专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高可靠性型化学钯液及无氰化学镍钯金加工方法-CN201410145285.8有效
  • 丁启恒 - 深圳市荣伟业电子有限公司
  • 2014-04-11 - 2017-03-22 - C23C18/42
  • 本发明公开了高可靠性型化学钯液及无氰化学镍钯金加工方法。高可靠性型化学钯液,主要是由如下浓度比的各成份构成络合剂0.20‑0.40mol/L;氯化钯0.004‑0.010mol/L;添加剂20‑40ppm;其余为水,其中,液的PH值为4.5‑7.0。一种无氰化学镍钯金加工方法,浸钯时采用前述的液,浸钯时的温度为35‑45℃,时间为3‑7min。本发明高可靠性型化学钯液采用新的配方比例,以置换方式在PCB板等工件上完成化学钯,可以使后序的浸金过程中,浸金的厚度达到0.02‑0.03μm,具有成本低、高可靠性,其中的浸金过程中,采用无氰金盐,具有无公害的特点
  • 可靠性化学镀钯液氰化学镍钯金加工方法
  • [发明专利]改善热传导的LED芯片-CN201210045092.6有效
  • 郭文平;黄慧诗;谢志坚;柯志杰;邓群雄 - 江苏新广联科技股份有限公司
  • 2012-02-28 - 2012-07-11 - H01L33/10
  • 按照本发明提供的技术方案,所述改善热传导的LED芯片,包括LED芯片本体,所述LED芯片本体包括衬底及位于所述衬底上方的P电极与N电极;所述衬底对应设置P电极与N电极另一侧表面有反射层,所述反射层上设有层;衬底通过层与导热基板连接。本发明LED芯片本体包括衬底,衬底上蒸有反射层,反射层上蒸层,衬底通过层与导热基板连接成一体;LED芯片本体工作时产生的热量能通过导热基板及时高效的传导出去,降低了LED芯片自身的热阻,提高了
  • 改善热传导led芯片
  • [实用新型]一种化学镍钯金生产线-CN201920475612.4有效
  • 张毅;张新学;刘龙平;肖开球;李兴海;贺炳祥 - 深圳市互连微电子材料有限公司
  • 2019-04-04 - 2020-05-19 - C23C18/32
  • 本实用新型提供了一种化学镍钯金生产线,包括:输送机构;依次相邻设置在所述输送机构运动路径上的前处理区、化学镍钯金区和后处理区。本实用新型将化学镍钯金生产中的前处理、化学镍钯金和后处理整合到一条生产线上,不仅能够节省人力,缩短处理流程,而且能够降低生产线的制造及使用成本。本实用新型涉及到软板化学镍、硬板化学镍、还原钯、置换钯、还原金以及置换金,生产线中设置了三个镍槽、三个钯槽、三个金槽。本实用新型中一条生产线能整合化学镍钯金生产工艺中的所有需求,能降低制造成本及使用成本。
  • 一种化学镍钯金生产线
  • [发明专利]一种外延层刚性-柔性衬底无机转移方法-CN201810386947.9有效
  • 范襄;于振海;沈静曼;付坤;雷刚;王凯;马聚沙;王训春;杨广 - 上海空间电源研究所
  • 2018-04-26 - 2020-08-11 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种外延层刚性‑柔性衬底无机转移方法,该方法包含:分别在外延片和柔性衬底的表面合金属层,并进行热压,得到柔性衬底‑外延片;在刚性支撑衬底和柔性衬底‑外延片的柔性衬底上分别制无机合金属层,并进行热压可逆;将外延片制备成太阳电池器件;通过加热进行刚性支撑衬底剥离,完成外延层刚性‑柔性衬底转移。其中,外延片包含:生长衬底,以及在该生长衬底上生长的太阳电池材料;太阳电池器件的刚性支撑衬底的热剥离温度不低于合金属层材料的熔点。本发明的方法在过程无有机污染,实现一步外延‑转移,转移的外延层厚度均匀一致,与现有太阳电池器件工艺兼容性好。
  • 一种外延刚性柔性衬底无机转移方法
  • [实用新型]一种入墙式迷你HDMI对接头-CN201720462710.5有效
  • 湛帮强 - 中山合泰电子有限公司
  • 2017-04-28 - 2017-11-28 - H01R13/02
  • 本实用新型涉及HDMI线技术领域,特指一种入墙式迷你HDMI对接头,包括入墙式HDMI对接母头与入墙式HDMI对接公头,入墙式HDMI对接母头与入墙式HDMI对接公头通过常规HDMI线材对应连接,入墙式HDMI对接母头包括塞子、杜邦2.0镍端子与胶壳,杜邦2.0镍端子一端通过塞子与常规HDMI线材焊接,杜邦2.0镍端子另一端与胶壳插接,入墙式HDMI对接公头包括芯套、金属螺纹外壳与尾座,尾座一端穿于金属螺纹外壳与芯套插接,并通过卡装置对应卡紧,尾座另一端与常规HDMI线材焊接。母座内部采用杜邦2.0镍端子,具有抗氧化、抗磨损、保证信号传输的特点,且体积小,不会阻碍管道布线,待线路布设好后,再通过公座与设备对接,操作简单方便,有效解决HDMI布暗线工程困难的问题。
