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[实用新型]镀膜材料保护装置、镀膜材料密封腔室及真空镀膜设备-CN202123369705.5有效
发明人：刘玮;朱昆;曹健辉;陈惠君;颜学庆;刘晓兰 -专利权人：广东省新兴激光等离子体技术研究院;等离子体装备科技（广州）有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种镀膜材料保护装置、镀膜材料密封腔室及真空镀膜设备，所述镀膜材料保护装置应用于对真空镀膜设备的镀膜材料进行密封保护；其中真空镀膜设备设有真空腔室，以及连接真空腔室的镀膜材料腔室；镀膜材料保护装置包括：嵌入在镀膜材料腔室内的密封腔室，以及与密封腔室靠近真空腔室的一侧密封连接的隔断装置；其中，密封腔室用于放置镀膜材料；隔断装置具有打开或者关闭两种状态下，分别对应于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；该技术方案，通过密封腔室内对真空镀膜设备的镀膜材料进行密封保护，避免了镀膜材料与空气接触发生反应或者吸附污染，保证了镀膜材料的纯度，无需频繁清洁镀膜材料，提高了镀膜效率，提升了镀膜效果。
镀膜材料保护装置密封真空镀膜设备

[发明专利]镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法-CN202111639074.6有效
发明人：刘玮;朱昆;曹健辉;陈惠君;颜学庆;刘晓兰 -专利权人：广东省新兴激光等离子体技术研究院;等离子体装备科技（广州）有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请涉及一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法，所述镀膜材料存放装置包括：连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；设于密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；连接真空阀门的驱动装置，用于驱动打开或者关闭真空阀门；连接驱动装置的控制装置，用于控制驱动装置在镀膜过程中打开真空阀门，在镀膜后关闭真空阀门，对密封腔室内的镀膜材料进行密封保护；该技术方案，避免了密封腔室内的镀膜材料与空气接触发生反应或者被吸附污染，保证了镀膜材料的纯度，使得在镀膜过程中，无需频繁清洁镀膜材料，提高了镀膜效率，也提升了镀膜效果。
镀膜材料存放装置真空镀膜设备方法

[实用新型]一种智能控制的真空镀膜系统-CN201820495283.5有效
发明人：苏文校 -专利权人：东莞市优上纳米科技有限公司
申请日： 2018-04-09 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种智能控制的真空镀膜系统。该智能控制的真空镀膜系统，包括依次连通的镀膜材料雾化装置、镀膜缸体、冷凝井和真空泵，所述镀膜材料雾化装置内部设有镀膜材料加热装置，用于对镀膜材料进行加热，镀膜缸体两侧设有进料口和出料口，进料口位置设有镀膜材料浓度检测装置以及电磁阀，冷凝井进气口设有气体温度和流量传感器，镀膜材料加热装置、镀膜材料浓度检测装置、电磁阀和气体温度和流量传感器分别与控制系统电性连接。
镀膜材料真空镀膜系统智能控制浓度检测装置流量传感器加热装置雾化装置电磁阀冷凝镀膜缸体进气口真空镀膜技术本实用新型进料口位置电性连接控制系统依次连通出料口进料口真空泵加热

[发明专利]一种无掩膜版的图案化薄膜制备方法-CN202110493632.6在审
发明人：刘晓燕;周伟家;张婷;房国鑫;刘宏 -专利权人：济南大学
申请日： 2021-05-07 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明采用激光直写将镀膜材料镀于预处理后的待镀基底上，得到图案化薄膜。当待镀基底位于镀膜材料的上方时，镀膜材料上放上待镀基底，按照设定的图形激光照射，激光透过待镀基底，打在片状/块状镀膜材料上，被打到的镀膜材料形成材料的团簇，溅射到待镀基底上。当待镀基底位于镀膜材料的下方时，在待镀基底上放上镀膜材料，按照设定的图形激光照射，激光打到镀膜材料上，并穿透镀膜材料，该镀膜材料作为镀膜源形成材料的团簇，溅射到待镀基底上。本发明的方法不使用掩膜版，简单实用，成本低廉，并且可以简单的做到各种尺寸和材质基底的图案化镀膜。
一种无掩膜版图案薄膜制备方法

[发明专利]等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头-CN202010361456.6在审
发明人：丁雪苗;赵芝强;赵公魄 -专利权人：珠海宝丰堂电子科技有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。将等离子镀膜喷头设置于待镀膜的表面的上方，使得等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。等离子气体进入到等离子镀膜喷头的喷孔内，镀膜材料能够由等离子镀膜喷头侧壁上的进料孔进入到喷孔内，便于通过喷孔内的等离子气体离子化镀膜材料。由于镀膜材料一般为液态，由于进料孔至喷射口之间的喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构，进而能够有效延长镀膜材料由进料孔流向喷射口的路径，进而延长等离子气体与镀膜材料的作用时间，便于镀膜材料被充分电离，进而便于提高对待镀膜的表面镀膜的稳定性，提高镀膜材料的利用率。
等离子镀膜设备喷头

