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[发明专利]气体分配装置及等离子体处理装置-CN201911328999.1有效
发明人：杨金全;王晓雯;王兆祥 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种气体分配装置，包括气体挡板及安装基板，气体挡板包括中心气体入口、边缘气体入口、中心气体扩散区域及边缘气体扩散区域，中心气体扩散区域与边缘气体扩散区域之间的区域设置有环形气体通道及环形容纳通道，环形气体通道与环形容纳通道交错设置；安装基板上设置有贯穿安装基板表面的孔道，孔道与中心气体扩散区域、边缘气体扩散区域及环形气体通道相连通；气体自中心气体入口和/或边缘气体入口流入至相应的气体扩散区域并向环形气体通道与环形容纳通道内扩散，于任一环形容纳通道内设置环形密封圈，以限制气体的扩散，从而将气体限制于所需区域的气体扩散区域与通道内，进而进一步使气体释放至对应区域的孔道内。
气体分配装置等离子体处理

[发明专利]环形气体射吸式喷嘴-CN201910771981.2在审
发明人：陈坚;陈闽钢;曾蒙汉 -专利权人：深圳金天洁振能科技有限公司
申请日： 2019-08-21 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： B01F5/04 文献下载
摘要：本发明公开了环形气体射吸式喷嘴包括内筒、中筒、外筒，内筒上设有贯穿筒壁的腔道，内筒的一端设有顶盖并与顶盖固定连接、另一端设有堵头；中筒套接在内筒的外部；外筒套接在中筒的外部，外筒的筒壁上设有低压进气管；本发明极大的改变了高压气体与低压气体的比例，减少了高压气体的耗量，增强了高压气体做功的能力，显著提高了有效能源利用效率，环形喷嘴中筒与外筒都设计成连续移动可调，可任意调节高压气流间隙和混合气体出口间隙，
环形气体射吸式喷嘴

[发明专利]高真空环形气体吸附件-CN202111020054.0在审
发明人：卢宁波 -专利权人：亚达管道系统股份有限公司
申请日： 2021-09-01 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： B01D53/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种高真空环形气体吸附件，包括内管和外管，还包括吸附剂盒，吸附剂盒固定于内管上，且与外管不接触，所述吸附剂盒整体呈环形，所述吸附剂和内设置有真空吸附剂，所述吸附剂盒表面设置有若干通孔，且吸附剂盒上设置有可开启的盖子，本发明适用于真空管道、设备的高真空环型气体吸附器件，其紧贴冷端，实现更高的真空吸附能力，通过气体吸附材料，实现真空双壁管路的真空维持，也降低了安全事故发生的潜在可能。
真空环形气体吸附

[实用新型]双通道环形气体分布装置-CN201420657645.8有效
发明人：文顺清;顾燕新;裴洪敏;康康;尹路;黄剑能;何珍珍;卢炳攀 -专利权人：杭州杭氧股份有限公司
申请日： 2014-11-06 - 公布日： 2015-04-01 - 主分类号： B01D3/16 文献下载
摘要：双通道环形气体分布装置，它包括顶板、引气管、外筒、导流板、内筒、气体分配板，所述外筒与所述顶板、内筒和气体分配板通过焊接组成独立的环形一次气体分布空间，所述外筒与塔体内壁间形成有一个环形气体分布通道；所述引气管与气体进口管同轴布置；所述导流板以塔中心截面为对称面左右对称布置；所述顶板上设置供小部分气体向上运动的、沿圆周均匀分布的升气通道；所述气体分配板位于环形一次气体分布空间的下方，其具体的结构形式为导流板形式或者开设均匀气体分配孔的环板形式
双通道环形气体分布装置

[实用新型]环形气体射吸式喷嘴-CN201921358344.4有效
发明人：陈坚;陈闽钢;曾蒙汉 -专利权人：深圳金天洁振能科技有限公司
申请日： 2019-08-21 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： B01F5/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了环形气体射吸式喷嘴包括内筒、中筒、外筒，内筒上设有贯穿筒壁的腔道，内筒的一端设有顶盖并与顶盖固定连接、另一端设有堵头；中筒套接在内筒的外部；外筒套接在中筒的外部，外筒的筒壁上设有低压进气管本实用新型极大的改变了高压气体与低压气体的比例，减少了高压气体的耗量，增强了高压气体做功的能力，显著提高了有效能源利用效率，环形喷嘴中筒与外筒都设计成连续移动可调，可任意调节高压气流间隙和混合气体出口间隙
环形气体射吸式喷嘴

[外观设计]气体炉环形支锅架-CN91300606.8无效
发明人：黎刚 -专利权人：联邦炉具贸易有限公司
申请日： 1991-03-23 - 公布日： 1991-09-11 - 主分类号： 07-02-C0599 文献下载
摘要：省略右视图。省略俯视图。
气体环形支锅架

