|
钻瓜专利网为您找到相关结果 338378个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [实用新型]雷射加工系统-CN201621385843.9有效
-
罗晏明
-
盟立自动化股份有限公司
-
2016-12-16
-
2017-06-30
-
B23K26/36
- 本实用新型公开了一种雷射加工系统,包含有第一雷射光源、第二雷射光源、偏振片以及光耦合组件,所述第一雷射光源用以发射第一雷射光,所述第二雷射光源用以发射第二雷射光,所述第一雷射光与所述第二雷射光分别为两种不同种类的雷射光且具有两种不同的特性,所述偏振片用以偏振由所述第二雷射光源所发出的所述第二雷射光,所述光耦合组件用以接收且耦合由所述第一雷射光源所发出的所述第一雷射光与被所述偏振片所偏振的所述第二雷射光,以输出第三雷射光来加工工件,借此,本实用新型的雷射加工系统便可同时提升加工速度、优化加工质量且可增加材料吸收率。
- 雷射加工系统
- [发明专利]雷射焊接装置-CN201510561248.X在审
-
小山泰典
-
翊鼎光电股份有限公司
-
2015-09-07
-
2016-10-26
-
B23K26/21
- 本发明提供一种雷射焊接装置,无需确认雷射照射点的可视光光源,抑制输出功率为低功率,且结构相对简单。雷射焊接装置包括一雷射光源,发射一雷射光,该雷射光的波长是350nm~550nm的可视光,其中该雷射光源的输出功率是在预定值以下的低功率。而且,雷射光源为一蓝色雷射二极管,且该雷射光的波长是430nm~460nm。本发明的有益效果是其无须用以确认雷射照射点的可视光光源,且能将输出功率抑制在低功率。
- 雷射焊接装置
- [发明专利]雷射焊接装置-CN201610076646.7在审
-
小山泰典
-
翊鼎光电股份有限公司
-
2016-02-03
-
2016-10-26
-
B29C65/16
- 本发明提供一种雷射焊接装置,无需确认雷射照射点的可视光光源,抑制输出功率为低功率,且结构相对简单。雷射焊接装置包括一雷射光源,发射一雷射光,该雷射光的波长是350nm~550nm的可视光,其中该雷射光源的输出功率是在预定值以下的低功率。而且,雷射光源为一蓝光雷射二极管,且该雷射光的波长是430nm~460nm。本发明的有益效果是其无需用以确认雷射照射点的可视光光源,且能将输出功率抑制在低功率。
- 雷射焊接装置
- [实用新型]剥离设备-CN201620429028.1有效
-
-
-
2016-05-12
-
2017-01-11
-
B32B38/10
- 剥离设备包括一传输装置及一雷射光源。传输装置用以承载基板。雷射光源具有一有效光线区。雷射光源对有效光线区内发射雷射光。其中,传输装置带动基板至少两次通过雷射光源的有效光线区。本创作的剥离设备系藉由多次往返输送基板,而使雷射光源多次对基板上不同区域进行照射,最终完成本片基板的照射,如此,剥离设备就不受面板尺寸而增加制造成本。
- 剥离设备
- [发明专利]基板的加工设备及其加工方法-CN201210338025.3无效
-
施俊良;施国彰
-
微劲科技股份有限公司
-
2012-09-13
-
2014-03-26
-
B23K26/36
- 本发明提出一种基板的加工设备及其加工方法,该基板的加工设备包含工作平台、雷射装置以及光源路径控制装置。光源路径控制装置配置在雷射装置的一侧,光源路径控制装置包含第一控制模块以及第二控制模块。第一控制模块具有第一镜片以及调整第一镜片的第一角度的第一驱动模块,第二控制模块具有第二镜片以及调整第二镜片的第二角度的第二驱动模块;其中,雷射装置所发射出的雷射光行经第一镜片与第二镜片后,雷射光在工作平台上的基板加工出透光图形本发明提出一种基板的加工设备及其加工方法,可改变雷射光的光源路径使雷射光可被投射在工作平台上的基板的任意一位置,以助于直接在基板的不同位置上加工出透光图形。
- 加工设备及其方法
- [实用新型]雷射剥离装置-CN202121923337.1有效
-
王金源
-
源台精密科技股份有限公司;青牛科技股份有限公司
-
2021-08-17
-
2022-03-08
-
H01L21/683
- 一种雷射剥离装置,包括有一用以输送工件的载台、一可产生雷射光的雷射光源及一量测模组。雷射光源通过一扫描器输出雷射光,此扫描器可调整雷射光输出的焦距以控制焦点位置。量测模组包括有一量测单元及一与扫描器电性连接的控制单元,量测单元至少可用以量测其与工件之间的距离而生成一量测资讯,并传送至控制单元,载台可在量测单元与扫描器之间移动,而控制单元依量测资讯控制扫描器调整雷射光输出的焦距,使雷射光的焦点总是落在工件的表面。本实用新型可在工件被雷射光剥离的前先量测其形状,以使雷射光的焦点准确落在工件上,达到提升良率的功效。
- 雷射剥离装置
- [发明专利]高功率光纤雷射结构-CN202011283846.2在审
-
李清泉;苏信嘉;何淙润
-
虹竣科技有限公司
-
2020-11-17
-
2022-05-17
-
H01S3/042
- 一种高功率光纤雷射结构,为一应用于高功率雷射放大器的泵浦源技术,主要包括一种子光源的雷射主波长落在~1020nm的雷射二极管,此光源将经过一光隔离器进入由一泵浦源激光器、一光结合器及一镱掺杂的增益光纤组成的光纤式雷射放大器,并以一局部散热该增益光纤的降温装置实现硅基光纤中输出高功率1010~1020 nm雷射作为泵浦源之技术,而利用此散热装置调变该增益光纤周围温度。藉由此高功率雷射泵浦源设计减少增益光纤所产生的自发辐射放大(amplified spontaneous emission,ASE)与降低泵浦源在增益光纤端产生的热累积。
- 功率光纤雷射结构
|