专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]旋转窑-CN202180068140.0在审
  • 尹钟卨;鲁埈硕;柳昌锡;金东焕;成恩圭;吴明焕;高宁敏 - 株式会社LG化学
  • 2021-10-22 - 2023-07-14 - F27B7/08
  • 本发明的一种旋转窑包括:烧结装置,所述烧结装置包括圆筒形的旋转管,所述旋转管在水平方向上旋转的同时混合输入的粉末原材料;外部加热装置,所述外部加热装置用于通过加热旋转管的外侧来加热输入旋转管的粉末原材料;和内部加热装置,所述内部加热装置用于同时地加热和搅拌输入旋转管的粉末原材料,其中,所述内部加热装置包括:微波产生单元,所述微波产生单元用于产生微波;引导单元,所述引导单元用于将由微波产生单元产生的微波引导到旋转管中;和搅拌加热单元,所述搅拌加热单元被联接到旋转管的内周表面,并且搅拌输入旋转管的粉末状原材料,并且同时,在微波被吸收时产生热量的同时加热粉末状原材料。
  • 旋转
  • [发明专利]含氧化铈废磨料的再生方法-CN201380047554.0有效
  • 郭益淳;曹昇范;鲁埈硕;金钟珌 - 株式会社LG化学
  • 2013-09-11 - 2017-08-01 - B24B57/00
  • 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法,可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质,实现包括清洗工艺在内的再生工艺的效率化,而且能够抑制清洗工艺中含氧化铈磨料的再凝聚。所述含氧化铈废磨料的再生方法,包括以下步骤将含氧化铈废浆料与包含氟类化合物的溶剂溶液进行混合,以便有选择地溶解掉包含在所述废浆料中的含氧化硅杂质;使所述含氧化铈废浆料通过交叉流过滤系统进行清洗,以便有选择地去除所述含氧化硅杂质;以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行干燥及烧结。
  • 氧化磨料再生方法
  • [发明专利]含氧化铈废磨料的再生方法-CN201380047642.0有效
  • 郭益淳;曹昇范;鲁埈硕;金钟珌;W-J·文 - 株式会社LG化学
  • 2013-09-11 - 2015-05-13 - B09B3/00
  • 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法,可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质,并再生为显示出适宜的粒度分布和结晶尺寸、以及由此带来的较佳抛光率等的含氧化铈再生磨料。所述含氧化铈废磨料的再生方法,包括以下步骤:将含氧化铈(CeO2)废浆料溶解于包含强碱和氢氟酸的溶剂溶液;对所述含氧化铈废浆料进行清洗,以去除含氧化硅(SiO2)杂质;对所述清洗过的含氧化铈废浆料用CD干燥机进行干燥;以及在包含铵盐、碱金属盐、金属氧化物、金属含氧酸或碱土金属盐的助熔剂存在下,对所述废浆料以800℃以上的温度进行烧结。
  • 氧化磨料再生方法
  • [发明专利]含氧化铈废磨料的再生方法-CN201380047601.1无效
  • 金钟珌;曹昇范;鲁埈硕;郭益淳 - 株式会社LG化学
  • 2013-09-17 - 2015-05-13 - C09K3/14
  • 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法,可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质,而且能够确保再生工艺的稳定性,使含氧化铈废磨料适当地再生。所述含氧化铈废磨料的再生方法包括以下步骤:将含氧化铈(CeO2)废浆料溶解于溶剂溶液,所述溶剂溶液包含(a)NaHF2、(NH4)HF2或KHF2等氟类化合物或者包含(b)NaF、(NH4)F或KF等氟化盐和非氢氟酸类酸的混合物;对所述含氧化铈废浆料进行清洗,以去除溶解在溶剂溶液中的含氧化硅(SiO2)杂质;以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行再分散及过滤或者干燥及烧结。
  • 氧化磨料再生方法
  • [发明专利]用作磨料的氧化铈粉末和含有该粉末的CMP浆料-CN200880011138.4有效
  • 吴明焕;曹昇范;鲁埈硕;金种珌;金长烈 - 株式会社LG化学
  • 2008-04-30 - 2010-02-17 - C01F17/00
  • 本发明公开了用作磨料的氧化铈粉末;含有该粉末的CMP浆料;以及使用该CMP浆料的浅槽隔离(STI)法。至少两种通过使用具有不同晶体结构的碳酸铈制备的氧化铈以一适当比例混合,并用作CMP浆料的磨料,从而调节CMP浆料所需的抛光特性。另外,在所公开的制备碳酸铈的方法中,碳酸铈的晶体结构可简单地控制。基于在用作磨料的氧化铈中、抛光特性提高的情况取决于碳酸铈的晶体结构这一发现,至少一种抛光特性——如二氧化硅层的抛光速率、氮化硅层的抛光速率、二氧化硅层和氮化硅层之间的抛光选择性和WIWNU——可通过使用至少两种选自以下的氧化铈作为CMP浆料的磨料、并调节所述氧化铈的混合比例来调节,所述氧化铈选自(i)一种使用镧石-(Ce)晶体结构的碳酸铈制备的氧化铈;(ii)一种使用正交晶体结构的碳酸铈制备的氧化铈;以及(iii)一种使用六方晶体结构的碳酸铈制备的氧化铈。
  • 用作磨料氧化粉末含有cmp浆料
  • [发明专利]用尿素制备碳酸铈粉末的方法-CN200880008481.3有效
  • 吴明焕;曹昇范;鲁埈硕;金种珌;金长烈;申东穆 - 株式会社LG化学
  • 2008-03-14 - 2010-02-03 - C01F17/00
  • 在一种通过将铈前体溶液与尿素溶液混合并进行沉淀反应从而制备碳酸铈粉末的方法中,其中通过使用至少一种有机溶剂作铈前体溶液和尿素溶液两者之一或两者的溶剂,并调节沉淀反应温度在120℃至300℃的范围内,而使碳酸铈粉末具有六方晶体结构。并且,所述方法能得到碳酸铈粉末、由所述碳酸铈粉末制得的二氧化铈粉末、以及包含所述二氧化铈粉末作磨料的CMP浆体。在所述方法中,尿素用作沉淀剂能改善反应的均匀性,从而可容易且廉价地获得六方晶体结构的碳酸铈粉末,而没有高温高压导致的危险,也无需水热合成中的昂贵系统。
  • 尿素制备碳酸粉末方法
  • [发明专利]制备碳酸铈粉体的方法-CN200880008484.7无效
  • 吴明焕;曹昇范;鲁埈硕;金种珌;金长烈 - 株式会社LG化学
  • 2008-03-14 - 2010-02-03 - C01F17/00
  • 在通过将一种铈前体溶液与一种碳酸根前体溶液混合并进行沉淀反应而制备碳酸铈粉体的方法中,其中通过使用至少一种在分子式中含至少两个羟基(OH)的有机溶剂作为所述铈前体溶液和所述碳酸根前体溶液之一或两者的溶剂,和改变所述有机溶剂的分子式中所含碳或羟基(OH)的数目,来控制碳酸铈使其具有斜方晶体结构、六方晶体结构、或斜方晶/六方晶混合晶体结构。所述方法可容易并廉价地得到具有所需晶体结构的碳酸铈粉体,而不具有由高温高压带来的危险,并且不需要水热合成的昂贵系统。
  • 制备碳酸铈粉体方法

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