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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基于方位角-时差道集的绕射波成像方法及相关设备-CN202210044501.4在审
发明人：李正伟;张剑锋 -专利权人：南方科技大学
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G01V1/28 文献下载
摘要：本发明公开了基于方位角‑时差道集的绕射波成像方法及相关设备，所述方法包括：根据获取到的地震数据生成方位角‑时差道集；基于方位角‑时差道集检测绕射波的所属类型，所属类型为点绕射体产生的点绕射波、断层线绕射体产生的断层绕射波、裂缝线绕射体产生的裂缝绕射波中的至少一种；将点绕射波、断层绕射波和/或裂缝绕射波进行成像处理得到对应的成像结果。本发明中通过基于方位角‑时差道集来检测绕射波的所属类型，确定绕射波是由点绕射体、断层线绕射体和/或裂缝线绕射体产生，并可以得到点绕射波、断层绕射波和/或裂缝线绕射波的成像结果，从而精准地区分出绕射波的所属类型，并且能够得到清晰的绕射波成像结果。
基于方位角时差绕射波成像方法相关设备

[发明专利]波导装置及光学引擎-CN202111312091.9在审
发明人：邓清龙 -专利权人：宏达国际电子股份有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：一种波导装置包含第一绕射元件、第二绕射元件、第三绕射元件以及波导元件。第一绕射元件具有第一光栅。第一光栅配置使一波长的光绕射而以第一绕射角传播。第二绕射元件具有第二光栅。第二光栅配置使该波长的光绕射而以第二绕射角传播。第三绕射元件具有第三光栅以及第四光栅。第三光栅配置使该波长的光绕射而以第一绕射角传播。第四光栅配置使该波长的光绕射而以第二绕射角传播。波导元件配置以导引光由第一绕射元件与第二绕射元件传播至第三绕射元件。藉此，光学引擎所输出的光的强度可以提高至少50％。
波导装置光学引擎

[发明专利]混合式绕射光栅、模具及绕射光栅及其模具的制造方法-CN201210333492.7有效
发明人：柯正浩 -专利权人：台湾超微光学股份有限公司
申请日： 2012-09-11 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：混合式绕射光栅、模具及绕射光栅及其模具的制造方法。绕射光栅包括一本体及一反射层。本体包括多个绕射结构。从本体的一俯视方向来看，所述多个绕射结构排列为一图案，所述图案由相对应的一轮廓图所定义，所述轮廓图定义所述多个绕射结构的多种闪耀角。反射层配置于所述多个绕射结构上，并具有对应于所述多个绕射结构的特征。本发明的实施例使得绕射光栅的设计更具有弹性，能改变各绕射结构的绕射效率曲线，使各绕射结构能分别增强预设波段的绕射效率，进而组合出预设的绕射光栅的整体绕射曲线。
混合式光栅模具及其制造方法

[发明专利]显示装置及液晶显示装置-CN201710011325.3有效
发明人：李汪洋;伍庭毅 -专利权人：微采视像科技股份有限公司
申请日： 2012-03-30 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：显示装置包括一显示器与一绕射光学元件。绕射光学元件配置于显示器的出光侧上。绕射光学元件包括光栅方向的方位角不同的一第一绕射光栅区域与一第二绕射光栅区域。第一绕射光栅区域与第二绕射光栅区域设计以对穿透的光线造成一零阶绕射光和一非零阶绕射光的总合的强度比值低于100。非零阶绕射光具有一出射方向，出射方向相较于原入射方向产生大于15度以上的偏折。
显示装置液晶

[发明专利]光学膜-CN201711481157.0有效
发明人：郭真宽;洪群泰;周盟杰;沈俊男;林孟颉;林佳锋;吴丰旭;郑孟嘉 -专利权人：明基材料有限公司;明基材料股份有限公司
申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明关于一种光学膜，该光学膜包含第一绕射结构层、第二绕射结构层以及覆盖层。该第一绕射结构层的表面具有复数同向排列的第一绕射光栅，该第二绕射结构层填充该第一绕射结构层的该等第一绕射光栅的间隙，并在该第一绕射结构层上形成具有复数同向排列的第二绕射光栅，该等第一绕射光栅与该等第二绕射光栅的排列方向相互平行，该覆盖层形成于该第二绕射结构层的该等第二绕射光栅上，其中，第一绕射结构层、第二绕射结构层与覆盖层中的至少其中之一包含染料，故该光学膜可降低现有液晶显示器于大视角的漏光缺陷，使液晶显示器在各视角具有均匀的暗态画面及色彩画质
光学

