专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种常压等离子自由基清洗系统-CN201210097143.X无效
  • 王守国;贾少霞;赵玲利;杨景华 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-04-05 - 2013-10-23 - B08B7/00
  • 本发明是一种常压等离子自由基清洗系统,包括一台中频等离子发生、一台射频等离子发生、吸片装置、电源系统、移动机械臂、进气系统以及抽气泵。系统运行时,两台等离子发生同时工作,工作气体在流量计的控制下进入到两台等离子发生中,吸片装置固定在一维移动机械臂上,电源接通过后,等离子发生产生的自由基在气流的携带下喷射出来,吸盘装置吸附着硅片,在机械臂的带动下,先从中频高压等离子发生喷口上方扫过,进行预清洗,然后再从射频等离子发生上方扫过,进行细清洗,本发明可用于硅片光刻胶和有机污染物清洗或其他衬底表面的有机污染物的清洗。
  • 一种常压等离子体自由基清洗系统
  • [发明专利]一种基于固体等离子的极化可重构天线-CN201710707437.2有效
  • 董胜波;刘涓;易翀;杨岱旭 - 北京遥感设备研究所
  • 2017-08-17 - 2018-09-07 - H01Q1/36
  • 本发明公开了一种基于固体等离子的极化可重构天线,包括:固体等离子发生阵列(1)、衬底基片(2)、偏置电极(3)、支柱(4)、金属底座(5)、馈线(6)和射频接头(7),其中固体等离子发生阵列(1)由多个固体等离子发生呈辐射状排布或多个同心圆环状排布或两种排布方式相结合而成,衬底基片(2)盖在支柱(4)的上端口;固体等离子发生阵列(1)安装在衬底基片(2)上表面,固体等离子发生阵列(1)下方连接有多个偏置电极(3),馈线(6)上端焊接在固体等离子发生阵列(1)上,下端与固定在金属底座(5)下方的射频接头(7)焊接。
  • 一种基于固体等离子体极化可重构天线
  • [发明专利]一种等离子发生装置-CN202111650642.2在审
  • 陈臻阳;张威;唐电;李斯;杨志权 - 湖南红太阳光电科技有限公司
  • 2021-12-29 - 2023-07-11 - H05H1/46
  • 本发明公开了一种等离子发生装置,包括:微波发生、水冷法兰、等离子反应腔和冷却水套,等离子反应腔两端分别通过水冷法兰与微波发生连接,水冷法兰用于对微波发生上的微波能量输出口进行冷却降温;等离子反应腔内设有铜天线,微波发生通过铜天线将同轴微波传导进入等离子反应腔内;等离子反应腔上开设有多个进气孔和等离子输出孔,进气孔用于向等离子反应腔内输入待电离的工艺气体,等离子输出孔用于将等离子反应腔内电离完成的工艺气体导入工艺腔中;冷却水套安装在等离子反应腔外围,以实现等离子反应腔冷却降温。本发明具有结构紧凑、操作简单、所产生的等离子密度高等优点,适用于大面积的平板式薄膜沉积设备。
  • 一种等离子体发生装置
  • [实用新型]冰箱及其等离子净化组件-CN201621037922.0有效
  • 王传仕;张春生;关鹏;刘兆雷 - TCL家用电器(合肥)有限公司
  • 2016-09-05 - 2017-03-15 - F25D23/12
  • 本实用新型公开一种冰箱及其等离子净化组件,其中,该等离子净化组件包括置物部件和等离子发生,所述置物部件可拆卸地安装在冰箱门或者箱体的内壁上,所述等离子发生设置在所述置物部件上。本实用新型提出的冰箱及其等离子净化组件可产生高能电子以及羟基、自由基等活性基团,这些活性基团具备很强的去除残留农药功效,将等离子发生与冰箱中的置物部件进行整合,不需要在冰箱箱体生产线设置专门的工位来安装等离子发生,提高了产品的生产效率,而且等离子净化组件方便维护和更换。