[发明专利]冷环形气体收集器-CN201380024722.4有效
发明人： O·特纳;F·茹达斯;M·克雷斯;M·库马尔;J·贝特纳 -专利权人：乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
申请日： 2013-04-12 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： C10J3/76 文献下载
摘要：这些固体借助在顶部和在底部开口的环形裙板(1)从锁中供入固定床(12)中。该裙板(1)包含内部和外部夹套使得形成具有至少一个冷却介质入口和/或出口的冷却间隙。
环形气体收集

[发明专利]气液界面深度测试方法及装置-CN201510923352.9有效
发明人：邓中先;金璐;杨显志;乔沐;黄丽;王喆;沈敏;刘武友;钱秀丽;邓煜桐;朱佳珩;陈乃頔 -专利权人：中国石油天然气股份有限公司
申请日： 2015-12-14 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： E21B47/047 文献下载
摘要：所述方法包括：获取油井环形空间的结构参数；获取第一气体的压力，所述第一气体为待注入所述油井环形空间的气体；获取第二气体的压力，所述第二气体为注入第一气体前所述油井环形空间内的气体，所述第一气体的压力大于所述第二气体的压力；向所述油井环形空间内注入预设体积的第一气体；获取第三气体的压力，所述第三气体为注入预设体积的第一气体后，所述油井环形空间内第一气体和第二气体混合后的气体；根据所述油井环形空间的结构参数、所述第一气体的压力、所述第二气体的压力、所述预设体积和所述第三气体的压力，获取所述油井环形空间内气液界面的深度。
界面深度测试方法装置

[发明专利]一种用于超音速等离子喷涂的环形送粉和气体聚焦装置-CN202110048810.4在审
发明人：刘方圆;余德平;姚进;邱吉尔;张清波;刘宇 -专利权人：四川大学
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： C23C4/134 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于超音速等离子喷涂的环形送粉和气体聚焦装置，包括圆柱形阳极、阳极套筒、送粉环、气体聚焦环、环形端盖以及喷嘴；粉末由环形端盖上的送粉孔注入并通过间距为L3的环形狭缝进入射流通道；聚焦气体由环形端盖上的聚焦气体进气孔注入并通过间距为L4的聚焦气体环形狭缝汇聚到外部射流；送粉环形狭缝与主轴中心线成锐角α；聚焦气体环形狭缝与主轴中心线成锐角β；同一零件上送粉孔、聚焦气体进气孔的母线分别与其相连的送粉环形槽和聚焦气体环形槽的内壁相切；本发明结构简单，无需水冷，能够将粉末沿周向连续均匀地送入射流，减小射流扰动，提高送粉效率以及粉末加热均匀性，并通过聚焦气体避免粉末外溢。
一种用于超音速等离子喷涂环形气体聚焦装置

[实用新型]多床炉-CN200720181234.6无效
发明人：埃米尔·洛纳尔迪;帕特里克·胡特马赫;埃德加·克雷默;保罗·托克尔特 -专利权人：保尔伍斯股份有限公司
申请日： 2007-10-31 - 公布日： 2008-10-22 - 主分类号： F27B1/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多床炉，包括用于其中心炉身(20)和其耙柄(26)的气体冷却系统。该气体冷却系统包括炉身内用于向耙柄供应冷却气体的环形总分配通道(54，54′)和用于排出离开耙柄的冷却气体的中心排气通道(56)。气体冷却系统还包括围绕环形总分配通道并向外由炉身的外壳(50)界定的环形总供应通道(52，52′)。冷却气体入口(44′，44″)连接于该环形总供应通道。环形总供应通道(52，52′)与环形总分配通道(54，54′)之间的冷却气体通路(60′，60″)与冷却气体入口(44′，44″)隔开，以使供应至该冷却气体入口的冷却气体在流经该冷却气体通路进入环形总分配通道(54，54′)前必须穿过多个炉床室(12)流经环形总供应通道(52，52′)。
多床炉

[发明专利]多床炉-CN200880005072.8无效
发明人：埃米尔·洛纳尔迪;帕特里克·胡特马赫;埃德加·克雷默;保罗·托克尔特 -专利权人：保尔伍斯股份有限公司
申请日： 2008-01-31 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： F27B9/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种多床炉，包括用于其中心炉身(20)和其把柄(26)的气体冷却系统。该气体冷却系统包括炉身(20)内用于向把柄(26)供应冷却气体的环形总分配通道(54，54′)和用于排出离开把柄(26)的冷却气体的中心排气通道(56)。气体冷却系统还包括围绕环形总分配通道(54，54′)并由炉身的外壳(50)向外界定的环形总供应通道(52，52′)。冷却气体入口(44′，44″)连接于环形总供应通道(52，52′)。环形总供应通道(52，52′)与环形总分配通道(54，54′)之间的冷却气体通路(60′，60″)与冷却气体入口(44′，44″)隔开，以使供应至冷却气体入口(44′，44″)的冷却气体在流经冷却气体通路(60′，60″)进入环形总分配通道(54，54′)前必须穿过多个炉床室(12)流经环形总供应通道(52，52′)。
多床炉

