专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果927146个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种提取火龙果色素的新工艺-CN202010758317.7在审
  • 黄科瑞;朱正杰;杨郑州 - 百色学院
  • 2020-07-31 - 2020-10-30 - C09B61/00
  • 本发明涉及一种提取火龙果色素的新工艺,具体包括以下步骤:清洗切片;干燥保存;确定检测提取色素吸光度的最佳波长;选择最佳溶剂;获取最佳工艺条件最佳果肉色素提取工艺条件为:提取时间52分钟、乙醇浓度34%本发明的有益效果是:使用了一种最经济,最简便的方式进行提取,能更有效的吸收果肉中的色素,提取溶剂不但价格便宜,而且对人无害,是很实用的一种提取方式,应用响应曲面法,不但优化了红肉火龙果进行色素提取的条件,得出最佳的提取红肉火龙果的果肉色素工艺,而且大大缩减了试验次数,简化了试验方法。
  • 一种提取火龙果色素新工艺
  • [发明专利]信息处理系统、信息处理方法、和信息处理装置-CN201110165301.6无效
  • 白木寿一 - 索尼公司
  • 2011-06-13 - 2011-12-21 - G06T1/20
  • 该信息处理装置包括:图形处理单元,其能够将对图像的处理划分为多个线程,并执行对图像的处理;确定部,被配置为搜索图形处理单元能够用来在给定的图像处理条件下以最高速度执行处理的线程参数,并将该线程参数确定为最佳线程参数;传输部,被配置为建立图像处理条件和确定部所确定的最佳线程参数之间的对应关系,并经由传输线将图像处理条件最佳线程参数累积在数据库中;以及设置部,被配置为经由传输线从数据库获取最佳线程参数,并将最佳线程参数设置到图形处理单元
  • 信息处理系统方法装置
  • [发明专利]光学记录介质以及在其上记录/再现数据的方法和设备-CN200710146546.8无效
  • 李坰根;黄郁渊 - 三星电子株式会社
  • 2005-04-22 - 2008-01-16 - G11B7/007
  • 提供了一种光学记录介质,一种将数据记录在光学记录介质上/从光学记录介质再现数据的方法,和一种将数据记录在光学记录介质/从光学记录介质再现数据的设备,以使用于光学记录介质的最佳记录/再现条件能够被快速确定光学记录介质包括参考信号区,参考信号基于为最佳地将数据记录在光学记录介质/从光学记录介质再现数据而确定的最佳记录条件记录在其中。因此,一旦当光学记录介质第一次被装入盘驱动器时参考信号被记录在光学记录介质的导入区或导出区的预定部分中,而后用于光学记录介质的最佳记录/再现条件能够被快速确定而无需另外地执行最佳功率控制(OPC)。
  • 光学记录介质以及再现数据方法设备
  • [发明专利]光学记录介质以及在其上记录/再现数据的方法和设备-CN200510064791.5无效
  • 李坰根;黄郁渊 - 三星电子株式会社
  • 2005-04-22 - 2005-11-02 - G11B7/00
  • 提供了一种光学记录介质,一种将数据记录在光学记录介质上/从光学记录介质再现数据的方法,和一种将数据记录在光学记录介质/从光学记录介质再现数据的设备,以使用于光学记录介质的最佳记录/再现条件能够被快速确定光学记录介质包括参考信号区,参考信号基于为最佳地将数据记录在光学记录介质/从光学记录介质再现数据而确定的最佳记录条件记录在其中。因此,一旦当光学记录介质第一次被装入盘驱动器时参考信号被记录在光学记录介质的导入区或导出区的预定部分中,而后用于光学记录介质的最佳记录/再现条件能够被快速确定而无需另外地执行最佳功率控制(OPC)。
  • 光学记录介质以及再现数据方法设备
  • [发明专利]一种纳米压印工艺的优化方法-CN201310552766.6在审
  • 王晶 - 无锡英普林纳米科技有限公司
  • 2013-11-08 - 2014-02-12 - G06F17/30
  • 本发明公开了一种纳米压印工艺的优化方法,包括如下步骤:(1)选取影响纳米压印工艺的因素,每个因素设置相应水平;(2)在设定的因素条件下进行纳米压印实验,记录实验结果;(3)利用多因素方差分析方法对实验结果进行分析;(4)根据分析结果选择最佳水平组合,确定最佳的纳米压印条件。本发明提供的纳米压印工艺的优化方法利用数理统计方法,简单易行,科学精确,能快速确定最佳的纳米压印条件,提高纳米压印的效率。
  • 一种纳米压印工艺优化方法
  • [发明专利]较佳操作条件检出方法-CN200610072356.1无效
  • 蔡昇龙 - 精碟科技股份有限公司
  • 2006-04-14 - 2007-10-17 - G11B7/26
  • 本发明是有关于一种较佳操作条件检出方法,包括下列步骤:输入复数组操作条件至一编码机;由编码机依据复数组操作条件控制一刻板机分别刻蚀一玻璃基板的复数个区域;检测该等区域以得到相对应的复数个检测结果;以及依据该等检测结果取得一组最佳的操作条件本发明依据复数个操作条件同时刻蚀于玻璃基板上的复数个区域,故在刻蚀后,可经由一次检测,就可得到依据不同操作条件形成的各区域的检测结果,并比较各检测结果而得到最佳操作条件,如此不但可以节省制造成本,提高玻璃基板的使用率,并可以有效缩短检测次数,进而能减低制作及检测时间,而可以在短时间内得到最佳操作条件,非常适于实用。
  • 操作条件检出方法
  • [发明专利]操作条件设置系统-CN200580000182.1无效
  • 渡边敦;堀米顺一;永田真义;西野正俊;情野进;内田贤宏 - 索尼株式会社
  • 2005-02-22 - 2006-05-10 - G11B7/0045
  • 本发明可以设置操作条件,该条件对于任何种类的记录介质来说,即使在记录介质与任何种类的驱动设备组合的情况下,也能够获得最佳记录特性。根据本发明,即使在未知新类型的记录介质被加载到驱动设备中的情况下,也可从记录介质的特定只读区域中读取一条适用于驱动设备和该新类型的记录介质的组合的光学系统的第一操作条件信息,并利用该第一操作条件信息来设置能够获得最佳操作特性的操作条件,结果,即使在任何种类的记录介质和任何种类的驱动设备相组合的情况下,也可在驱动设备中设置对于记录介质而言能够获得最佳记录特性的操作条件
  • 操作条件设置系统

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top