专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种取向装置-CN201310175783.2有效
  • 李辉;毛利军;魏永辉;李永涛 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2013-05-13 - 2013-09-04 - G02F1/1337
  • 本发明涉及液晶显示器制备工艺技术领域,公开了一种取向装置。包括基台,基台具有支撑基板的支撑,还包括至少一块摩擦板,每一块摩擦板朝向支撑面的一贴附有取向摩擦布,取向摩擦布的毛发所在的平面为摩擦,且摩擦与支撑平行;驱动摩擦板对基板的有效显示区域进行摩擦取向的传动装置在取向时,将基板放在基台上,摩擦板放置在基板的行向上的有效显示区域内,传动装置驱动摩擦板移动,进而带动取向摩擦布对基板的有效显示区域进行摩擦取向。所以,上述取向装置,提高了取向工艺的均一性。
  • 一种取向装置
  • [发明专利]钻井评分卡-CN201080008346.6有效
  • 斯科特·G·布恩 - 坎里格钻探技术有限公司
  • 2010-02-12 - 2012-01-18 - E21B47/02
  • 本发明涉及用于评估在钻井眼方面的钻井准确度成绩的方法、系统、以及设备,可以包括:(1)通过监视指示实际工具取向与工具预报之间的差的钻井操作参数而监视工具(例如井下可操纵马达)的实际工具取向(230);(2)记录实际工具取向与工具预报之间的差(240);以及(3)对实际工具取向与工具预报之间的差评分(250)。
  • 钻井评分
  • [发明专利]具有带传感器参考件的光学元件的半导体光刻投射曝光设备和对准传感器参考件的方法-CN202080022625.1在审
  • P.尼兰德;M.斯特珀;H-M.霍维尔 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2020-03-02 - 2021-11-05 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种用于在EUV投射曝光设备(1)中将传感器参考件(40)与主体(30)的参考(31)对准的方法,其中传感器参考件(40)包括参考元件(41、41')和接收元件(42),其中接收元件(42)布置在主体(30)上或实施为主体(30)的部分,该方法包括以下步骤:‑确定参考(31)在主体(30)的参考坐标系(32)中的取向,‑确定参考(31)的取向与其意图取向的偏差,‑将参考元件(41、41')放置到所述接收元件(42)中,‑确定参考元件(41、41')在主体(30)的参考坐标系(32)中的位置和取向,‑考虑到参考元件(41、41')的先前确定的取向及参考(31)与其意图取向的偏差,确定参考元件(41、41')与意图取向的偏差,‑将参考元件(41、41')与所确定的意图取向对准,‑将参考元件(41、41')固定在意图取向上,‑检验参考元件(41、41')在参考坐标系(32)中的意图取向。光学元件(18、19、20)还包括设计为光学有效表面的参考(31),参考元件(41)的取向与参考(31)的取向对准,并且参考元件(41)以对于参考(31)的小于100μrad的角度位移布置。
  • 具有传感器参考光学元件半导体光刻投射曝光设备对准方法
  • [发明专利]金属带材料和太阳能电池集电用互连线-CN201180014328.3有效
  • 木村圭一;田中将元;大桥渡 - 新日本制铁株式会社
  • 2011-03-17 - 2012-12-05 - H01B5/02
  • 一种金属带材料,是包含具有心立方结构的金属的金属带材料,心立方结构的晶胞的晶轴<100>相对于该金属带材料的厚度方向取向差为15°以内而且相对于该金属带内的第1方向取向差为15°以内的<100>择优取向区域的面积率A1为60%~100%,将心立方结构的晶胞的晶轴<212>相对于该金属带材料的厚度方向取向差为15°以内而且相对于该金属带材料内的第1方向取向差为15°以内的<212>择优取向区域的面积率记为A2,<212>择优取向区域的面积率和所述<100>择优取向区域的面积率的合计A1+A2超过70%且为100%以下。
  • 金属材料太阳能电池集电用互连

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