专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高速光探测器-CN201480029484.0有效
  • M.G.查辛斯基;N.P.奇蒂卡 - 迈络思科技有限公司
  • 2014-05-21 - 2018-04-13 - H01L31/105
  • 本发明提供一种基于pin的高速光探测器,其包括其中所施加的电场较高的薄光吸收层(102),该薄光吸收层(102)与暴露于低得多的电场漂移层(104)组合。仅具有较高迁移率的电荷载流子将必须行进经过漂移层(104),而具有较低迁移率的电荷载流子将仅行进在小于或至多等于光吸收层(102)的厚度的距离上。漂移层(104)的带隙能量(208)大于光吸收层(102)的带隙能量(206)。较高电场光吸收层到较低电场漂移层的过渡通过分级层(105)实施。漂移层(104)中的电场关于光吸收层(102)的电场的减小通过光吸收层(102)、漂移层(104)和分级层(105)中的掺杂浓度的分布实现。
  • 高速探测器
  • [发明专利]一种IGBT器件-CN202211166946.6在审
  • 祁金伟;刘倩;张耀辉 - 苏州华太电子技术股份有限公司
  • 2022-09-23 - 2023-08-29 - H01L29/06
  • 本申请实施例提供了一种IGBT器件,包括集电极;形成在集电极之上的电场终止层;形成在电场终止层之上的电场过渡层;形成在电场过渡层之上的漂移区,以及形成在漂移区内的多个的柱区;形成在漂移区上方的阱区;其中,电场过渡层的掺杂浓度电场终止层的掺杂浓度,漂移区和电场过渡层分别能够发生电导调制效应积累少数载流子;IGBT器件关断,所述电场过渡层被完全耗尽,电场在所述电场过渡层降低且在所述电场终止层减小至0,电场电场过渡层和电场终止层的交界位置自上而下平滑降低本申请实施例解决了传统的SJ‑IGBT器件在关断过程中关断损耗较大以及电场突变导致器件稳定性不足的技术问题。
  • 一种igbt器件
  • [发明专利]一种IGBT器件及开关电路-CN202211167593.1在审
  • 祁金伟;刘倩;张耀辉 - 深圳市千屹芯科技有限公司
  • 2022-09-23 - 2023-08-01 - H01L29/06
  • IGBT器件包括集电极;形成在所述集电极之上的电场终止层;形成在电场终止层之上的电场过渡层;形成在电场过渡层之上的漂移区,以及形成在漂移区的柱区;形成在漂移区上方的阱区;其中,电场过渡层的掺杂浓度电场终止层的掺杂浓度,漂移区和电场过渡层分别能够发生电导调制效应积累少数载流子;IGBT器件在不同预设工作电压关断时,电场过渡层均被完全耗尽,电场电场过渡层降低且在电场终止层减小至0,IGBT器件的预设工作电压为大于等于
  • 一种igbt器件开关电路
  • [发明专利]一种IGBT器件-CN202211103659.0在审
  • 祁金伟;刘倩;张耀辉 - 苏州华太电子技术股份有限公司
  • 2022-09-09 - 2023-07-21 - H01L29/06
  • 本申请实施例提供了一种IGBT器件,包括集电极;形成在集电极之上的电场终止层;形成在电场终止层之上的电场过渡层;形成在电场过渡层之上的漂移区,以及形成在漂移区内的多个的柱区;形成在漂移区上方的阱区;其中,电场过渡层的掺杂浓度电场终止层的掺杂浓度,漂移区和电场过渡层分别能够发生电导调制效应积累少数载流子;电场过渡层的电荷总量Q小于等于k%×Ec/εs使得IGBT器件关断,所述电场过渡层被完全耗尽,电场在所述电场过渡层降低且在所述电场终止层减小至0。k%为最小预设工作电压条件下电场强度占临界击穿电场强度的百分比。本申请实施例解决了传统的SJ‑IGBT器件关断能量损耗较大的技术问题。
  • 一种igbt器件
  • [发明专利]快恢复二极管-CN202210967302.0在审
  • 吴小利;王海军 - 上海擎茂微电子科技有限公司
  • 2022-08-12 - 2022-10-11 - H01L29/06
  • 本发明公开了一种快恢复二极管,包括:第一导电类型重掺杂的第一电极区、第二导电类型重掺杂的第二电极区,位于第一和第二电极区之间的第二导电类型掺杂的漂移区。在漂移区中插入有第二导电类型掺杂的电场阻滞层并将漂移区分割成第一和第二漂移子层。电场阻滞层的掺杂浓度大于漂移区的掺杂浓度,漂移区耗尽时电场阻滞层内的电场强度的快速变化使第二漂移子层中的第二电场强度范围和第一漂移子层中的第一电场强度范围之间的差值增加,使快恢复二极管在反向恢复过程中电流随时间的变化速率减慢
  • 恢复二极管
  • [发明专利]电场放射型电子源-CN200610004888.1无效
  • 菰田卓哉;本多由明;相泽浩一;栎原勉;渡部祥文;幡井崇;马场彻 - 松下电工株式会社
  • 2001-10-26 - 2006-08-30 - H01J1/30
  • 一种电场放射型电子源(10),在由玻璃衬底构成的绝缘性衬底(11)的上侧设置有:由导电性层构成的下部电极(8);含有由氧化或氮化的多孔性半导体构成的漂移部(6a)的强电场漂移层(6);由金薄膜构成的表面电极而且,外加电压使表面电极(7)相对于下部电极(8)成为正极,并使从下部电极(8)注入强电场漂移层(6)的电子在强电场漂移层(6)中漂移,通过表面电极(7)放射到外部。在下部电极(8)和强电场漂移层(6)之间设置有由n层(21)和p层(22)构成的pn结半导体层,据此,就能防止漏泄电流从下部电极(8)流向表面电极(7),从而降低耗电量。
