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[发明专利]一种平面光学元件及其加工方法-CN201911077129.1有效
发明人：朱衡;吴迪龙;鲍振军;周衡;李智钢;蔡红梅;鄢定尧 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-11-06 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种平面光学元件及其加工方法，包括研磨待加工平面光学元件的第一表面，使研磨后第一表面的反射面形误差数据小于第一面形误差阈值，得到第一平面光学元件；抛光研磨后第一表面，使抛光后第一表面的反射面形误差数据小于第二面形误差阈值，得到第二平面光学元件；研磨第二平面光学元件的第二表面，使研磨后第二平面光学元件的等厚误差值小于厚度误差阈值，得到第三平面光学元件，其中，第二表面与第一表面相对；抛光第三平面光学元件的第一表面和第二表面，使抛光后第三平面光学元件的第一等厚干涉条纹平均间距大于间距阈值，得到平面光学元件。该加工方法使平面光学元件平行度加工精度得到提高。
一种平面光学元件及其加工方法

[发明专利]一种基于子孔径拼接的高精度平面光学元件面型检测方法-CN201310098554.5无效
发明人：沈正祥;徐旭东;孙晓雁;王晓强;马彬;程鑫彬;王占山 -专利权人：同济大学
申请日： 2013-03-26 - 公布日： 2013-07-24 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于子孔径拼接的高精度平面光学元件面型检测方法。所述检测装置包括：二维平移台、干涉仪和标准平面透镜，具体步骤为：将所述平面光学元件固定在二维平移台上，干涉仪对准所述平面光学元件的位置；调节二维平移台到达指定目标分布区域，使干涉仪出瞳对准平面光学元件的几何中心部分，干涉仪对该几何中心部分进行采集测量计算，得到该子孔径面型信息；重复前述步骤，直到完成全部子孔径的测量，即可实现所述平面光学元件的子孔径测量。本发明针对高精度平面光学元件面形平面度较高的特点，通过一定拼接算法恢复完整被测平面元件面型，为高精度平面光学元件面型检验提供一种经济有效的检测方法。
一种基于孔径拼接高精度平面光学元件检测方法

[发明专利]真空兼容的平面光学元件调整装置-CN202110519753.3有效
发明人：徐天伟;王丹;陈进新;李璟;王朋辉;杨光华;齐威 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-05-12 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：本公开提供一种真空兼容的平面光学元件调整装置，包括：平面光学元件，包括相互垂直的光学面、侧面和底面；第一调节支架，与平面光学元件连接，能够在所述光学面所在平面内移动所述平面光学元件；第二调节支架，与所述第一调节支架连接，能够在所述侧面所在平面内移动所述平面光学元件。实现了光学元件空间直角坐标系的三个标准方向平移及绕标准方向旋转的调节；实现增加调节支架的数量，即可进一步增加光学元件的调节维度；结构通透，能够在真空环境下的使用。
真空兼容平面光学元件调整装置

[发明专利]一种平面光学元件的面形修正方法-CN202110156854.9有效
发明人：朱元强;叶沈航;程章彬;廖以旺 -专利权人：福建福特科光电股份有限公司
申请日： 2021-02-04 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种平面光学元件的面形修正方法，包括如下步骤：在平面光学元件的正面镀制要求的多层膜，并根据公式(1)在平面光学元件的背面镀制修正的单层膜，修正的单层膜厚度＝2/3×多层膜厚度×K公式(1)；公式(1)中，K1＝镀制多层膜使用的离子能量/镀制修正单层膜使用的离子能量，K2＝10×(平面光学元件的厚度/平面光学元件最大方向口径)。在平面光学元件的背面用SiO2单层膜修正平面光学元件的面形，较双面镀制相同薄膜的方案容易操作，且SiO2同各种光学元件材料匹配性好
一种平面光学元件修正方法

[发明专利]一种大口径平面光学元件面形绝对测量系统-CN202110188369.X有效
发明人：朱小平;李加福;杜华;王凯;赵沫;赵彦龙 -专利权人：中国计量科学研究院
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：一种大口径平面光学元件面形绝对测量系统，包括一对位移传感器及其位姿调整机构、大行程直线导轨、待测大口径平面光学元件、旋转机构及其角度调整机构和倾角测量仪，一对位移传感器反向共轴设置；控制器位移传感器沿大行程直线导轨移动，同时位移传感器测量其距离大口径平面光学元件测量面上测量线的距离，其中测量前将三面待检测的大口径平面光学元件两两组合后，依次按角度线进行扫描测量；控制倾角测量仪测量大口径平面光学元件测量面倾角变化；根据测量的大口径平面光学元件测量面倾角变化、位移传感器距离大口径平面光学元件测量面上测量线的距离，进行三面互检面形分离算法以及三维面形的重建后对大口径平面光学元件测量面进行平面度评定。
一种口径平面光学元件绝对测量系统