  • 一种入墙式迷你hdmi接头
  • [发明专利]功率MOSFET的高可靠性封装结构及封装工艺-CN202111553018.0在审
  • 丁浩宸;杨超;陈志阳;徐彩云 - 无锡惠芯半导体有限公司
  • 2021-12-17 - 2022-03-29 - H01L23/367
  • 本发明涉及一种功率MOSFET的高可靠性封装结构及封装工艺,该结构包括MOSFET芯片、第一互连层、底覆陶瓷基板、第二互连层、顶覆陶瓷基板、引线框架、灌封胶和管壳。本发明将标准TO封装中的基板替换为三层结构的底覆陶瓷基板,将铝线互连以顶覆陶瓷基板的布线层互连替代。一方面通过双基板外金属层裸露于管壳表面,直接与散热器相连构成双面散热结构,减小MOSFET的封装热阻,另一方面以层互连替代线可以减小功率回路电感,同时陶瓷层的引入提升器件结构对热膨胀的耐受力,并以石墨烯材料的高导热性能提升器件散热效率
  • 功率mosfet可靠性封装结构工艺
  • [发明专利]曲面玻璃的制备方法-CN201710839757.3有效
  • 刘伟 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2017-09-18 - 2022-03-01 - C23C14/10
  • 本发明提供了一种曲面玻璃的制备方法,包括:提供平板玻璃和侧边玻璃,在所述平板玻璃和侧边玻璃的待侧面各制一SiO2层,使所述平板玻璃和侧边玻璃的侧面平坦化;将所述平坦化的平板玻璃和侧边玻璃进行真空热键,然后采用CNC刀具对后的玻璃结合体进行切削,以得到所需外形的曲面玻璃。本发明在将用于制备曲面玻璃的玻璃基材进行真空热键之前,先在预处各制一SiO2层,这样可降低玻璃基材的表面粗糙度,提升其平坦程度,从而在进行合时避免或降低出现气泡,提高了强度。
  • 曲面玻璃制备方法
  • [实用新型]一种铜线IC芯片封装件-CN200920144119.0有效
  • 常红军;郭小伟;慕蔚 - 天水华天科技股份有限公司
  • 2009-05-11 - 2010-02-10 - H01L23/488
  • 一种铜线IC芯片封装件,包括引线框架载体、引线框架内引脚、引线框架外引脚、塑封体、粘片胶、IC芯片。IC芯片的焊盘上预植一个金球,在金球上堆叠球,拱丝拉弧在引线框架内引脚上打一个铜焊点,使IC芯片的焊盘与引线框架引脚相连。既解决了铜线直接在IC芯片焊盘上打线出现弹坑的难题,又可在多引脚封装中应用,效果很好。本实用新型不仅可以推广到多引脚封装,而且还可以推广到其它高端封装,实现铜线代替金线,节约金线线成本更加明显。
  • 一种铜线ic芯片封装
  • [实用新型]一种功率器件模块-CN202121929906.3有效
  • 谢峰;张孟杰;吕一航 - 深圳市禾望电气股份有限公司
  • 2021-08-17 - 2022-02-22 - H01L25/07
  • 本申请公开一种功率器件模块,包括第一直接衬底,安装于所述第一直接衬底上的第一二极管和第一功率器件,所述第一二极管与所述第一功率器件反并联连接;第二直接衬底,安装于所述第二直接衬底上的第二二极管和第二功率器件本申请通过在直接衬底上设置二极管和功率器件的数量不相同,在应用于新能源发电领域时,能够减少功率器件模块的并联,避免功率器件的浪费。
  • 一种功率器件模块
  • [发明专利]单晶丝的制备方法-CN200810017812.1无效
  • 丁雨田;曹军;胡勇;许广济;寇生中 - 兰州理工大学
  • 2008-03-19 - 2009-09-09 - B21C1/00
  • 单晶丝的制备方法,所述的单晶丝的原材料为,其步骤为:采用高真空炉将纯度高于99.995%高纯熔化,升温到1100~1180℃,精炼60~120分钟,整个熔炼过程采用高纯氩气保护,并采用定向凝固方式拉制φ4~φ8mm单晶杆,然后冷加工至φ0.95~φ1.102mm,每道次拉拔加工率为15~25%,然后分为47~70个道次,采用每道次加工率为7.59~17.82%将单晶杆拉制0.020~0.05mm,拉丝时温度为35~45℃,将单晶丝表面采用超声波清洗,将清洗后的单晶丝进行热处理,采用H2+Ar2保护,温度为410~425℃,时间为0.7~2.0s
  • 单晶铜键合丝制备方法

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