[实用新型]等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头-CN202020719004.6有效
发明人：丁雪苗;赵芝强;赵公魄 -专利权人：珠海宝丰堂电子科技有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。将等离子镀膜喷头设置于待镀膜的表面的上方，使得等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。等离子气体进入到等离子镀膜喷头的喷孔内，镀膜材料能够由等离子镀膜喷头侧壁上的进料孔进入到喷孔内，便于通过喷孔内的等离子气体离子化镀膜材料。由于镀膜材料一般为液态，由于进料孔至喷射口之间的喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构，进而能够有效延长镀膜材料由进料孔流向喷射口的路径，进而延长等离子气体与镀膜材料的作用时间，便于镀膜材料被充分电离，进而便于提高对待镀膜的表面镀膜的稳定性，提高镀膜材料的利用率。
等离子镀膜设备喷头

[发明专利]通过分光光度计测出透过率计算镀膜膜层厚度的方法-CN202310345930.X在审
发明人：周荣铿 -专利权人：贵州铜仁旭晶光电科技有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明公开一种通过分光光度计测出透过率计算镀膜膜层厚度的方法，其包括测出未镀膜基底的未镀膜透过曲线及镀膜材料的镀膜透过曲线；获取未镀膜基底对应长波方向相邻波长的透过率，未镀膜基底对应长波方向相邻波长的透过率为取镀膜透过曲线极值点对应的未镀膜透过曲线于长波方向相邻波长下的透过率；计算未镀膜基底的单面反射率系数和折射率；获取镀膜材料对应长波方向相邻波长的透过率；计算镀膜材料的最值透过率系数，镀膜材料的最值透过率系数为镀膜透过曲线达极值点时的最值透过率系数；计算镀膜材料的折射率；计算镀膜材料的膜层厚度。本发明实现获得于光学镀膜镀膜材料的精确膜层厚度的计算过程和公式，该方法对于光学镀介质膜具有普适性。
通过分光光度计测出透过计算镀膜厚度方法

[发明专利]通过分光光度计测出反射率计算镀膜膜层厚度的方法-CN202310345812.9在审
发明人：周荣铿 -专利权人：贵州铜仁旭晶光电科技有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明公开一种通过分光光度计测出反射率计算镀膜膜层厚度的方法，其包括测出未镀膜基底的未镀膜反射曲线及镀膜材料的镀膜反射曲线；获取未镀膜基底对应长波方向相邻波长的反射率，其中未镀膜基底对应长波方向相邻波长的反射率为取镀膜反射曲线的极值点对应的未镀膜反射曲线于长波方向相邻两个波长下的反射率；计算未镀膜基底的折射率；获取镀膜材料对应长波方向相邻波长的反射率；计算镀膜材料的最值反射率系数，其中镀膜材料的最值反射率系数为镀膜反射曲线达到极值点时的最值反射率系数；计算镀膜材料的折射率；计算镀膜材料的膜层厚度本发明实现获得于光学镀膜镀膜材料的精确膜层厚度的计算过程和公式，该方法对于光学镀介质膜具有普适性。
通过分光光度计测出反射率计算镀膜厚度方法

[发明专利]通过分光光度计测出反射率计算镀膜材料折射率的方法-CN202310340468.4在审
发明人：周荣铿 -专利权人：贵州铜仁旭晶光电科技有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01N21/41 文献下载
摘要：本发明公开一种通过分光光度计测出反射率计算镀膜材料折射率的方法，其包括通过分光光度计测出未镀膜基底的未镀膜反射曲线和镀膜材料的单层镀膜反射曲线；获取未镀膜基底的反射率，其中未镀膜基底的反射率为由单层镀膜反射曲线的极值点对应的未镀膜反射曲线于相应波长下的反射率；计算未镀膜基底的折射率；获取镀膜材料的反射率，其中镀膜材料的反射率为单层镀膜反射曲线的极值点于相应波长下的反射率；计算镀膜材料的最值反射率系数，其中镀膜材料的最值反射率系数为单层镀膜反射曲线达到极值点时的最值反射率系数；计算镀膜材料的折射率。本发明实现获得对单层镀膜材料的精确折射率的计算过程和公式，该方法对于光学介质薄膜分析具有普适性。
通过分光光度计测出反射率计算镀膜材料折射率方法

