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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种磁控反应溅射工艺气体布气装置及布气方法-CN202210529932.X在审
发明人：佘自力 -专利权人： 深圳市新邦薄膜科技有限公司
申请日： 2022-05-16 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控反应溅射工艺气体布气装置及布气方法，其包括有腔室，待溅射的基板位于腔室的顶部开口处，腔室内气体导流罩，气体导流罩内设有阴极靶，气体导流罩的上方开口处设有上布气管和下布气管，上布气管和下布气管分别用于向腔室内注入反应气体和溅射离子气体。本发明将反应气体和溅射离子气体由不同布气管进行输送和分布，同时在镀膜腔室内安装有特别设计的气体导流罩，用于改变反应气体在溅射区的分布，使反应气体在靶表面区域分布密度接近于零，同时最大分布密度在靠近镀膜基表面区域A。相比现有技术而言，本发明能改变反应气体在溅射区的分布，从而减低反应气体在靶表面区域分布密度，较好地满足了应用需求。
一种反应溅射工艺气体装置方法

[实用新型]一种卷绕式双面镀膜机结构-CN202220221914.0有效
发明人：佘自力 -专利权人： 深圳市新邦薄膜科技有限公司
申请日： 2022-01-26 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及镀膜结构技术领域，尤其是一种卷绕式双面镀膜机结构，包括外壳、薄膜以及多块分离隔板，所述放卷室、第一镀膜室、第二镀膜室以及收卷室的连接处安装有薄膜传送量与速度控制室，所述薄膜传送量与速度控制室的内部安装有张力控制器，所述第二镀膜室与收卷室之间分离隔板上开设有方形孔，所述薄膜分别贯穿所述放卷室、第一镀膜室、第二镀膜室以及收卷室。本实用新型分隔隔板在真空腔体内起强度支撑作用；各功能区之间，由于薄膜材料在镀膜过程中会产生收缩，因此，为保证薄膜传输的平稳，放卷速度、主辊的传送速度、主辊的传送速度、收卷速度，必须要根据薄膜材料的收缩情况设置和控制。
一种卷绕双面镀膜结构

[实用新型]一种卷绕式镀膜设备用隔离阀-CN202120881968.5有效
发明人：佘自力 -专利权人： 深圳市新邦薄膜科技有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种卷绕式镀膜设备用隔离阀，属于镀膜设备技术领域，本实用新型包括下闸板，固定安装在真空腔室内部，用于承载镀膜，包括上闸板，转动连接在所述下闸板上，用于活动封闭与所述下闸板之间的间隙，包括橡胶膜组件，布设在所述下闸板和所述上闸板之间，用于气体的密封，还包括驱动组件，与所述上闸板活动相连，用于驱动上闸板的转动。本实用新型利用启闭气动阀上下移动实现狭缝式阀门的开闭，以实现闭合后将薄膜夹在阀体中间，并实现对大气的良好密封。
一种卷绕镀膜备用隔离

[实用新型]一种卷绕式镀膜机-CN202120876055.4有效
发明人：佘自力 -专利权人： 深圳市新邦薄膜科技有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型适用于镀膜机设备技术领域，提供了一种卷绕式镀膜机，所述镀膜机包括：放卷室，其内设有放卷辊；收卷室，其内设有收卷辊；以及镀膜室，安装于放卷室与收卷室之间，用于对镀膜基材进行镀膜；所述镀膜机还包括：第一前处理室，安装于放卷室与镀膜室之间；以及第二前处理室，设置于镀膜室与收卷室之间；所述第一前处理室和第二前处理室内均安装有前处理装置；通过在放卷室与镀膜室之间以及镀膜室与收卷室之间设置用于安装前处理装置的第一前处理室和第二前处理室，避免镀膜前处理点直接设置在放卷室、收卷室或镀膜室上，导致工艺气体污染镀膜室其他溅射阴极，以及占用了沉积阴极安装空间的问题。
一种卷绕镀膜

[发明专利]一种分光薄膜真空磁控镀膜方法-CN202110464164.X在审
发明人：李亦龙 -专利权人： 深圳市新邦薄膜科技有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种分光薄膜真空磁控镀膜方法，属于真空镀膜领域。本发明的一种分光薄膜真空磁控镀膜方法，采用真空磁控溅射卷绕式镀膜机，以金属铌靶(NbOx)、硅靶(Si)作为溅射靶材，采用特定的溅射膜层叠层顺序和膜层厚度，能够生产0.2mm膜层厚度以下的分光薄膜，并且独特的膜层结构设计使生产的分光薄膜具有特殊的分光功能。本发明的一种分光薄膜真空磁控镀膜方法，工艺稳定性高、产品达标率高，能够实现较薄分光薄膜的规模化生产。
一种分光薄膜真空镀膜方法

[发明专利]一种高亮银色多介质薄膜真空磁控溅射制备工艺-CN202110456659.8在审
发明人：李亦龙 -专利权人： 深圳市新邦薄膜科技有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种高亮银色多介质薄膜真空磁控溅射制备工艺，属于真空镀膜领域。本发明的一种高亮银色多介质薄膜真空磁控溅射制备工艺，采用真空磁控溅射卷绕式镀膜机，以金属铌靶(NbOx)、硅靶(Si)、铟靶(In)、钛靶(Ti)作为溅射靶材，采用特定的溅射膜层叠层顺序和膜层厚度，实现高亮银色多介质薄膜的生产，提升薄膜的金属质感和银白色亮度效果，其中增加的金属保护层还能增加本发明的一种高亮银色多介质薄膜的耐腐蚀、耐高温高湿、耐低温等功能性效果，扩展其应用场景，并延长其使用寿命。
一种银色介质薄膜真空磁控溅射制备工艺

[发明专利]一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法-CN202110452009.6在审
发明人：佘自力;张勇;张军 -专利权人： 深圳市新邦薄膜科技有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法，属于真空镀膜领域。本发明的一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法，将Cu沉积和Ar离子轰击作为一个沉积单元，重复3～5次即可完成超过600nm厚度铜膜的镀层，Ar离子轰击可以有效促进铜离子(粒子(原子或原子团))成膜，并降低成膜过程中的缺陷，保证了铜膜导电率和与基底的附着力。本发明的一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法尤其适用于工程塑胶类基材上导电线路所需的铜膜镀层生产，可广泛应用于电子型(信)号传输、芯片承载等电子产品生产。
一种真空溅射连续沉积镀铜方法

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