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[发明专利]介质高度不均匀性检测-CN201980093149.X在审
发明人： M·J·韦斯特 -专利权人：惠普发展公司，有限责任合伙企业
申请日： 2019-04-30 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： B41F33/00 文献下载
摘要：基于第一光束的功率的测量和第二光束的功率的测量，识别介质高度不均匀性。
介质高度不均匀检测

[发明专利]导光均匀性的检测装置-CN202210163007.X在审
发明人：王泓泉;陈召全;卢业能;张伟;冯吉祥;包训旺;张勇;许培文;王竞;汪军;杨丹;王颖;李亚茹 -专利权人：中航华东光电有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开了光学导光板检测领域的一种导光均匀性的检测装置，检测装置包括底板，于底板的任意三个边上分别安装第一边框、第二边框和第三边框，第一边框和第二边框为相邻且垂直，第三边框与第一边框相互平行，第一边框和第二边框为固定边框
均匀检测装置

[发明专利]纤维沥青搅拌均匀性评价方法-CN202210364823.7在审
发明人：吕鹏磊;王子照;李世仲;翟玉新;吕自福;王志文;刘炳华;陈静;蒋军;李琳;史文朝 -专利权人：河北交通职业技术学院
申请日： 2022-04-07 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： G01N11/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种纤维沥青搅拌均匀性评价方法，属于道路工程技术领域，包括以下步骤：S1、自混合后的纤维沥青中提取多组沥青试样，并对多组沥青试样进行恒温处理；S2、对沥青试样进行多次针入度试验，并记录试验数据最小值为得到多组沥青试样的试验数据集合A＝{A1,A2,A3……}和B＝{B1,B2,B3……}；S4、计算A组数据集合的极差X＝Amax‑Amin；计算B组数据集合的极差Y＝Bmax‑Bmin；当X≤2且Y≤2时，判定均匀度合格本发明提供的纤维沥青搅拌均匀性评价方法，无需进行新的试验设备的重新开发和验证，节省了研究开发成本；适用于各种纤维以及各种纤维掺量情况下的测试，更具有认同性。
纤维沥青搅拌均匀评价方法

[发明专利]层压机压力均匀性检测方法-CN202211046370.X在审
发明人：程浩;贺江奇;袁强;乐廷睿 -专利权人：宁波甬强科技有限公司
申请日： 2022-08-30 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G01M99/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种层压机压力均匀性检测方法，首先在N个半固化片上分别形成多个均匀分布并且尺寸相同的通孔，制作成N个测试半固化片；然后将N个测试半固化片的相应通孔均对齐叠放在一起；再在叠放在一起的N个测试半固化片两面覆以离型膜，送入层压机压合；压合完成后，观察测试半固化片的通孔内的流胶情况，根据测试半固化片的各通孔内的流胶量的多少，判断测试半固化片所受压力的均匀性。该层压机压力均匀性检测方法，利用测试半固化片进行层压机压力均匀性检测，不受覆铜板产品的生产时间限制，能表征层压机在实际生产状态下压力均匀性，还能表征产品所受压力的均匀性。
层压压力均匀检测方法

[发明专利]AR眼镜贴合均匀性检测方法-CN202310183590.5在审
发明人：娄飞 -专利权人：深圳市雕拓科技有限公司
申请日： 2023-03-01 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种AR眼镜贴合均匀性检测方法，包括以下步骤：固定已经贴合的AR眼镜镜片；打开光源，使光源的光通过所述光纤打在所述贴合的AR眼镜镜片；带动光纤沿所述贴合的AR眼镜镜片表面进行运动；按照光纤运动轨迹，设定若干检测点，分别对贴合的AR眼镜镜片进行薄膜厚度数据采集和计算；计算得到AR眼镜贴合均匀性。
ar 眼镜贴合均匀检测方法

[发明专利]显示设备的颜色均匀性校正-CN202180043864.X在审
发明人： K·梅塞尔;M·H·舒克三世;N·I·摩尔利;P-K·黄;N·S·沙阿;M·C·卡普斯;R·B·泰勒 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G09G5/00 文献下载
摘要：公开了用于改进显示设备的显示器的颜色均匀性的技术。使用图像捕获设备来捕获显示器的多个图像。在颜色空间中捕获多个图像，其中每个图像对应于多个颜色通道中的一个。
显示设备颜色均匀校正

[发明专利]照明均匀性补偿装置和方法-CN202111005473.7在审
发明人：杨建新;葛黎黎 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻设备技术领域，公开了一种照明均匀性补偿装置和方法，其中照明均匀性补偿装置包括：沿照明视场的光轴方向依次设置的多个补偿版，且各所述补偿版沿所述照明视场的长度方向延伸并沿所述延伸方向设有多个相互间隔且高度不相同的补偿台阶补偿台阶进入照明视场中作为补偿区域能够遮蔽部分照明光，不同高度的补偿台阶能够实现补偿不同的照度，多个补偿版沿照明视场的长度方向延伸并移动，使得不同高度的补偿台阶移动至目标区域后，实现均匀性补偿，该装置提升了装调效率
照明均匀补偿装置方法