[实用新型]一种光学元件固定机构及投影设备-CN201720431369.7有效
发明人：周正平;李屹 -专利权人：深圳市光峰光电技术有限公司
申请日： 2017-04-24 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： G02B7/182 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种光学元件固定机构及投影设备，该光学元件固定机构包括安装板面，还包括多个设置在所述安装板面上的卡接部，所述安装板面用于支撑平面光学元件；多个与所述卡接部一一对应的弹性卡扣，所述弹性卡扣可拆卸地与其自身所对应的所述卡接部配合，并将所述平面光学元件压紧在所述安装板面上。本实用新型中所公开的光学元件固定机构对平面光学元件的固定方式由粘接变为了可拆卸连接，因而在安装的过程中，平面光学元件与安装板面之间不会发生粘连，两者可以自由进行相对移动，这就方便了平面光学元件在安装时的位置调整；另外由于平面光学元件与安装板面为可拆卸连接，因此一旦平板状部件损坏或失效，可以方便的进行更换。
一种光学元件固定机构投影设备

[发明专利]一种基于稀疏孔径拼接的平面光学元件检测方法-CN201210362668.1无效
发明人：沈正祥;徐旭东;孙晓雁;王晓强;马彬;程鑫彬;王占山 -专利权人：同济大学
申请日： 2012-09-26 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于稀疏孔径拼接的平面光学元件检测方法。子所述检测装置包括：二维平移台、干涉仪和标准平面透镜，具体步骤为：将所述平面光学元件固定在二维平移台上，干涉仪对准所述平面光学元件的位置；调节二维平移台到达指定目标分布区域，使干涉仪出瞳对准平面光学元件的几何中心部分，干涉仪对该几何中心部分进行采集测量计算，得到该子孔径面型信息；重复前述步骤，直到完成全部子孔径的测量，即可实现所述平面光学元件的稀疏子孔径测量。本发明针对环形抛光的平面光学元件面形具有较高圆对称性的特点，通过一定规则指定检测区域，可达到不覆盖全孔径，快速完成大口径光学平面的稀疏孔径检测的目的，为环形抛光的工序检验提供一种经济的检测方法。
一种基于稀疏孔径拼接平面光学元件检测方法

[发明专利]一种光信号选择调度装置及方法-CN202011024362.6有效
发明人：冯勇华 -专利权人：烽火通信科技股份有限公司
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G02B6/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种光信号选择调度装置及方法，涉及光通信技术领域，本发明的光信号选择调度装置支持N个输入端口、M个输出端口，由2M+1层平面光学阵列元件逐层堆叠构成；每一层平面光学阵列元件至少具备分波、准直、开关、导波和合波功能中一种功能；每一层平面光学阵列元件的功能元件排列成N+1列，每一列包含一字排开但互不影响的K个功能元件。本发明的光信号选择调度装置采用平面光学阵列元件，平面光学阵列元件具有轻薄化平面化的特点，可大幅缩小元件尺寸、减少系统复杂性，降低光器件插入损耗和通道间串扰，实现高维度波长选择交叉器件的集成。
一种信号选择调度装置方法

[发明专利]平面光学元件绝对面形检测装置-CN201710380378.2有效
发明人：刘世杰;白云波;周游;张志刚;吴福林;王圣浩;鲁棋;王微微;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2017-05-25 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：一种平面光学元件绝对面形检测装置，主要包括激光干涉仪、扩束准直系统、透射镜二维调整系统、反射镜四维调整系统、3个平面光学元件夹具、3个平面光学元件、反射镜旋转电器控制系统等。本发明实现了平面光学元件面形绝对检测，实现了提高检测精度的目的，更能有标志性的评价加工水平，为加工精度的进一步提高提供指导意义。
平面光学元件面形检测装置反射镜夹具扩束准直系统激光干涉仪调整系统二维调整控制系统旋转电器透射镜检测面形四维加工

