专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高浓度咖啡的生产设备及方法-CN202110848219.7在审
  • 曾少彤;余礼腾;邓蓉 - 昆明凯澜创意科技有限公司
  • 2021-07-27 - 2021-10-22 - A23F5/26
  • 本发明公开了一种高浓度咖啡的生产设备,包括浸泡罐支架,所述浸泡罐支架的上端安装有浸泡罐,所述浸泡罐的内侧安装有搅拌装置,所述浸泡罐的上方设置有称重输送,所述称重输送的上方设置有研磨机。本发明所述的一种高浓度咖啡的生产设备及方法,简化了工艺流程,降低了工艺成本,减少了繁复工艺过程中物料的损耗,既能获得最高的溶出从而得到最高的得,又能兼顾得到高浓度咖啡而无需浓缩,有效成分溶出高于90%,高浓度咖啡溶液浓度(TDS浓度)大于16%,咖啡渣含水小于10%,得超过25%,远远高于现行10‑15%的得,充分保留了咖啡中原有的组分、香气,特别是获得了丰富的脂类物质,使咖啡产品口感更加醇厚
  • 一种浓度咖啡生产设备方法
  • [实用新型]一种高浓度咖啡的生产设备-CN202121712232.1有效
  • 曾少彤;余礼腾;邓蓉 - 昆明凯澜创意科技有限公司
  • 2021-07-27 - 2021-12-14 - A23F5/26
  • 本实用新型公开了一种高浓度咖啡的生产设备,包括浸泡罐支架,所述浸泡罐支架的上端安装有浸泡罐,所述浸泡罐的内侧安装有搅拌装置,所述浸泡罐的上方设置有称重输送,所述称重输送的上方设置有研磨机。本实用新型所述的一种高浓度咖啡的生产设备,简化了工艺流程,降低了工艺成本,减少了繁复工艺过程中物料的损耗,既能获得最高的溶出从而得到最高的得,又能兼顾得到高浓度咖啡而无需浓缩,有效成分溶出高于90%,高浓度咖啡溶液浓度(TDS浓度)大于16%,咖啡渣含水小于10%,得超过25%,远远高于现行10‑15%的得,充分保留了咖啡中原有的组分、香气,特别是获得了丰富的脂类物质,使咖啡产品口感更加醇厚
  • 一种浓度咖啡生产设备
  • [实用新型]网式精练机-CN200620023952.6无效
  • 张霞恩;肖翔;李晓明;张立桥;刘福安 - 唐山三友集团化纤有限公司
  • 2006-03-31 - 2007-03-07 - D06B3/02
  • 由机架、安装在机架上的压臂、高压轧车、轧辊、网传动部件、集槽、盖板构成,高压轧车位于机架的尾部,集槽位于网的下部,盖板安装在机架的上方,网传动部件的网端部设有由减速电机直接驱动的衬软橡胶辊,网的上部设有用电机驱动、通过压臂与汽缸连接的上压辊,网的下部设有下托辊;高压轧车的上、下轧辊直径相同,上、下轧辊两端分别设有控制两轧辊转速一致的减速电机。生产出的粘胶短纤维优等品96%,一等品99%。
  • 精练
  • [发明专利]一种驱蚊虫地毯的制备工艺-CN201410071521.6有效
  • 李加录;王召民;董洪田;张秀娟;王书东;张立平 - 滨州东方地毯有限公司
  • 2014-02-28 - 2014-05-28 - A47G27/02
  • 本发明涉及地毯加工技术领域,更具体的讲是一种驱蚊虫地毯的制备工艺:其包括地毯印花、固色、水洗、真空吸水、施泡、烘干、检验、打包、成品,上述施泡、烘干工艺为,首先用发泡装置发泡,柠檬酸调节pH到5,汽比为1∶40,泡沫质量为25g/L,施泡,100克泡沫/平方地毯,10%,速度1.3-1.7m/min,最后通过压辊挤压,压力为:1.5-2Pa,泡沫均匀的涂在地毯表面,然后地毯烘干,烘干温度80-130℃,本发明的有益效果是:通过在地毯的制备工艺中适当添加一定pH的防虫剂和增强剂NanoPU,有效的提升了地毯的蚊虫驱避,并通过严格控制发泡时汽比,施泡的泡沫的质量、添加量、以及泡沫的滚压烘干工艺,使得本发明的地毯的蚊虫驱避提高到98%以上,具有明显的进步。
  • 一种蚊虫地毯制备工艺
  • [发明专利]一种防滴半导体自动刻蚀装置-CN202011065453.4在审
  • 温妖 - 青田林心半导体科技有限公司
  • 2020-09-30 - 2021-01-08 - H01L21/67
  • 本发明涉及半导体相关领域,公开了一种防滴半导体自动刻蚀装置,包括主箱体,主箱体内设有刻蚀腔,刻蚀腔后侧设有运输轮腔,运输轮腔前端壁和刻蚀腔后端壁之间连通设有连接块腔,运输轮腔后侧设有传动轮腔,通过雾化刻蚀并使其均匀弥漫至半导体掩膜刻蚀槽内,避免因为刻蚀用量不一而造成刻蚀程度不一的问题,保证了样品的良,此外,通过设置刻蚀处理机构,有效清除了凝结在刻蚀腔上壁的刻蚀和掩膜上多余的刻蚀,减少滴滴落在样品上产生的刻蚀不均的情况,而且防止多余刻蚀进入刻蚀槽而影响到刻蚀效果。
  • 一种防滴液半导体自动刻蚀装置

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