  • 冰箱及其等离子体净化组件
  • [发明专利]利用等离子处理室中的单频率RF功率处理晶片的系统、设备和方法-CN01816862.0有效
  • A·库蒂;A·费舍尔 - 兰姆研究有限公司
  • 2001-10-05 - 2004-01-14 - H01J37/32
  • 本发明提供一种利用单一频率的RF功率在等离子处理室中处理晶片的系统、设备和方法。等离子处理系统包括调制RF功率发生等离子处理室和匹配网络。设置调制RF功率发生以便产生经调制的RF功率。设置等离子处理室以便接收处理晶片的经调制的RF功率,等离子处理室的特征在于在等离子处理期间的内阻抗。等离子处理室包括在具有静电吸盘的位置处支撑晶片的静电吸盘,静电吸盘包括在晶片之下设置的用于接收经调制的RF功率的第一电极。等离子处理室还包括在晶片之上设置的第二电极。经调制的RF功率产生处理晶片的等离子离子轰击能量。在调制RF功率发生等离子处理室之间耦合匹配网络以便接收经调制的RF功率并将其从调制RF功率发生传输到等离子处理室。匹配网络还构成以至使调制RF功率发生的阻抗与等离子处理室的内阻抗相匹配。
  • 利用等离子体处理中的频率rf功率晶片系统设备方法
  • [实用新型]一种双介质板等离子发生-CN202120370072.0有效
  • 王森杨 - 杭州陆典科技有限公司
  • 2021-02-11 - 2021-09-28 - H05H1/46
  • 本实用新型提供一种双介质板等离子发生,包括等离子发生本体,所述等离子发生本体内壁前侧与后侧均固定连接有介质板,所述介质板表面套设有导电,所述等离子发生本体正面的一侧固定连接有收纳壳,所述等离子发生本体正面设置有靠近收纳壳一侧的清理板本实用新型能够便于将表面粘附的杂质刮落,能够提高电荷散发的稳定性,以解决现有的等离子发生不能将杂质刮落的问题。
  • 一种介质等离子体发生器
  • [发明专利]一种大气压等离子射流装置-CN201911093309.9有效
  • 卢新培;李志宇;刘嘉林;聂兰兰 - 华中科技大学
  • 2019-11-08 - 2021-07-27 - H05H1/00
  • 本发明公开了一种大气压等离子射流装置,包括:电机与绝缘传动装置、电气装置、导电传动装置和等离子发生,电机与绝缘传动装置包括电机和绝缘传动装置,电气装置用于提供高电压、调整电流大小和调节等离子温度以及控制冲击电流与稳定放电;导电传动装置用于将电气装置的高压导入至等离子发生,并将电机与绝缘传动装置的力矩导入等离子发生等离子发生用作放电腔室,等离子发生内产生,并随着气流吹出后等离子流被拉长,形成了大气压条件下各种气体作为工作气体的等离子射流
  • 一种大气压等离子体射流装置
  • [实用新型]制备球形粉末的装置-CN202021180979.2有效
  • 叶高英;古忠涛;谢玉明 - 苏州英纳特纳米科技有限公司
  • 2020-06-23 - 2021-01-26 - B22F9/14
  • 本实用新型公开了一种制备球形粉末的装置,包括:送粉枪、射频等离子发生、球化处理室和急冷室;所述送粉枪连所述接射频等离子发生以使所述送粉枪送出的金属原粉在所述射频等离子发生内经加热形成金属液滴;所述射频等离子发生和所述急冷室分别连接所述球化处理室,所述金属液滴经所述球化处理室进入所述急冷室并形成球形粉末;所述射频等离子发生的朝向球化处理室的下端喷口为外扩的发散喷口,所述射频等离子发生的下端喷口的外周设置有第二冷却回路以对所述射频等离子发生的下端喷口进行冷却
  • 制备球形粉末装置

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