专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种甲钴及其衍生的纯化方法-CN201610815672.7有效
  • 黄文峰;黄雄鸠;李胜伟;马缙;周和平 - 重庆莱美隆宇药业有限公司
  • 2016-09-08 - 2023-03-28 - C07H23/00
  • 本发明提供了一种甲钴及其衍生的纯化方法,以甲钴及其衍生(包括氰钴,羟钴,腺苷钴)粗品为原料,加入一定比例的纯化水或水与有机溶剂的混合溶剂,控制温度为25~80℃,加入一定比例的季铵盐,溶解控制温度为25~60℃,搅拌下向澄清料液中加入有机溶剂,降温至0~10℃析晶,过滤或离心,干燥获得高纯度的甲钴及其衍生。本发明在甲钴及其衍生纯化过程中,加入一定比例的季铵盐。杂质去除效果好,加入的季铵盐容易去除,一次纯化操作可以获得纯度大于99.6%甲钴纯品,与现有技术相比,本发明方案具有工艺简单,生产效率高,成本低,适合工业化生产等优势。
  • 一种甲钴胺及其衍生物纯化方法
  • [发明专利]含羟的稳定溶液、含羟的半导体清洗液、其制备方法及用途-CN202211219099.5在审
  • 侯军;申海艳;吕晶;任浩楠 - 浙江奥首材料科技有限公司
  • 2022-10-08 - 2023-01-13 - C11D7/32
  • 本发明提供一种含羟的稳定溶液、含羟的半导体清洗液、其制备方法及用途。所述含羟的稳定溶液包括重量配比如下的各组分:羟及其衍生5‑30份;螯合剂1‑5份;葫芦脲及其衍生5‑20份。本发明通过葫芦脲及其衍生对羟分子进行包结,避免羟分子与金属离子及酸碱性介质的直接接触;使用螯合剂对金属离子进行络合,确保从葫芦脲及其衍生中释放的羟分子不会受到金属离子的催化而发生分解。本发明还公开了一种含羟的半导体清洗液,包括含羟的稳定溶液、碱、水溶性有机溶剂和超纯水。本发明含羟的半导体清洗液既可避免羟由于金属离子催化导致的分解,又可防止因高温及碱性导致的羟分解,能广泛应用于半导体清洗。
  • 含羟胺稳定溶液半导体清洗制备方法用途

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