[实用新型]一种用于超音速等离子喷涂的环形送粉和气体聚焦装置-CN202120097757.2有效
发明人：刘方圆;余德平;姚进;邱吉尔;张清波;刘宇 -专利权人：四川大学
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： C23C4/134 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于超音速等离子喷涂的环形送粉和气体聚焦装置，包括圆柱形阳极、阳极套筒、送粉环、气体聚焦环、环形端盖以及喷嘴；粉末由环形端盖上的送粉孔注入并通过间距为L3的环形狭缝进入射流通道；聚焦气体由环形端盖上的聚焦气体进气孔注入并通过间距为L4的聚焦气体环形狭缝汇聚到外部射流；送粉环形狭缝与主轴中心线成锐角α；聚焦气体环形狭缝与主轴中心线成锐角β；同一零件上送粉孔、聚焦气体进气孔的母线分别与其相连的送粉环形槽和聚焦气体环形槽的内壁相切；本实用新型结构简单，无需水冷，能够将粉末沿周向连续均匀地送入射流，减小射流扰动，提高送粉效率以及粉末加热均匀性，并通过聚焦气体避免粉末外溢。
一种用于超音速等离子喷涂环形气体聚焦装置

[发明专利]恒定剪切的连续式反应器装置-CN201980013710.9有效
发明人：尼古拉斯·乔斯;阿列克谢·拉普金 -专利权人：剑桥企业有限公司
申请日： 2019-02-15 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：本文公开了一种恒定剪切的连续式反应器装置，该反应器装置包括：环形气体输送管，该环形气体输送管包括气体入口和气体出口；第一环形液体输送管，该第一环形液体输送管包括围绕环形气体输送管沿着相同的轴线同中心地布置的第一液体入口和第一液体出口，其中第一液体出口位于相对于气体出口的下游位置处，或者第一液体出口与气体出口一致；以及环形反应器壁管，该环形反应器壁管包括最终液体入口、混合区部分和反应器出口，其中环形反应器壁管围绕第一环形液体输送管沿着相同的轴线同中心地布置
恒定剪切连续反应器装置

[实用新型]气体喷淋头及等离子体处理装置-CN202121829082.2有效
发明人：叶如彬;吴昊 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2021-08-06 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气体喷淋头及等离子体处理装置，所述气体喷淋头包括一具有进气面和出气面的气体分布板，气体分布板为具有一圆心的圆盘形结构，气体分布板上包括若干个环形气体分布区；每一环形气体分布区上设置多个贯穿进气面和出气面的气体通孔，气体通孔至少包括沿圆周方向倾斜一定角度的多个第一气体通孔；气体通孔还包括多个第二气体通孔，第二气体通孔与所述中心轴线平行；第一环形气体分布区，包括若干第一气体通孔；第二环形气体分布区，包括若干第二气体通孔，第一环形气体分布区环绕设置在第二环形气体分布区外围。本实用新型延长了反应气体在晶圆表面的停留时间，提高了反应气体使用效率，改善了刻蚀结果的偏边缺陷。
气体喷淋等离子体处理装置

[发明专利]CO净化装置-CN201611002990.8有效
发明人：碗海鹰;碗山鹰;周歌;王源;李小潞;李芬;田晶;王丽莉 -专利权人：晋城市阿邦迪能源有限公司
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： C01B3/58 文献下载
摘要：本发明为一种CO净化装置，解决了降低重整反应室产生的富氢气体中CO含量的问题。本发明包括上环形腔管、下环形腔管以及连通于上、下环形腔管之间的若干竖管；上环形腔管的右侧端设有气体出口，且在上环形腔管内靠近气体出口的两侧分别设有上隔板；下环形腔管的左侧端设有气体进口，且在下环形腔管内靠近气体进口的两侧分别设有下隔板；上环形腔管、下环形腔管和竖管中设有CO催化剂。本发明CO净化装置设计科学、结构简单、成本低廉，富氢气体能够在CO净化装置内尽可能流经更长距离、停留更长时间的，使得富氢气体与CO净化装置内的CO反应催化剂能够更充分的反应，最终进一步降低富氢气体中CO
co 净化装置

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