专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]清洗真空处理设备的方法-CN96110701.4无效
  • 小川博 - 日本电气株式会社
  • 1996-05-24 - 2000-07-19 - C23F4/00
  • 按照真空处理设备的清洗方法,在真空处理设备的处理室中,用含有原子的团的气体对形成于半导体基片上并覆盖有抗蚀图形的铝薄膜进行蚀刻,之后,在处理室中产生由混合气体稀释而成的已稀释气体的等离子体,所述混合气体由含有氧原子团的气体、含有氟原子团的气体和含有原子团的气体构成,从而除去了剩余反应产物。
  • 清洗真空处理设备方法
  • [发明专利]含氟处理剂组合物-CN200580037177.8无效
  • 山本育男;南晋一 - 大金工业株式会社
  • 2005-10-27 - 2007-10-31 - C08L33/16
  • 本发明提供一种含氟处理剂组合物,该组合物含有(A)和(B),(A)含氟氨基甲酸酯化合物;(B)具有由式(I)表示的含氟单体所衍生的重复单元的含氟聚合物,式(I)中,X是氟原子原子、溴原子、碘原子、CFX1X2基团、氰基、碳原子数为1~20的直链状或支链状氟代烷基、取代或无取代的苄基、取代或无取代的苯基,其中,CFX1X2基团中的X1和X2为氢原子、氟原子原子;A是2价基团;Rf是碳原子数为1~6的直链状或支链状全氟烷基。
  • 处理组合

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