专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种催化裂解聚烯烃回收液体燃油的方法-CN201410329800.8在审
  • 宋波 - 青岛蓝农谷农产品研究开发有限公司
  • 2014-07-11 - 2016-02-10 - C10G1/00
  • 本发明公开了一种催化裂解聚烯烃回收液体燃油的方法,其特征在于,具体包括如下步骤:(1)制钛分子筛;(2)制甲酸;(3)制催化剂;(4)回收液体燃油。本发明的钛分子筛的制作过程简单,重复性好,通过SnCI2·2H2O溶液和硅酸钠混合溶液的在酸性条件下的改性,使改性后钛分子筛表面疏水性明显增强,其催化氧化活性显著提高;通过用硝酸铵作为原料合成甲酸,方法简单,用于合成催化剂,提高了催化剂活性组分的分散度,从而提高了催化剂再生后的活性;本发明的方法制得的催化剂应用于将聚烯烃进行催化裂解反应,提高了聚烯烃的裂解率和液体产物的选择性
  • 一种催化裂解烯烃回收液体燃油方法
  • [发明专利]含氧化磨料的再生方法-CN201380047554.0有效
  • 郭益淳;曹昇范;鲁埈硕;金钟珌 - 株式会社LG化学
  • 2013-09-11 - 2017-08-01 - B24B57/00
  • 本发明涉及一种含氧化磨料的再生方法,可有效地去除含氧化磨料中所包含的杂质,实现包括清洗工艺在内的再生工艺的效率化,而且能够抑制清洗工艺中含氧化磨料的再凝聚。所述含氧化磨料的再生方法,包括以下步骤将含氧化浆料与包含氟类化合物的溶剂溶液进行混合,以便有选择地溶解掉包含在所述浆料中的含氧化硅杂质;使所述含氧化浆料通过交叉流过滤系统进行清洗,以便有选择地去除所述含氧化硅杂质;以及对所述清洗过的含氧化浆料进行干燥及烧结。
  • 氧化磨料再生方法
  • [发明专利]含氧化磨料的再生方法-CN201380047642.0有效
  • 郭益淳;曹昇范;鲁埈硕;金钟珌;W-J·文 - 株式会社LG化学
  • 2013-09-11 - 2015-05-13 - B09B3/00
  • 本发明涉及一种含氧化磨料的再生方法,可有效地去除含氧化磨料中所包含的杂质,并再生为显示出适宜的粒度分布和结晶尺寸、以及由此带来的较佳抛光率等的含氧化再生磨料。所述含氧化磨料的再生方法,包括以下步骤:将含氧化(CeO2)浆料溶解于包含强碱和氢氟酸的溶剂溶液;对所述含氧化浆料进行清洗,以去除含氧化硅(SiO2)杂质;对所述清洗过的含氧化浆料用CD干燥机进行干燥;以及在包含铵盐、碱金属盐、金属氧化物、金属含氧酸或碱土金属盐的助熔剂存在下,对所述浆料以800℃以上的温度进行烧结。
  • 氧化磨料再生方法
  • [发明专利]含氧化磨料的再生方法-CN201380047601.1无效
  • 金钟珌;曹昇范;鲁埈硕;郭益淳 - 株式会社LG化学
  • 2013-09-17 - 2015-05-13 - C09K3/14
  • 本发明涉及一种含氧化磨料的再生方法,可有效地去除含氧化磨料中所包含的杂质,而且能够确保再生工艺的稳定性,使含氧化磨料适当地再生。所述含氧化磨料的再生方法包括以下步骤:将含氧化(CeO2)浆料溶解于溶剂溶液,所述溶剂溶液包含(a)NaHF2、(NH4)HF2或KHF2等氟类化合物或者包含(b)NaF、(NH4)F或KF等氟化盐和非氢氟酸类酸的混合物;对所述含氧化浆料进行清洗,以去除溶解在溶剂溶液中的含氧化硅(SiO2)杂质;以及对所述清洗过的含氧化浆料进行再分散及过滤或者干燥及烧结。
  • 氧化磨料再生方法
  • [发明专利]玻璃中回收稀土氧化的方法-CN201210341716.9无效
  • 王景峰;张建坡;展瑞岩 - 吉林化工学院
  • 2012-09-03 - 2013-01-23 - C22B7/00
  • 本发明提出的是从玻璃中回收稀土氧化的方法。利用玻璃回收稀土氧化的主要过程为:1、原料清洗、干燥、粉碎和筛选工序;2、玻璃的碱解反应工序;3、除去硼、硅工序;4、酸解工序;5、中和工序;6、氧化工序:7、焙烧工序等七道工序,使得稀土氧化提取完成通过本发明的方法可以从玻璃中回收稀土氧化,氧化的回收率在90%以上。使得玻璃变废为宝,提高了经济价值,还保护了环境。适用于从玻璃(汽车玻璃、镜片等)回收稀土氧化方法,付产氧化镧和氧化钇。
  • 玻璃回收稀土氧化方法
  • [发明专利]稀土抛光粉的制备方法-CN03130446.X无效
  • 刘占泉;王连源;王庆梅;石春祥;汪根时 - 南开大学
  • 2003-07-24 - 2004-03-17 - C09G1/18
  • 其中主要成分CeO2,La2O3,Pr6O11,Nd2O3量75-85%,包括以下步骤:将稀土抛光粉加酸溶解,加入30%的H2O2;用氨水调节pH=5-6,加入30%的H2O2,加入轻稀土氢氧化物的悬浮液30-80℃使沉淀完全,经水洗干燥、并在300-1200℃温焙烧4小时,制得高含量的再生稀土抛光粉。本发明使稀土抛光粉得到最大程度的再利用,提高了抛光粉的档次,其抛光性能良好。节约了资源,减少环境污染,其社会、经济效益显著。
  • 稀土抛光制备方法
  • [发明专利]半导体工艺设备中的氧化物的陶瓷部件与涂层-CN02808947.2有效
  • R·J·奥唐奈;J·E·道格尔蒂 - 兰姆研究公司
  • 2002-03-21 - 2004-06-16 - C23C16/44
  • 半导体工艺设备如等离子体腔室的一种抗腐蚀部件,其包含用一种氧化物的陶瓷材料作为部件的最外层表面。氧化物的陶瓷材料包含一种或多种氧化物作为其单一的最大组分。该部件可以完全由氧化物的陶瓷材料制造,或者可供选择的,可用这种氧化物的陶瓷在比如铝或者铝合金,陶瓷材料,不锈钢,或者难熔金属的衬底上提供一种层。可以通过一种技术比如等离子喷涂将该氧化物的陶瓷层作为一种涂层提供。在部件和这种氧化物的陶瓷涂层之间可以提供一个或者多个中间层。为了提高这种氧化物的陶瓷涂层的附着力,在沉积该氧化物的陶瓷涂层之前,可以对部件表面或者中间层表面进行一种表面粗糙化处理。
  • 半导体工艺设备中的氧化物陶瓷部件涂层

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