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- [实用新型]偏光片剥离装置-CN201620534392.4有效
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何俊
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昆山国显光电有限公司
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2016-06-02
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2016-11-02
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G02F1/13
- 本实用新型涉及一种偏光片剥离装置。一种偏光片剥离装置，用于剥离贴覆在基板上的偏光片，包括载台，载台用于放置所述基板，载台上开设有至少一条插缝，用于限定偏光片的运动方向；滚轮组件，滚轮组件包括第一滚轮和第二滚轮，第一滚轮和第二滚轮相互紧靠平行设置在载台下方上述偏光片剥离装置，通过将偏光片的一角通过插缝插入滚轮之间，再通过滚轮的转动，带动偏光片的剥离，因此只需要较少的人工，就能够自动实现偏光片的彻底剥离，并且能够减少基板的损伤，有效地提高了效率。
- 偏光剥离装置
- [发明专利]标签制造装置-CN200580025424.2有效
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段上彰;小林贤治;杉下芳昭
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琳得科株式会社
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2005-07-20
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2007-06-27
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B31D1/02
- 本发明的标签制造装置具有：把卷筒纸(M)引导到规定的输出方向的导向板(17)；检查构成卷筒纸(M)的剥离片(S)上的标签(L)的检查装置(15)；在使剥离片(S)的输出方向部分地迂回而把标签(L)从剥离片(S)剥离，在输出方向下游侧前进规定距离的剥离片(S)上临时粘贴合格标签的转移装置(25)；以及在检测出不合格标签时对其进行回收的回收装置(22)。转移装置(25)调整剥离片(S)的迂回长度，以便把检测出不合格标签后的合格标签相对于前面的合格标签保持一定间隔。
- 标签制造装置
- [发明专利]保护膜形成用片卷及保护膜形成用片卷的制造方法-CN202110736630.5在审
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山本大辅
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琳得科株式会社
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2021-06-30
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2022-02-22
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C09J7/40
- 本发明提供一种不易产生痕迹的保护膜形成用片卷及其制造方法，该痕迹起因于会给保护膜带来痕迹的保护膜形成膜的卷绕。所述保护膜形成用片卷及其制造方法中，所述保护膜形成用片卷为将具有保护膜形成膜、设置在所述保护膜形成膜的一个面上的第一剥离膜、及设置在另一个面上的第二剥离膜的长条片卷绕而成的片卷，将从保护膜形成膜上剥离第一剥离膜的剥离力设为F1，将从保护膜形成膜上剥离第二剥离膜的剥离力设为F2时，F1＞F2，保护膜形成膜在10℃下的损耗角正切tanδ10为1.2以下，在使片卷的卷绕轴为铅直方向的方向上，当卷绕后的长条片受到重力作用时，将铅直方向的长条片的最大位移量设为A[mm]时，A/tanδ10为2.0以上。
- 保护膜形成用片卷制造方法
- [发明专利]静电吸附片材-CN201610217635.6在审
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小池弘;饭田诚一郎
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优泊公司
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2009-06-15
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2016-06-01
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G09F3/04
- 本发明涉及一种静电吸附片材。本发明提供一种吸附力的持续性高、吸附力不易受到湿度的影响、油墨的密合良好、且印刷工序中不会产生故障的静电吸附片材(iii)(1)。一种静电吸附片材(iii)(1)，其特征在于，其是由层叠体形成的静电吸附片材，该层叠体是由含有树脂薄膜层(A)(4)的标签层(i)(2)和含有剥离层(B)(5)及支承体层(C)(6)的剥离片材层(ii)(3)以树脂薄膜层(A)(4)和剥离层(B)(5)相接触的方式层叠而成的层叠体，所述树脂薄膜层(A)(4)在一面具备记录层(D)(7)，标签层(i)(2)和剥离片材层(ii)(3)的剥离强度为1～50g/cm，并且从剥离片材层(ii)(3)剥离的标签层(i)(2)能够静电吸附于被粘物上。
- 静电吸附
- [发明专利]静电吸附片材-CN201610217314.6在审
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小池弘;饭田诚一郎
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优泊公司
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2009-06-15
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2016-08-17
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B32B7/06
- 本发明涉及一种静电吸附片材。本发明提供一种吸附力的持续性高、吸附力不易受到湿度的影响、油墨的密合良好、且印刷工序中不会产生故障的静电吸附片材(iii)(1)。一种静电吸附片材(iii)(1)，其特征在于，其是由层叠体形成的静电吸附片材，该层叠体是由含有树脂薄膜层(A)(4)的标签层(i)(2)和含有剥离层(B)(5)及支承体层(C)(6)的剥离片材层(ii)(3)以树脂薄膜层(A)(4)和剥离层(B)(5)相接触的方式层叠而成的层叠体，所述树脂薄膜层(A)(4)在一面具备记录层(D)(7)，标签层(i)(2)和剥离片材层(ii)(3)的剥离强度为1～50g/cm，并且从剥离片材层(ii)(3)剥离的标签层(i)(2)能够静电吸附于被粘物上。
- 静电吸附
- [发明专利]陶瓷胚片制造工序用剥离膜-CN201380016120.4有效
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深谷知巳;市川慎也
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琳得科株式会社
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2013-02-04
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2017-09-05
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B28B1/30
- 本发明涉及一种陶瓷胚片制造工序用剥离膜(1)，其包括基材(11)及设置于基材(11)的一侧的剥离剂层(12)，其中剥离剂层(12)为包含活性能量射线固化性成分以及硅酮类成分的剥离剂组合物的固化物，剥离剂层(12)的与基材(11)相反侧的面的算数平均粗糙度(Ra)为8nm以下，且最大突起高度(Rp)为50nm以下，剥离剂层(12)的通过纳米压痕试验所测定的弹性模数为4.0GPa以上，基材(11)的与剥离剂层根据照此陶瓷胚片制造工序用剥离膜(1)，能够防止·抑制于陶瓷胚片产生针孔或厚度不均等缺陷，而且陶瓷胚片的剥离性也优异。
- 陶瓷制造工序剥离
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