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[发明专利]用于监控CMP抛光方法的方法和用于CMP抛光方法的装置-CN200510128952.2无效
发明人： C·鲁多尔夫;H·德鲁默;A·勒布曼;C·塔尔多夫 -专利权人：因芬尼昂技术股份公司
申请日： 2005-12-02 - 公布日： 2006-06-07 - 主分类号： B24B39/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于监控CMP抛光方法的方法，其中衬底被固定在保持器中，其中抛光布被固定在盘上，其中抛光布的表面与衬底的表面处于有效连接中，其中使抛光布和衬底彼此相对地运动，使得从衬底的表面剥蚀材料。设置有与抛光布的表面处于有效连接中的测量设备，其中测量设备检测抛光布的表面特性并生成依赖于抛光布的表面特性的测量信号。为了识别在CMP抛光方法期间衬底表面的材料变化，将测量信号与相应的参考值进行比较。
用于监控 cmp 抛光方法装置

[发明专利]一种抛光机转轴及使用该转轴的抛光机-CN201710594953.9在审
发明人：高素忠;皮文杰;石斌 -专利权人：石家庄聚力特机械有限公司
申请日： 2017-07-20 - 公布日： 2017-09-29 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光机转轴及使用该转轴的抛光机，抛光机转轴包括轴体以及抛光装置，所述抛光装置包括螺栓、设置在螺栓上的两个以上的抛光布以及设置在螺栓上用于将抛光布压紧的压紧螺母；抛光机包括移动机架、设置在移动机架上的滚筒、设置在滚筒内的筛网、设置在筛网内的抛光机转轴、与滚筒连通的风机以及除尘斗；本发明通过螺栓将多块抛光布固定在轴体上，这样每块抛光布的折叠次数可以大大减少，避免了抛光布因为折叠次数过多变硬而导致物料破损的问题抛光布采用螺栓串接在一起，可增加棉布的层数，同时压紧螺母与螺栓头压紧后，抛光布由于受力会发生变形将螺栓头与压紧螺母包裹，螺栓头与压紧螺母不会暴露在外面，避免与物料直接碰撞。
一种抛光机转轴使用

[发明专利]可更换内套的竖摆列方式的抛光布麻轮-CN201611052353.1在审
发明人：马专利 -专利权人：马专利
申请日： 2016-11-25 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： B24D13/20 文献下载
摘要：本发明涉及的可更换内套的竖摆列方式的抛光布麻轮，包括塑料组合外框，其特征在于，包括折叠U型全布抛光页、折叠U型剑麻抛光页和可换式内芯，若干条折叠U型全布抛光页和折叠U型剑麻抛光页以定位孔为中心沿放射方向紧密分布，通过注塑方式注塑出塑料组合外框，并且注塑塑料融入折叠U型全布抛光页和折叠U型剑麻抛光页中，将塑料组合外框与折叠U型全布抛光页和折叠U型剑麻抛光页连为一体；通过本技术方案，在折叠U型全布抛光页和折叠成U型剑麻抛光页的组合下，在抛光作业中增大抛光的接触面，使得其抛打带有胶水的木板效果很好，表面干净不黏胶，采用竖摆列方式有效的延长抛光布麻轮的使用寿命。
抛光折叠剑麻抛光布麻轮外框可更换塑料内套注塑可换式内芯紧密分布抛光作业使用寿命注塑方式注塑塑料胶水定位孔黏胶放射木板融入

[实用新型]一种抛光机转轴及使用该转轴的抛光机-CN201720883052.7有效
发明人：高素忠;皮文杰;石斌 -专利权人：石家庄聚力特机械有限公司
申请日： 2017-07-20 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及抛光机转轴及使用该转轴的抛光机，抛光机转轴包括轴体以及抛光装置，抛光装置包括螺栓、设置在螺栓上的两个以上的抛光布以及设置在螺栓上用于将抛光布压紧的压紧螺母；抛光机包括移动机架、设置在移动机架上的滚筒、设置在滚筒内的筛网、设置在筛网内的抛光机转轴、与滚筒连通的风机以及除尘斗；本实用新型通过螺栓将多块抛光布固定在轴体上，这样每块抛光布的折叠次数可以大大减少，避免了抛光布因为折叠次数过多变硬而导致物料破损的问题抛光布采用螺栓串接在一起，可增加棉布的层数，同时压紧螺母与螺栓头压紧后，抛光布由于受力会发生变形将螺栓头与压紧螺母包裹，螺栓头与压紧螺母不会暴露在外面，避免与物料直接碰撞。
一种抛光机转轴使用