[发明专利]大口径异形平面元件光学加工夹具及加工方法-CN202010207051.7有效
发明人：曹俊;徐学科;顿爱欢;嵇文超 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所;上海恒益光学精密机械有限公司
申请日： 2020-03-23 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： B24B41/06 文献下载
摘要：一种大口径异形平面光学元件的加工夹具及加工方法，光学加工夹具包括大理石环、套杆、圆形转接、全螺纹螺丝、滚轮、长杆、光学元件、铁饼、周边通孔、中间通孔、铁笔座、大理石板、螺纹孔和蜡盘。本发明对大口径异形平面光学元件进行加工，获得了高精度大口径异形平面光学元件：透射面形λ/2，平行度2″。本发明工艺简单，具有可加工光学元件范围广、生产成本低和效率高的特点。
口径异形平面元件光学加工夹具方法

[发明专利]基于数字平面全息的集成平面光学器件-CN200980159652.7有效
发明人： V·扬科夫 -专利权人：纳米光学设备有限责任公司
申请日： 2009-06-02 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： G02B5/32 文献下载
摘要：提供具有基于数字平面全息术的全息图案的集成平面光学器件。所述器件包括支撑多个平面光学元件和下部包层的半导体衬底。所述下部包层支撑光传播和分布层，在所述光传播和分布层中嵌入有全息图案的多个互连图案元件，所述互连图案元件用于根据所述全息图案控制向所述平面光学元件传播的光束及从所述平面光学元件传播的光束的性质和方向。这是通过提供具有特定位置、形状和折射率的图案元件来实现的，其中所述图案元件的折射率不同于包含这些元件的层的材料的折射率。描述了设计和制造所述图案的方法。
基于数字平面全息集成光学器件

[发明专利]一种用于镀膜行星系统中控制平面光学元件膜厚分布的挡板设计方法-CN201210214689.9有效
发明人：李斌成;郭春;孔明东;柳存定 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2012-06-27 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：一种用于镀膜行星系统中控制平面光学元件膜厚分布的挡板设计方法，真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在平面光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜。分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜机行星系统中沉积到平面光学元件上的薄膜厚度分布模型。根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性，在此基础上运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟真空镀膜机行星系统中平面光学元件上的薄膜厚度分布。通过计算机优化挡板设计直至真空镀膜机行星系统中挡板修正后平面光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求，获得最优的挡板设计。本发明能实现平面光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。
一种用于镀膜行星系统控制平面光学元件分布挡板设计方法

[发明专利]激光器模块制造方法和激光器模块-CN201210129365.5有效
发明人：田中博仁 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 2012-04-23 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： H01S5/022 文献下载
摘要：光学半导体元件在结向上的状态下保持在从平面光波线路的安装面间隔的接近开始位置处，并且通过使光学半导体元件朝着安装面靠近而使光学半导体元件的顶面高度和平面光波线路的表面高度一致。此外，通过使光学半导体元件朝着安装面靠近达从平面光波线路的表面到波导的中心的距离的设计上的基准值和从光学半导体元件的顶面到活性层的中心的距离的设计上的基准值之差的量，使得光学半导体元件的活性层的高度和平面光波线路的高度一致
激光器模块制造方法

[发明专利]薄型平面光学元件和光学设备-CN202210999310.3在审
发明人：林新 -专利权人：江苏敏而精密科技有限公司
申请日： 2022-08-19 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：薄型平面光学元件和光学设备。本发明提供对光学透镜的体积、重量不造成影响、并且在量产工艺中能够实现高生产效率、低成本的薄型平面光学元件。本发明提出了一种具备平面的超透镜的薄型平面光学元件。
平面光学元件设备

[发明专利]一种空中悬浮显示系统-CN201810167555.3在审
发明人：于迅博;高鑫 -专利权人：北京眸合科技有限公司
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： G09F19/16 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种空中悬浮显示系统，包括显示源、逆向微结构阵列和第一平面光学元件；所述逆向微结构阵列包括多个阵列设置的逆向反射单元，每个逆向反射单元由至少两个透镜组合而成，且所述逆向反射单元远离所述第一平面光学元件的一面镀有反射膜；所述第一平面光学元件具有部分透射和部分反射功能；所述显示源发射的光线经所述第一平面光学元件后进入所述逆向微结构阵列，在所述逆向微结构阵列中经逆向反射单元的反射膜反射后，再经所述第一平面光学元件后在空中汇聚形成悬浮像
平面光学元件微结构阵列逆向反射悬浮显示系统反射膜多个阵列反射功能透镜组合悬浮图像发射大视角畸变透射调制反射汇聚

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