专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]掩模坯料及光掩模-CN200680049390.5有效
  • 三井胜;佐野道明 - HOYA株式会社
  • 2006-12-26 - 2009-01-14 - G03F1/08
  • 该掩模坯料用于制造在透光基板上至少具有灰色调掩模用半透光膜的FPD设备,该灰色调掩模用半透光膜具有调节透过量的功能,其特征在于,所述灰色调掩模用半透光膜是在由超高压汞灯放射的至少从i线到g线的波长带区域中,半透光膜的透过率(即半透过率)的变动幅度被控制在不足5%的范围内的膜。
  • 坯料光掩模
  • [发明专利]印刷装置-CN201780025507.4有效
  • 藤泽和利;麻和博 - 精工爱普生株式会社
  • 2017-04-18 - 2021-03-23 - B41J2/01
  • 本发明能够抑制雾状的液体附着在对发光部进行覆盖的光透过部件上的情况。其在与喷出头相对置的位置处,对记录介质进行支承;发光部,其在与喷出头相比靠预定方向的下游侧处射出光;第一对置部,其于预定方向上被配置在喷出头与发光部之间;第二对置部,其于预定方向上被配置在喷出头的下游侧;光透过部件,其于预定方向上被配置在第一对置部与第二对置部之间,并且相对于支承部件而覆盖发光部,在第一对置部的支承部件侧的端部与第二对置部的支承部件侧的端部之间所规定的开口与发光部之间设置有光透过部件,从发光部射出的光在透过了光透过部件之后,从开口被照射至记录介质上,从开口至光透过部件为止的距离为预定方向上的开口宽度的40%以上。
  • 印刷装置
  • [发明专利]叠层涂膜构造-CN201010167460.5有效
  • 山根贵和;中野萨库拉;久保田宽 - 马自达汽车株式会社
  • 2010-04-20 - 2010-10-27 - B32B27/08
  • 设上层涂膜(3、4)让波长域300nm以上390nm以下的光线透过透过率平均值小于0.5%且让波长域390nm以上450nm以下的光线透过透过率平均值在6.5%以下。或者,设上层涂膜(3、4)让波长域300nm以上390nm以下的光线透过透过率平均值在0.5%以上且让波长域390nm以上450nm以下的光线透过透过率平均值在4.5%以下。因此,在利用电沉积涂敷等上层涂膜(3、4)直接涂在下涂涂膜(2)上所形成的叠层涂膜构造中,不设置中间涂膜,便能够提高叠层涂膜构造的耐光
  • 叠层涂膜构造
  • [发明专利]氢精制设备和使用氢精制设备的氢精制系统-CN201710213630.0有效
  • 芳村智孝 - 株式会社堀场STEC
  • 2017-04-01 - 2022-03-15 - C01B3/50
  • 本发明提供氢精制设备和氢精制系统,氢精制设备(1)制造简单且氢透过膜的耐压高,其具有选择性地透过氢的氢透过膜(11),被供给原料气体且透过所述氢透过膜(11)的精制气体向外部流出,所述氢精制设备(1)具有:两个多孔支承件(12),其从两面夹持并支承所述氢透过膜(11);以及壳体(13),其在形成于内部的空间中使原料气体与所述氢透过膜(11)反应,所述多孔支承件(12)收容在所述壳体(13)内部,与所述多孔支承件(12)的外缘(E1)相比,所述氢透过膜(11)的外缘(E2)位于外侧,与所述多孔支承件(12)的外缘(E1)相比位于外侧的所述氢透过膜(11)的周边部(111)与所述壳体(13)以气密方式接合。
  • 精制设备使用系统

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