[发明专利]抛光布轮的磨损检测及补偿方法-CN201911297807.5在审
发明人：陈志辉 -专利权人：佛山市后浪科技有限公司
申请日： 2019-12-14 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： B24B49/10 文献下载
摘要：本发明涉及打磨抛光技术领域，具体公开了一种抛光布轮的磨损检测及补偿方法，其特征在于：包括以下步骤通过检测驱动抛光布轮主轴电机的电流，并以检测出的电流与预设的基准电流进行比较，得出比较值，根据得出的比较值确定当前抛光布轮是否磨损；根据磨损前抛光布轮的直径Φ0与磨损后抛光布轮的直径Φ1比对的差值得出空间上各个方向的补偿量,同时通过数控抛光设备相应的改变抛光布轮线速度，以实现位置及线速度补偿。本发明的抛光布轮的磨损检测及补偿方法，不会受到轴的尺寸影响和限制；同时也不需要额外的传感器，不会受到抛光粉尘以及布轮形状大小的影响，能够大大提高设备的可靠性。
抛光磨损检测补偿方法

[实用新型]叠式精抛光布轮-CN93214744.5无效
发明人：钟均成 -专利权人：中山市小榄镇顺成塑料五金综合厂
申请日： 1993-05-28 - 公布日： 1994-11-23 - 主分类号： B24B21/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种叠式精抛光布轮，由固定夹、定心板、布轮等组成。固定夹可把布轮的内径锁紧，而布轮制成层叠式，其纹路在不同角度上叠加，且为开式结构，从而使蜡可持久地保留在布轮上，抛光时柔性极好，无抛光痕。本实用新型抛光精度高，效果好，结构牢固耐用，布轮不易散口，可取代现有的抛光布轮。
叠式精抛光

[实用新型]精磨抛光皮及抛光设备-CN202122409214.2有效
发明人：汪福安;张围祥 -专利权人：东莞市鸿昱精密电子科技有限公司
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种精磨抛光皮及抛光设备，其包括：聚氨酯发泡层；设于聚氨酯发泡层一侧的阻尼布层，阻尼布层包括抛光面，抛光面设有凹槽，凹槽的深度为0.2mm到0.4mm；用于固定抛光皮的魔术贴层；阻尼布层的硬度为25±5HC，精磨抛光皮的厚度为7.5±1mm，精磨抛光皮为圆形，其直径为150±1mm；抛光皮安装在抛光设备上，抛光设备包括钩布层，魔术贴层为绒布层，绒布层与钩布层可拆卸连接。与现有技术相比，本申请中的抛光皮可对产品表面进行纳米级的抛光，达到光洁的镜面，从而保证抛光效果。
抛光设备

[实用新型]透明导电膜层抛光装置-CN200620057485.9无效
发明人：金弼 -专利权人：深圳南玻显示器件科技有限公司
申请日： 2006-04-03 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种透明导电膜层抛光装置，包括基板固定盘、抛光布固定件、抛光布和驱动机构，抛光布固定在抛光布固定件上，驱动机构用于使抛光布摩擦基板上的透明导电膜层，驱动机构的输出端耦合至抛光布固定件和基板固定盘两者中的任意一个或两个，使抛光布在基板的透明导电膜层表面作平动摩擦运动，或者使抛光布在基板的透明导电膜层表面作平动摩擦运动的同时还绕自身中心轴转动。利用本实用新型对ITO膜层进行软抛光，不仅保证了ITO膜层在10微米*10微米范围内原子力显微镜AFM测得的粗糙度Ra、Rp－v有显著降低，而且保证ITO膜层的电阻均匀性在抛光前后差异很小，保证量产的均匀性和重复性
透明导电抛光装置

[发明专利]布轮抛光设备的控制方法、装置及布轮抛光设备-CN202210770270.5在审
发明人：徐富亮;何朝明;崔基国;秦观涛;纪栓;袁存春 -专利权人：歌尔股份有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本公开实施例公开了一种布轮抛光设备的控制方法、装置及布轮抛光设备，应用于布轮抛光设备，所述布轮抛光设备包括抛光布轮和位移组件，所述方法包括：在所述抛光布轮对本次加工产品进行抛光处理时，获取所述抛光布轮的当前加工数量
抛光设备控制方法装置

[发明专利]自身把抛光水瓢的加工方法-CN200810069256.2无效
发明人：刘良见 -专利权人：刘良见
申请日： 2008-01-17 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： A47J43/28 文献下载
摘要：自身把抛光水瓢的加工方法涉及机械加工技术。公开技术是，人工用两手握住沾有水玻璃的抛光布轮的轴，在槽内装有100目石英砂进行反复滚动，均匀沾上抛光布轮的外圆，再放入电恒温箱烘烤，温度20℃，时间8分钟，已烘烤的抛光布轮，在装上弹子抛光机上，启动弹子抛光机，人用手拿纯铝自身把水瓢用抛光布轮进行里、外抛光作业，最后用另外一台抛光机沾有抛光膏的抛光布轮，对已抛光的自身把水瓢进行里、外抛亮作业，检验，包装，入库。
自身抛光水瓢加工方法