[发明专利]发光面亮度均匀性分析方法-CN201410164419.0有效
发明人：钟磊;周详;郑成龙;李福生;花醒飞;熊衍建;于勇;季永康 -专利权人：常州市武进区半导体照明应用技术研究院
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2016-09-21 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提出了一种发光面亮度均匀性分析方法，其包括：亮度数据测量步骤，测量待测产品的发光面的亮度数据；形状判断步骤，判断发光面的形状；亮度均匀性分析步骤，根据发光面的形状，对发光面的亮度数据进行亮度均匀性分析本发明通过测量整个发光面的亮度数据，并以此作为亮度均匀性分析的基础，能够降低在采用目前亮度均匀性分析方法，对照明类产品进行亮度均匀分析时产生的偏差；此外，本发明提出根据发光面的形状的不同来对亮度均匀性进行分析，能够提高亮度均匀性分析结果的准确度。
光面亮度均匀分析方法

[发明专利]提高栅极尺寸均匀性的方法-CN200910053813.6有效
发明人：张海洋;赵林林 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-06-25 - 公布日： 2010-12-29 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高栅极尺寸均匀性的方法，所述栅极的形成包括：在半导体衬底上依次形成栅氧化层、多晶硅层、底部抗反射层(BARC)及光阻胶；对所述光阻胶进行修剪(trim)，用于定义栅极的位置；对所述底部抗反射层进行主刻蚀本发明还公开了一种提高栅极尺寸均匀性的方法。采用该方法能够大大提高栅极尺寸的均匀性，不但降低了栅极侧壁的粗糙度，而且能够提高单线和密线处栅极尺寸的均匀性。
提高栅极尺寸均匀方法

[发明专利]亮度均匀性提高的背光组件-CN200910167442.4有效
发明人：朱炳润;李相勋;宋珉永;金东宽;崔震成 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2009-08-21 - 公布日： 2010-02-24 - 主分类号： F21S8/00 文献下载
摘要：本发明提供一种亮度均匀性提高的背光组件。本发明揭示了一种背光组件和具有该背光组件的显示设备。漫射板设置在多个灯上方。因此，灯所在的第一区域和相邻的两个灯之间的第二区域之间的亮度差异被减少，从而提高来自该背光组件的光的亮度均匀性。
亮度均匀提高背光组件

[发明专利]改善外延生长均匀性的方法-CN201810486153.X有效
发明人：叶康;王昌锋 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2018-05-21 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善外延生长均匀性的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、设计外延生长层次冗余图形，冗余图形为根据器件设计图形得到的类似器件图形；步骤二、设置版图上各区域内生长的外延层的面积密度的目标值本发明能改善外延生长面积的均匀性，从而优化外延层的均匀性。
改善外延生长均匀方法

[发明专利]电容值均匀性测试仪-CN201210405697.1有效
发明人：黄柏翰 -专利权人：昆山意力电路世界有限公司
申请日： 2012-10-22 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种电容值均匀性测试仪，包括底座、支架、测试用FPC屏体、双头探针和连接器，底座包括顶板和底板，以使用方向为基准，支架一端固定于顶板上表面，另一端侧部固连有第一定位机构，第一定位机构能够在顶板上表面定位和脱离待测
电容均匀测试仪

[发明专利]具有局部非均匀性的膜-CN201210599120.9有效
发明人：杰弗里·帕垂克·拉鲁埃;吴晓松;马丁·史密斯 -专利权人：帕尔公司
申请日： 2012-12-13 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： B01D69/02 文献下载
摘要：公开了具有局部非均匀性的膜，包括该膜的装置，和制造并使用该膜的方法。
具有局部均匀

[发明专利]提高介质层的均匀性方法-CN201010568457.4有效
发明人：周鸣 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2010-12-01 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高介质层的均匀性方法，该方法包括：在半导体器件的硅表面沉积二氧化硅后，采用设置的沉积二氧化硅和后续沉积低介电常数层的两个过渡条件依次沉积第一传导氧化层和第二传导氧化层；在第二传导氧化层上本发明提供的方法提高了制作的介质层的均匀性。
提高介质均匀方法

[发明专利]辐射场均匀性校验定位装置-CN201210092277.2有效
发明人：马欣;邹子英;陆敏;龚增;王晖;张亮;田禾箐 -专利权人：上海市计量测试技术研究院
申请日： 2012-03-31 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： G01R35/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种辐射场均匀性校验定位装置，其包括垂直连杆、底板、水平连杆、水平套筒；所述垂直连杆，底端固定在所述底板上；所述水平套筒，套设在所述垂直连杆外部，能沿所述垂直连杆轴向滑动；所述水平套筒和/或所述垂直连杆上设置有轴向定位机构本发明的辐射场均匀性校验定位装置，能提高提高辐射场均匀性测试结果的准确性，并提高辐射场均匀性校验定位操作的效率、准确性。
辐射均匀校验定位装置