新设计微透镜结构，降低工作量，提升设计效率，使微透镜的应用情况更广泛。
- 扩散器投影系统
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