[发明专利]透明导电膜层抛光装置及其抛光方法-CN200610034900.3有效
发明人：金弼 -专利权人：深圳南玻显示器件科技有限公司
申请日： 2006-04-03 - 公布日： 2006-09-13 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种透明导电膜层抛光装置，包括基板固定盘、与基板固定盘相对应的抛光布固定件、抛光布和驱动机构，抛光布固定在抛光布固定件上，驱动机构用于使抛光布摩擦基板上的透明导电膜层，所采用的抛光布材质足够柔软，以使在工作压力下抛光布的和基板接触部分的弹性形变量大于0.1毫米，远远大于基板表面凹凸高度的差值。利用本发明对ITO膜层进行软抛光，不仅保证了ITO膜层在10微米*10微米范围内原子力显微镜AFM测得的粗糙度Ra、Rp－v有显著降低，而且保证ITO膜层的电阻均匀性在抛光前后差异很小，保证量产的均匀性和重复性
透明导电抛光装置及其方法

[实用新型]一种新型的高效抛光布-CN202121507247.4有效
发明人：贺越腾 -专利权人：天津微科光电科技有限公司
申请日： 2021-07-05 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及抛光布技术领域，且公开了一种新型的高效抛光布，所述抛光布的上表面固定安装有抛光颗粒，所述抛光布的上表面开设有流液槽，所述流液槽将抛光布的上表面分成12‑20组区域所述固定贯穿玻璃纤维层、绒毛层、碳纤维支撑层、海绵层、聚氨脂打底层和静电吸附层，所述抛光布的上表面贴设安装有聚氨脂抛光皮，所述聚氨脂抛光皮的下表面紧贴安装有玻璃纤维层，所述玻璃纤维层的下表面贴设安装有绒毛层，所述绒毛层的下表面紧贴安装有碳纤维支撑层，所述碳纤维支撑层的下表面加设有海绵层，所述海绵层的下部装设有聚氨脂打底层，所述聚氨脂打底层的下表面加设安装有静电吸附层，所述抛光布的两端均加设有包边结构。
一种新型高效抛光

[实用新型]一种新型抛光装置-CN202221045940.9有效
发明人：赖定仁;张祖远;赖金协 -专利权人：厦门鼎铸智能设备有限公司
申请日： 2022-04-22 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本公开是关于一种新型抛光装置，包括：支架；一个以上的夹持组件，设置在支架上；一个以上的抛光组件，设置在支架上并与夹持组件相对应；抛光组件包括第一驱动件、第二驱动件、第一布轮、第二布轮、第三布轮以及第四布轮，第一驱动件和第二驱动件交叉设置；其中，第一布轮和第二布轮对称设置在第一驱动件的两侧，第一驱动件驱动第一布轮和第二布轮转动；第三布轮和第四布轮对称设置在第二驱动件的两侧，第二驱动件驱动第三布轮和第四布轮转动；旋转机构，设置在支架上，旋转机构与抛光组件连接，用于驱动抛光组件旋转。实现多工件、工件多样化、多层次的抛光目的，节省布轮更换时间，提高抛光效率，便捷高效，增大适用范围。
一种新型抛光装置

[实用新型]一种采用高压水处理抛光布表面的装置-CN201520515600.1有效
发明人：牛海涛;范强;王勇;魏海霞 -专利权人：麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-07-16 - 公布日： 2015-11-04 - 主分类号： B24D18/00 文献下载
摘要：一种采用高压水处理抛光布表面的装置，适用于单晶硅抛光片生产中，对抛光布进行表面预处理。本实用新型中的柱塞泵（3）将纯水管路（1）中的纯水施加压力后进入高压供纯水供给装置（4）并经高压纯水管（5）将高压纯水通过喷头（8）喷射到需处理的抛光布上。喷头（8）安装在抛光机主转盘（10）边部的摆臂（7）上，可随抛光机主转盘（10）自抛光机大盘边缘到中心轮附近再回到抛光机主转盘（10）边缘，完成一个摆动周期。刷子（9）与抛光布表面在工作中并不接触，没有相互摩擦，不对抛光布造成损伤。本实用新型提高了抛光布的使用寿命，降低了生产成本，减轻了劳动强度，提高了工作效率。
一种采用高压水处理抛光表面装置

[发明专利]一种锗晶片的双抛工艺、装置及锗晶片-CN202210244203.X在审
发明人：杨红英 -专利权人：北京爱瑞思光学仪器有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种锗晶片的双抛工艺、装置及锗晶片，用于同时对锗晶片进行双面抛光，其中，包括：第一粗抛工序采用第一粗抛光液和第一抛光布；第二粗抛工序采用第二粗抛光液和第一抛光布；第一精抛工序采用第一细抛光液和第二抛光布；第二精抛工序采用第二细抛光液和第二抛光布；各工序中转速的关系为：第一粗抛工序＜第二粗抛工序＜第一精抛工序＜第二精抛工序；第一抛光布的硬度大于第二抛光布的硬度；各工序中抛光温度为35℃～40℃。本申请实施例提供的锗晶片的双抛工艺，采用两次粗抛和两次精抛的组合方式，通过匹配不同的参数，实现化学抛光和机械抛光之间的匹配，实现锗晶片的快速抛光，并取得较好的精抛表面质量。
一种晶片工艺装置