专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种导电膜的热处理装置-CN201320634735.0有效
  • 杜成城;刘比尔 - 汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司
  • 2013-10-15 - 2014-04-02 - H01B13/00
  • 技术方案要点:特征包括、加热和收,所述与加热之间由带有缝口的隔板隔开,加热与收之间由带有缝口的收隔板隔开,安装有机构、加热设有若干加热器、收安装有收机构,导电膜从机构输出、从隔板的缝口进入加热进行加热、然后从收隔板的缝口进入为收机构所收,若干加热器排列分布在加热的前侧、底侧和后侧,导电膜在加热室内是以自然悬垂状态从所述加热器的加热面外侧输送经过
  • 一种导电热处理装置
  • [实用新型]一种卷绕式镀膜机-CN202120876055.4有效
  • 佘自力 - 深圳市新邦薄膜科技有限公司
  • 2021-04-26 - 2022-01-28 - C23C14/56
  • 本实用新型适用于镀膜机设备技术领域,提供了一种卷绕式镀膜机,所述镀膜机包括:,其内设有辊;收,其内设有收辊;以及镀膜,安装于与收之间,用于对镀膜基材进行镀膜;所述镀膜机还包括:第一前处理,安装于与镀膜之间;以及第二前处理,设置于镀膜与收之间;所述第一前处理和第二前处理室内均安装有前处理装置;通过在与镀膜之间以及镀膜与收之间设置用于安装前处理装置的第一前处理和第二前处理,避免镀膜前处理点直接设置在、收或镀膜上,导致工艺气体污染镀膜其他溅射阴极,以及占用了沉积阴极安装空间的问题。
  • 一种卷绕镀膜
  • [实用新型]一种退架的进料装置-CN201720117996.3有效
  • 葛锦琦 - 绍兴锦森印染有限公司
  • 2017-02-08 - 2017-09-15 - B65H19/12
  • 本实用新型公开了一种退架的进料装置,包括架,所述架沿布传输方向的一侧设有放置板,所述放置板倾斜设置用于使布朝向所述架滚动,所述的放置板与所述的架之间设有供单个布容置的腔,所述的腔下方铰接固定座,所述的固定座与所述的腔之间设有驱动所述腔将布从所述放置板传输至所述架的驱动件。本实用新型具有以下优点和效果本方案利用新机械结构,通过放置板的设置用于放置若干的布,并将放置板设置为朝向架的方向倾斜设置,使得布能朝向架移动,并在放置板与架之间设置腔,通过腔用于实现单个布在放置板与架之间的传输
  • 一种退卷机放卷架进料装置
  • [实用新型]一种连续翻卷机-CN202021060715.3有效
  • 刘春晖;张艳;李锦华;赵相贤 - 科纺勒特种纺织品(太仓)有限公司
  • 2020-06-10 - 2021-03-05 - B65H23/26
  • 本实用新型公开了一种连续翻卷机,该连续翻卷机包括机构、翻卷机构和收机构,机构包括架和辊,多个辊平行间隔设置于架上,辊能够绕自身轴线旋转运动,以用于玻璃纤维布;翻卷机构相邻设置于机构的一侧,翻卷机构包括烘干、翻卷辊、烘干装置和导布辊,翻卷辊设置于烘干的入口并与辊平行,翻卷辊用于将的玻璃纤维布由入口引导入烘干,烘干装置设置于烘干室内,烘干装置用于烘干玻璃纤维布,导布辊设置于烘干的出口并与翻卷辊平行,导布辊用于将烘干的玻璃纤维布由出口引出烘干;收机构相邻设置于翻卷机构远离机构的一侧,收机构用于牵引收玻璃纤维布并卷成布
  • 一种连续翻卷
  • [发明专利]立式磁控镀膜装置-CN201310196343.5有效
  • 谢建军 - 深圳市生波尔机电设备有限公司
  • 2013-05-24 - 2013-09-11 - C23C14/56
  • 发明公开了一种立式磁控镀膜装置,包括:镀膜,镀膜的一端连接设有一室内设有辊轴为竖直方向设置的辊和导向辊;镀膜的另一端连接设有一收,收设有辊轴为竖直方向设置的收辊和第一导向辊;镀膜的侧壁上设置有磁控溅射靶,磁控溅射靶的靶面为竖直方向设置,并与柔性基片所在面平行;与镀膜、镀膜与收间分别设有通过柔性基片的狭缝;、镀膜、收分别设有独立的抽气系统。本发明所提供的装置,可防止杂质气体污染镀膜,以保证膜层不受杂质污染;同时可防止体内产生的细小粉尘及颗粒落入柔性基片表面和磁控溅射靶的靶面上,避免了膜层出现针孔现象,保证了膜层的质量。
  • 立式镀膜装置

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