专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]金属氧化物薄膜的制备方法-CN201911114758.7在审
  • 彭钊 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2019-11-14 - 2020-05-01 - C23C18/12
  • 一种金属氧化物薄膜的制备方法,所述方法包括:提供一金属氧化物的一前驱盐类;将所述前驱盐类与一促进剂、一溶剂混合均匀得到一前驱盐类溶液;将所述前驱盐类溶液涂布于一基板,并去除多余的所述前驱盐类溶液形成一前驱物膜层;以及以一烘烤温度对所述基板上的所述前驱物膜层进行一烘烤程序,所述烘烤温度为不超过200℃,以形成所述前驱盐类对应的所述金属氧化物薄膜。还提供一种以所述的方法制备而得的金属氧化物薄膜。
  • 金属氧化物薄膜制备方法
  • [发明专利]多晶硅的制造方法-CN200510080160.2有效
  • 彭尧 - 中华映管股份有限公司
  • 2005-06-30 - 2007-01-03 - H01L21/02
  • 接着,于非晶硅层上形成缓冲层,且于缓冲层上涂布金属催化溶液,其中此金属催化溶液包括金属盐类与溶剂。然后,进行烘烤,以移除金属催化溶液内的溶剂,使金属盐类附着于缓冲层表面。接着,进行退火处理,以使金属盐类金属离子通过缓冲层进入非晶硅层内,并诱导非晶硅层结晶成为多晶硅层。之后,移除缓冲层及其上所残留的金属盐类。此方法可有效地避免多晶硅层内残留过多的金属硅化物或金属原子,进而提升多晶硅层的电性能。
  • 多晶制造方法
  • [发明专利]聚谷氨酸或其盐类处理水中重金属的应用-CN200710187463.3有效
  • 臼井义雄 - 臼井义雄
  • 2007-11-27 - 2008-05-07 - C02F1/42
  • 聚谷氨酸或其盐类处理水中重金属的应用,其特征在于所述应用包括在弱碱性条件下,用聚谷氨酸或其盐类、或以聚谷氨酸为原料的凝集剂去除水或水体系中的重金属离子。本发明拓展了聚谷氨酸或其盐类,以及含聚谷氨酸或其盐类的凝集剂的应用范围,通过改变水和水体系的酸碱环境,对水或水体系中的重金属进行有效去除,实现处理水体的安全排放,使用方法简单,聚谷氨酸或其盐类的用量少,能够实现大体积水系的重金属脱除处理。本发明可用于各种工业水体、景观水体、生活水体系的重金属的脱除处理。
  • 谷氨酸盐类处理水中重金属应用
  • [发明专利]超支化微晶成核剂组合物及应用-CN202110797993.X有效
  • 李波;梁胜轲;杜中杰;金华;王武聪;孙佩鑫;缪徐然 - 中化石化销售有限公司
  • 2021-07-15 - 2023-09-19 - C08K5/098
  • 超支化微晶成核剂含有有机金属类成核剂,超支化芳香族聚酯,可选择性的含有脂肪酸酰胺。通过超支化芳香聚酯的三维空间结构和表面大量活性基团与有机金属盐类成核剂之间的相互作用,使得超支化聚合物和有机金属盐类成核在熔融加工过程中形成共生微晶,再通过脂肪酸酰胺调节超支化微晶和基体树脂的相容性,提高有机金属盐类成核剂在基体树脂中的分散程度超支化微晶成核剂组合物克服了一般有机金属盐类成核剂熔点过高、与基体树脂不相容、分散性低等缺点,增强了现有有机金属盐类成核剂的成核剂效果,改善塑料制品的力学和耐热性能。
  • 超支化微晶成核组合应用
  • [发明专利]参考电极-CN200810007091.6有效
  • 杜佾璋;吴邦豪;蔡丽端;萧敻 - 财团法人工业技术研究院
  • 2008-02-02 - 2009-08-05 - G01N27/30
  • 本发明公开了一种参考电极,包括一液态电解质,该液态电解质包括水、沸点及分子体积都大于水的水溶性有机物与一离子性盐类;一固态离子性盐类晶体,位于该液态电解质中,其中该固态离子性盐类晶体为该离子性盐类未解离的晶体;一金属/金属盐复合层,与该液态电解质接触;一外部线路,连接该金属/金属盐复合层;一绝缘外壳,用以容纳该液态电解质;以及一纳米多孔接合结构,埋设于该绝缘外壳中以接触该液态电解质,其中该纳米多孔接合结构的孔径大小为大于该离子性盐类的离子直径
  • 参考电极
  • [发明专利]电镀锡及锡镍合金用添加剂-CN200510122245.2无效
  • 单忠强;陈政;田建华 - 天津大学
  • 2005-12-08 - 2006-07-19 - C25D3/32
  • 本发明属于电化学沉积金属及合金的技术领域。特别涉及到电镀锡及锡镍合金用添加剂。所述的添加剂是:单羟基羧酸或单羟基多羧酸或多羟基羧酸或多羟基多羧酸或它们的碱土金属盐类,羧酸或多元羧酸或其碱土金属盐类,不含硫氨基酸或其碱土金属盐类,多氨基羧酸或其碱土金属盐类,添加剂的使用量为每升镀液添加本发明提供可用于镀锡以及镀锡镍合金的溶液中的添加剂,主要用于提高改良镀液性质,提高镀液的稳定性,并且实现合金组分的大范围控制,通过这一途径来提高电镀溶液的使用效率,并且扩大了镀层金属的应用范围。
  • 镀锡镍合金添加剂

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