[发明专利]镀膜源、真空镀膜装置、有机EL面板的制造方法和有机EL面板-CN200510071935.X无效
发明人：增田大辅;安彦浩志;梅津茂裕 -专利权人：日本东北先锋公司
申请日： 2005-05-23 - 公布日： 2005-12-07 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明可实现获得良好的图案形成精度或者膜厚均匀性的镀膜。一种在基板(1)的被镀膜面(1a)上形成薄膜的真空镀膜装置的镀膜源(10)，具有：材料容纳部(11)，其容纳镀膜材料；加热装置(12)，其对材料容纳部(11)内的镀膜材料进行加热；以及镀膜流控制部(13)，其设置在材料容纳部(11)的喷出口，控制镀膜流的方向；镀膜流控制部(13)使镀膜流在被镀膜面(1a)相对镀膜源(10)的移动方向(X方向)上具有强指向性。
镀膜真空镀膜装置有机 el 面板制造方法

[发明专利]一种蒸镀设备和坩埚装置-CN201910500589.4在审
发明人：孙晓午 -专利权人：惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司
申请日： 2019-06-11 - 公布日： 2019-10-22 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请公开了一种蒸镀设备和坩埚装置，所述蒸镀设备包括镀膜室、设置于所述镀膜室底部，盛装且加热镀膜材料的坩埚装置以及设置于所述镀膜室顶部且与所述坩埚相对，夹持待镀膜产品的夹具；所述坩埚装置包括盛装且加热镀膜材料的坩埚，以及控制所述坩埚内的镀膜材料进行振动的振动装置；其中，所述镀膜材料在振动装置的振动下，在坩埚内移动。震动装置对镀膜材料不断的进行震动，使得粉末状的镀膜材料不断的移动，将坩埚直接加热处的热量不断的带到坩埚的其他部位，使得坩埚内的镀膜材料受热均匀，坩埚内不同位置的镀膜材料的升华速度一致，大大提高蒸镀到待镀膜产品上的材料成膜均一性
坩埚镀膜材料坩埚装置蒸镀设备镀膜室镀膜产品加热镀膜振动装置成膜蒸镀盛装夹具受热均匀速度一致震动装置直接加热均一性移动夹持升华震动申请

[发明专利]镀膜材料的成型方法-CN201811406624.8在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;曹欢欢 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2018-11-23 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： B23P15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种镀膜材料的成型方法，包括步骤：提供镀膜材料；对所述镀膜材料进行挤压处理；经过挤压处理后，对所述镀膜材料进行拉拔处理；经过拉拔处理后，对所述镀膜材料进行切段。本发明直接对镀膜材料进行挤压、拉拔以及切段的成型处理，降低了镀膜材料的二次污染的风险，同时加工简单、易于生产管控，产品的合格率高。
镀膜材料成型方法

[发明专利]通过分光光度计测出透过率计算镀膜材料折射率的方法-CN202310340204.9在审
发明人：周荣铿 -专利权人：贵州铜仁旭晶光电科技有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G01N21/41 文献下载
摘要：本发明公开一种通过分光光度计测出透过率计算镀膜材料折射率的方法，其包括通过分光光度计测出未镀膜基底的未镀膜透过曲线、及镀膜材料的单层镀膜透过曲线；获取未镀膜基底的透过率，其中未镀膜基底的透过率为取单层镀膜透过曲线的极值点对应的未镀膜透过曲线于相应波长下的透过率；计算未镀膜基底的单面反射率系数；计算未镀膜基底的折射率；获取镀膜材料的透过率，其中镀膜材料的透过率为单层镀膜透过曲线的极值点于相应波长下的透过率；计算镀膜材料的最值透过率系数；计算镀膜材料的折射率。本发明基于光学薄膜原理，实现获得对单层镀膜材料的精确折射率的计算过程和公式，该方法对于光学介质薄膜分析具有普适性。
通过分光光度计测出透过计算镀膜材料折射率方法

[发明专利]一种真空镀膜设备及其真空镀膜方法-CN201810746850.4有效
发明人：龙巍 -专利权人：德运创鑫（北京）科技有限公司
申请日： 2018-07-09 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请提供一种真空镀膜设备及其真空镀膜方法，该真空镀膜设备，包括：镀膜材料放置件，用于放置镀膜材料；基板承载装置，用于承载待镀膜基板；气体喷射装置，用于喷射气体；其中，从所述气体喷射装置喷射的气体分子与从所述镀膜材料放置件出射的所述镀膜材料的粒子碰撞后沉积在所述待镀膜基板上本申请中的设备和方法可用于真空镀膜。
一种真空镀膜设备及其方法

[发明专利]镀膜装置以及镀膜方法-CN202111436450.1在审
发明人：张文强;时浩然;饶轶 -专利权人：歌尔股份有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本公开实施例公开了一种镀膜装置以及镀膜方法。该装置包括：镀膜材料发生装置，所述镀膜材料发生装置被构造为用于产生镀膜材料；承载装置，所述镀膜材料发生装置与所述承载装置相对，所述承载装置被构造为用于承载待镀膜件；遮挡部，所述遮挡部位于所述承载装置与所述镀膜材料发生装置之间；以及移动装置，所述移动装置被构造为用于移动所述遮挡部，以使所述遮挡部能够遮挡待镀膜件的不同部位。
镀膜装置以及方法

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