[发明专利]绕射波分离方法及装置-CN201811128029.2在审
发明人：林朋;彭苏萍;赵惊涛;崔晓芹 -专利权人：中国矿业大学（北京）
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： G01V1/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种绕射波分离方法及装置，该方法包括：获取待处理区域的频率域地震数据；对频率域地震数据进行奇异值分解，并根据分解后的奇异值进行能量熵计算，得到每个奇异值所对应的能量熵；基于能量熵在奇异值中确定绕射波奇异值，并确定绕射波奇异值所对应的绕射波奇异值向量；基于绕射波奇异值和绕射波奇异值向量确定目标绕射波信号。本发明的方法可以对反射波进行有效的压制，同时保护了绕射波信号，最终得到的目标绕射波信号具有良好的保幅性，分离后得到的绕射波效果好，缓解了现有的绕射波分离方法分离得到的绕射波存在严重失真，分离后得到的绕射波效果不佳的技术问题
绕射能量熵分离方法及装置奇异值向量地震数据频率域奇异值分解处理区域反射波失真压制分解缓解

[发明专利]光学膜-CN201711474433.0有效
发明人：郭真宽;洪群泰;周盟杰;沈俊男;林孟颉;林佳锋;吴丰旭;郑孟嘉 -专利权人：明基材料有限公司;明基材料股份有限公司
申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明关于一种光学膜，该光学膜包括第一绕射结构层、第二绕射结构层以及覆盖层。该第一绕射结构层的表面具有复数同向排列的第一绕射光栅，该第二绕射结构层填充于该第一绕射结构层的该等第一绕射光栅的间隙，并在该第一绕射结构层上形成具有复数同向排列的第二绕射光栅，该等第一绕射光栅与该等第二绕射光栅的排列方向相互平行，且该覆盖层填充并平坦化该第二绕射结构层的该等第二绕射光栅，该光学膜可降低现有液晶显示器于大视角的漏光缺陷，使液晶显示器在各视角具有均匀的暗态画面及色彩画质。
光学

[发明专利]绕射波的提取方法及装置-CN201711038681.0有效
发明人：李闯建;彭苏萍;赵惊涛;杜文凤;崔晓芹 -专利权人：中国矿业大学（北京）
申请日： 2017-10-30 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： G01V1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种绕射波的提取方法及装置，该方法包括：获取地震波的瞬时相位；对瞬时相位进行修正移动顶点拉东变换，得到地质异常体的定位信息；根据定位信息分别提取绕射波的左支和绕射波的右支，得到绕射波。本发明的方法中，能够得到地质异常体位置和对应的均方根速度，得到的绕射波信息更加全面，能够根据定位信息分别提取绕射波的左支和绕射波的右支，使得提取得到的绕射波的左支和绕射波的右支保留了原有的极性，也就是能够恢复绕射波的极性反转特征，获得了高保真的绕射波，以根据绕射波的极性反转特征确定地质异常体的种类，缓解了现有的方法中，获得的绕射波信息不够全面，并且存在严重的失真，无法区分地质异常体种类的技术问题。
绕射波提取方法装置

[发明专利]一种远探测声波测井绕射波分离与成像方法及系统-CN202210397636.9在审
发明人：梁明星;刘东明;翟景红;杨毅;林振洲;李洋 -专利权人：中国地质科学院地球物理地球化学勘查研究所
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： G01V1/48 文献下载
摘要：本发明涉及一种远探测声波测井绕射波分离与成像方法及系统，方法包括：基于多道奇异分析方法对反射数据和绕射数据进行处理，得到分离后的绕射波信号数据；对所述绕射波信号数据分别进行高精度走时估计和倾角域走时校正，得到绕射波成像数据。本发明能够基于多道奇异分析，研究低秩约束下的绕射波分离方法，解决在声波波场反射波能量较强情况下绕射波分离难题，使得分离的绕射波具有波形一致性和完整性；其次，利用绕射波极性和振幅等动力学特征，研究二维角度域绕射波动力学成像机制，提高绕射波成像分辨率。
一种探测声波测井绕射波分离成像方法系统

[发明专利]光学元件-CN202110506229.2在审
发明人：张志圣;蔡孟珂;黄腾德;吕引栋 -专利权人：奇景光电股份有限公司
申请日： 2021-05-10 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种光学元件包括第一基板、形成于第一基板上的第一绕射层、第二基板、形成于第二基板上的第二绕射层以及配置在第一基板与第二基板之间，并连接第一基板与第二基板的接合材料。第二绕射层相对于第一绕射层而配置，而第一绕射层与第二绕射层皆位于第一基板与第二基板之间。一间隙形成在第一绕射层与第二绕射层之间。通过第一绕射层与第二绕射层，光学元件能投射出多个光斑，以应用于脸部辨识。
光学元件