  • 电场放射电子
  • [发明专利]电场放射型电子源-CN200610004886.2无效
  • 菰田卓哉;本多由明;相泽浩一;栎原勉;渡部祥文;幡井崇;马场彻 - 松下电工株式会社
  • 2001-10-26 - 2006-08-30 - H01J1/30
  • 一种电场放射型电子源(10),在由玻璃衬底构成的绝缘性衬底(11)的上侧设置有:由导电性层构成的下部电极(8);含有由氧化或氮化的多孔性半导体构成的漂移部(6a)的强电场漂移层(6);由金薄膜构成的表面电极而且,外加电压使表面电极(7)相对于下部电极(8)成为正极,并使从下部电极(8)注入强电场漂移层(6)的电子在强电场漂移层(6)中漂移,通过表面电极(7)放射到外部。在下部电极(8)和强电场漂移层(6)之间设置有由n层(21)和p层(22)构成的pn结半导体层,据此,就能防止漏泄电流从下部电极(8)流向表面电极(7),从而降低耗电量。
  • 电场放射电子
  • [发明专利]电场放射型电子源-CN200610004887.7无效
  • 菰田卓哉;本多由明;相泽浩一;栎原勉;渡部祥文;幡井崇;马场彻 - 松下电工株式会社
  • 2001-10-26 - 2006-08-30 - H01J1/30
  • 一种电场放射型电子源(10),在由玻璃衬底构成的绝缘性衬底(11)的上侧设置有:由导电性层构成的下部电极(8);含有由氧化或氮化的多孔性半导体构成的漂移部(6a)的强电场漂移层(6);由金薄膜构成的表面电极而且,外加电压使表面电极(7)相对于下部电极(8)成为正极,并使从下部电极(8)注入强电场漂移层(6)的电子在强电场漂移层(6)中漂移,通过表面电极(7)放射到外部。在下部电极(8)和强电场漂移层(6)之间设置有由n层(21)和p层(22)构成的pn结半导体层,据此,就能防止漏泄电流从下部电极(8)流向表面电极(7),从而降低耗电量。
  • 电场放射电子
  • [发明专利]电场放射型电子源-CN01801858.0无效
  • 菰田卓哉;本多由明;相泽浩一;栎原勉;渡部祥文;幡井崇;马场彻 - 松下电工株式会社
  • 2001-10-26 - 2002-12-04 - H01J1/30
  • 一种电场放射型电子源(10),在由玻璃衬底构成的绝缘性衬底(11)的上侧设置有由导电性层构成的下部电极(8);含有由氧化或氮化的多孔性半导体构成的漂移部(6a)的强电场漂移层(6);由金薄膜构成的表面电极而且,外加电压使表面电极(7)相对于下部电极(8)成为正极,并使从下部电极(8)注入强电场漂移层(6)的电子在强电场漂移层(6)中漂移,通过表面电极(7)放射到外部。在下部电极(8)和强电场漂移层(6)之间设置有由n层(21)和p层(22)构成的pn结半导体层,据此,就能防止漏泄电流从下部电极(8)流向表面电极(7),从而降低耗电量。
  • 电场放射电子
  • [发明专利]一种半导体装置-CN201610628271.0在审
  • 朱江 - 朱江
  • 2016-07-31 - 2018-02-06 - H01L29/06
  • 本发明公开了一种半导体装置,包括不同导电材料交替排列形成的漂移层,在漂移层中设置沟槽,在沟槽内填充导电材料;与现有技术相比,改变漂移层中的电场分布,抑制器件上下峰值电场,增加器件中部电场波动,降低器件的导通电阻
  • 一种半导体装置
  • [发明专利]一种IGBT器件-CN202211103640.6在审
  • 祁金伟;刘倩;张耀辉 - 苏州华太电子技术股份有限公司
  • 2022-09-09 - 2023-07-21 - H01L29/06
  • 本申请实施例提供了一种IGBT器件,包括第一掺杂类型的集电极;形成在集电极之上的第二掺杂类型的电场终止层;形成在电场终止层之上的第二掺杂类型的电场过渡层;形成在电场过渡层之上的第二掺杂类型的漂移区,以及形成在漂移区内的多个第一掺杂类型的柱区;形成在漂移区上方的第一掺杂类型的阱区;电场过渡层的掺杂浓度电场终止层的掺杂浓度,漂移区和电场过渡层分别能够发生电导调制效应积累少数载流子;IGBT器件关断,电场过渡层被完全耗尽,电场电场过渡层降低且在所述电场终止层减小至
  • 一种igbt器件
  • [发明专利]一种半导体器件-CN202211167575.3在审
  • 祁金伟;刘倩;张耀辉 - 深圳市千屹芯科技有限公司
  • 2022-09-23 - 2023-08-01 - H01L29/06
  • 本申请实施例提供了一种半导体器件,包括第一半导体层;形成在第一半导体层之上的电场终止层;形成在电场终止层之上的电场过渡层;形成在电场过渡层之上的漂移区,形成在漂移区内的柱区;形成在漂移区上方的第二半导体层;电场过渡层的掺杂浓度电场终止层的掺杂浓度,漂移区和电场过渡层分别能够发生电导调制效应积累少数载流子;电场过渡层的电荷总量Q满足预设条件使得半导体器件关断,电场过渡层被完全耗尽,电场在所述电场过渡层降低且在电场终止层减小至0,电场过渡层的电荷总量Q满足的预设条件为小于等于k%×Ec/εs。
  • 一种半导体器件

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