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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种光刻机曝光控制方法以及光刻机、控制装置、存储介质-CN202310821998.0在审
发明人：陈超;涂先勤;林垂真;王鹏;蔡自立;零萍;敦士军 -专利权人：中山新诺科技股份有限公司
申请日： 2023-07-05 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机曝光控制方法以及光刻机、控制装置、存储介质，根据线路轨迹信息控制光刻发射模组偏摆，通过调节所述光刻发射模组的光线出射方向在晶圆表面曝光出线路图案层；所述通过调节所述光刻发射模组的光线出射方向在晶圆表面曝光出线路图案层包括：计算当前所述光线出射方向与基准方向之间的当前偏向角度θ，其中，所述基准方向为所述光刻发射模组正对所述晶圆表面的方向；根据当前偏向角度处理出当前曝光时间；控制所述光刻发射模组对当前照射位置进行曝光处理，并且曝光处理的时间为当前曝光时间；本设计能够均衡晶圆表面各个位置的曝光效果，提高芯片的成品质量。
一种光刻曝光控制方法以及装置存储介质

[发明专利]芯片光刻装置-CN202310671360.3在审
发明人：陈超;涂先勤;蔡自立;汪益立;零萍;敦士军;唐战备 -专利权人：中山新诺科技股份有限公司
申请日： 2023-06-07 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种芯片光刻装置，其包括：机台、位移平台、光刻机构和翻转机构；位移平台设置于机台，位移平台上设置有用于承载电路板的治具盘，治具盘的两侧均具有镂空的光刻位；光刻机构设置于机台，光刻机构用于对治具盘上的光刻位进行光刻作业；翻转机构设置于机台，位移平台能够带动治具盘运动靠近或远离翻转机构，翻转机构包括至少两个能够带动治具盘运动的轮转架，翻转机构用于带动各个轮转架依次翻转并依次运动靠近或远离位移平台。在翻转机构的持续运作下，各个轮转架上的治具盘能够有序地依次进行翻转并逐个前往光刻机构处进行光刻作业，从而使得光刻作业中的翻转过程不仅可以更加有序、高效地进行。
芯片光刻装置

[发明专利]用于光刻设备的曝光成型方法-CN202310671329.X在审
发明人：陈超;尚小兵;涂先勤;蔡自立;汪益立;零萍;陈锡媛 -专利权人：中山新诺科技股份有限公司
申请日： 2023-06-07 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于光刻设备的曝光成型方法，其包括：激光光源、引射系统、空间光调制器、成像系统、投射目标和对位系统，以及以下步骤；激光光源射出激光、将入射光进行调制并在之后将其引导进入成像系统，成像系统将入射光处理为成像光和检测光；对位系统连接有位移平台，投射目标安装于位移平台，对位系统根据照射于检测光的情况操作位移平台进行位置调整，并使得检测光可以对位准确。对位系统将会根据照射于检测位处的光线调整位移平台的位置，因此，位移平台将可以带动投射目标运动，并使得其保持与检测光的实时对位效果。
用于光刻设备曝光成型方法

[发明专利]光刻设备-CN202310773203.3在审
发明人：陈超;涂先勤;姜尧;王鹏;零萍;陈锡媛;许艳;林垂真;王晓 -专利权人：中山新诺科技股份有限公司
申请日： 2023-06-27 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备，其包括：机台、光刻机构、位移机构和调节机构，所述机台上设置有作业位；光刻机构设置于所述机台，所述光刻机构用于对所述作业位上的工件进行光刻作业；所述光刻机构连接有移动组件，所述移动组件能够带动所述光刻机构相对于所述作业位进行位置调节；位移机构设置于所述机台，所述位移机构连接有用于运载物料的载物盘，所述位移机构用于带动所述载物盘相对于所述作业位进行移动；调节机构连接于所述载物盘，所述调节机构用于调节所述载物盘和所述光刻机构之间的相对角度。通过调节机构对载物盘和光刻机构之间进行相对的角度调整，从而可以及时、有效地达到角度差的修正效果。
光刻设备

[发明专利]一种阵列图形绘制方法及系统-CN202111286402.9在审
发明人： 涂先勤;尹鑫;吴塞 -专利权人：杭州新诺微电子有限公司
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种阵列图形绘制方法，属于光刻技术领域，它解决了现有技术中图形绘制速度慢的问题。本阵列图形绘制方法，包含如下步骤，S1；读取矢量图文件；S2、将矢量图文件二值化；S3、提取图形中的轮廓；S4、将提取的轮廓与模板库中的轮廓进行匹配；S5、将匹配后的模板进行单元分组并记录各单元位置；S6、对单元分组图形进行精细化绘制；S7、将精细化绘制后的单元分组图形填充至步骤S5中记录的对应位置。本发明通过对矢量图进行处理，实现矢量图中单元阵列图形的提取，并对单元分组图形进行精细化绘制后，通过平移填充的方式恢复成光刻机可识别的位图，供光刻机曝光，利用本方法可大大节约绘图时间。
一种阵列图形绘制方法系统

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