[发明专利]光谱仪、单光仪、绕射光栅及其制造方法与母模制造方法-CN201510521841.1有效
发明人：洪健翔;叶展良 -专利权人：台湾超微光学股份有限公司
申请日： 2015-08-24 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： G01J3/18 文献下载
摘要：本发明公开一种绕射光栅，其包括一基板以及多个绕射结构。这些绕射结构彼此相连，并形成在基板上，各个绕射结构的形状为柱状，这些绕射结构沿着一内凹柱面排列，其中这些绕射结构的轴线沿着内凹柱面的母线延伸，其中沿着垂直于各条轴线的方向对这些绕射结构剖面而得到一剖面轮廓剖面轮廓中所示的各个相连的绕射结构的一顶点的联机为一参考曲线，其具有多个第一反曲点。这些绕射结构用以将一光学讯号分离为多个光谱分量，其中绕射光栅聚焦这些光谱分量于一聚焦面。
光谱仪单光仪光栅及其制造方法

[发明专利]绕射波偏移速度的分析方法及装置-CN201711042298.2有效
发明人：林朋;彭苏萍;赵惊涛;崔晓芹;杜文凤 -专利权人：中国矿业大学（北京）
申请日： 2017-10-30 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： G01V1/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种绕射波偏移速度的分析方法及装置，该方法包括：获取待处理区域的绕射波共成像点道集；对绕射波共成像点道集进行时差校正，得到校正后的绕射波共成像点道集；对校正后的绕射波共成像点道集进行叠加处理，得到绕射波的能量分布图；根据绕射波的能量分布图确定能量最大处对应的目标偏移速度，并将目标偏移速度作为绕射波偏移速度。本发明中的方法，能够对通过改进的波形叠加方法对校正后的绕射波共成像点道集进行叠加处理，得到的绕射波的能量分布图高度聚焦，可以准确的确定能量最大的位置，对应得到的绕射波偏移速度也更加准确，缓解了现有的方法中，获得的绕射波偏移速度准确性差，不利于绕射波高精度成像的技术问题。
绕射波偏移速度分析方法装置

[发明专利]地震数据叠前绕射波分离方法、装置、电子设备及介质-CN202010404906.5在审
发明人：魏巍;刘韬;徐蔚亚;高鸿;张雅勤 -专利权人：中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油勘探开发研究院
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： G01V1/36 文献下载
摘要：本发明公开了地震数据叠前绕射波分离方法、装置、电子设备及介质，该方法包括：对叠前地震数据进行偏移，获得偏移后的叠前地震数据；对偏移后的叠前地震数据进行预测滤波，获得绕射体数据；对绕射体数据进行反偏移，获得叠前绕射波数据本发明的地震数据叠前绕射波分离方法对叠前地震数据进行偏移，再对偏移后的叠前地震数据进行预测滤波，获得绕射体数据，通过对绕射体数据进行反偏移，进而获得叠前绕射波数据，得到相应完整的叠前绕射波，保证了绕射波的成像精度
地震数据叠前绕射波分离方法装置电子设备介质

[发明专利]绕射系数求解方法和装置-CN201811128027.3在审
发明人：柳倩男;彭苏萍;赵惊涛;崔晓芹 -专利权人：中国矿业大学（北京）
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： G01V1/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种绕射系数求解方法及装置，属于地震勘探以及工程地质技术领域。本发明实施例提供的绕射系数求解方法及装置，获取衰减函数作用下的绕射波；将时窗函数与衰减函数相结合，得到加时窗函数的衰减函数；对衰减函数作用下的绕射波进行伽伯变换，得到伽伯域中的绕射波；根据伽伯域中的绕射波和加时窗函数的衰减函数，得到伽伯域中的绕射系数，将伽伯域中的绕射系数转换为时间域中的绕射系数，得到时间域中地下构造地质体的绕射系数，根据伽伯变换原理求解绕射系数，并将改进后的时窗函数引入到衰减函数，可以得到高精度的绕射系数，
绕射衰减函数求解时窗地震勘探时间域方法和装置安全开采地下构造工程地质构造地质系数转换地质体矿产资源引入改进

[发明专利]非球面绕射镜片的模仁及其制造方法-CN200410027765.0无效
发明人：陈杰良 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2004-06-17 - 公布日： 2005-12-21 - 主分类号： G02B3/08 文献下载
摘要：本发明是关于一种非球面绕射镜片的模仁，其包括底材及形成于底材上的绕射光学图案层，该底材具有一非球面曲面，该图案层具有凹凸结构的绕射条纹，其特征在于该图案层的凹凸结构的绕射条纹与预制造的非球面绕射镜片的绕射条纹相反其制造方法包括提供底材、涂布光阻、将绕射光学图案刻于光阻上、对光阻曝光、显影、蚀刻、清洗等步骤。
球面镜片及其制造方法

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