|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 3416288个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]制造光盘片模板的方法-CN201110119660.8无效
-
张俊诚
-
铼德科技股份有限公司
-
2011-05-04
-
2012-07-18
-
G11B7/26
- 本发明在此揭露一种制造光盘片模板的方法，其包含以下步骤：(a)形成无机光阻层于基材上；(b)形成有机光阻层于无机光阻层上；(c)以激光照射有机光阻层以及无机光阻层，以形成无机光阻层的第一曝光区以及有机光阻层的第二曝光区；(d)移除无机光阻层的第一曝光区以及有机光阻层的第二曝光区，以形成图案化无机光阻层以及图案化有机光阻层；(e)自图案化无机光阻层上移除图案化有机光阻层；(f)保形地形成一剥离层覆盖于图案化无机光阻层之上；(g)形成一金属层于剥离层上；以及(h)将金属层与剥离层分离。
- 制造盘片模板方法
- [发明专利]阵列基板制造方法-CN201610709383.9有效
-
豆婷;李强
-
深圳市华星光电技术有限公司
-
2016-08-23
-
2018-09-14
-
G03F7/20
- 本发明提供阵列基板制造方法，其包括在基础膜层表面依次形成第一光阻层及第二光阻层；在所述第二光阻层上方形成第一光罩并曝光以对第二光阻层图案化形成图案化的第二光阻层；其中，所述图案化的第二光阻层中每一图案的轮廓大于预设图案的轮廓，对图案化的第二光阻层进行显影，并通过显影过程调整所述图案化的第二光阻层上每一图案的轮廓，以使图案的尺寸与预设图案的轮廓相同；在所述第一光阻层上方形成第二光罩并曝光以图案化的第一光阻层，去除未被所述图案化的第二光阻层遮挡的部分并露出部分基础膜层；根据图案化的第一光阻层图案化所述基础摸层；去除图案化的第一光阻层及图案化的第二光阻层。
- 阵列制造方法
- [发明专利]薄膜晶体管阵列基板及其制作方法-CN202110398296.7在审
-
严婷婷;魏祥利
-
昆山龙腾光电股份有限公司
-
2021-04-14
-
2021-06-11
-
H01L27/12
- 一种薄膜晶体管阵列基板及其制作方法，包括：在金属氧化物薄膜上形成第一光阻层，并对第一光阻层进行曝光、显影，以在栅极的上方保留第一光阻层而形成第一光阻部，其余位置的第一光阻层被去除；在金属氧化物薄膜上形成覆盖第一光阻部的第二金属层；在第二金属层上形成第二光阻层，并对第二光阻层进行曝光、显影，形成相互间隔开的第二光阻部和第三光阻部，其中第二光阻部和第三光阻部之间间隔形成一开口；利用第二光阻部和第三光阻部作为遮罩，对第二金属层和金属氧化物薄膜进行刻蚀，第二金属层在刻蚀之后形成相互间隔的源极和漏极，金属氧化物薄膜在刻蚀之后形成金属氧化物有源层；去除第一光阻部、第二光阻部和第三光阻部。
- 薄膜晶体管阵列及其制作方法
- [发明专利]电容制造方法-CN200510121258.8有效
-
颜硕廷
-
群康科技（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司
-
2005-12-25
-
2007-06-27
-
H01G4/00
- 一种电容制造方法，其包括如下步骤：提供一基板，依次沉积一第一金属层、一绝缘层和一第一光阻层；提供一第一光罩，其包括至少二透光率不同的透光区，利用该第一光罩对该第一光阻层曝光，并显影该第一光阻层，形成厚度不同的第一光阻图案；蚀刻该第一光阻图案和部分绝缘层，形成厚度不同的绝缘层；依次沉积一第二金属层和一第二光阻层于该剩余绝缘层上；利用一第二光罩对该第二光阻层进行曝光，并显影该第二光阻层，形成第二光阻图案；蚀刻未被该第二光阻图案覆盖的部分第二金属层，形成一金属图案；去除该第二光阻图案。
- 电容制造方法
- [发明专利]一种显示面板的制备方法及显示面板-CN202111629085.6在审
-
陈钦盛
-
TCL华星光电技术有限公司
-
2021-12-28
-
2022-04-12
-
H01L27/12
- 本申请实施例公开了一种显示面板的制备方法及显示面板，显示面板的制备方法，包括以下制备步骤：在基板上制备一层金属层；在所述金属层上制备光阻层，以所述光阻层为掩膜板刻蚀去除裸露于所述光阻层外的金属层；刻蚀所述光阻层使其成为间隔设置的第一光阻单元和第二光阻单元；在所述第一光阻单元、所述第二光阻单元、刻蚀后的所述金属层以及所述基板上制备导电材料形成导电层；去除所述第一光阻单元、所述第二光阻单元，同时去除覆盖在所述第一光阻单元和所述第二光阻单元上的导电层；刻蚀并去除裸露于所述导电层外的金属层形成间隔设置的第一金属单元和第二金属单元
- 一种显示面板制备方法
|
