专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种设备工艺-CN201910163588.5在审
  • 林进志 - 陕西坤同半导体科技有限公司
  • 2019-03-05 - 2020-09-15 - C23C14/24
  • 本公开是关于一种设备工艺。该设备包括:腔室;防着板,设置于所述腔室的内壁上;加热装置,设置于所述防着板上。该工艺包括:提供一如上述所述的设备;提供一待基板,将所述待基板放置于所述设备腔室内,通过该设备进行处理。本公开延长了设备持续工作的时间,一定程度上提升了设备的稼动率。
  • 一种设备工艺
  • [发明专利]罩以及设备-CN201910694403.3有效
  • 贾松霖;陈营营 - 云谷(固安)科技有限公司
  • 2019-07-30 - 2021-11-02 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种罩以及设备罩用于设备设备包括源,罩包括:遮挡件,遮挡件具有面向源的遮挡面;清理部,设于遮挡面与源之间,清理部能够相对于遮挡面运动以清理遮挡面。本发明提供的罩,能够及时清理罩上的杂质,提高罩的使用稳定性,避免污染设备,提高待基板的效率。
  • 蒸镀罩以及设备
  • [发明专利]一种设备-CN202110152215.5有效
  • 何瑞亭;李晓康 - 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2021-02-03 - 2022-07-12 - C23C14/04
  • 本申请公开了一种设备,由于该设备是在一源外侧周缘围设第一挡板,第一挡板与源之间的间隙很小,因此能够减小设备中第一挡板的面积和重量,也极大地减少了第一挡板的部件和安装空间,这样设计能够在设备运行时,避免部件间的碰撞或干涉,提高设备作业的流畅性,也可以避免在运载待基板时,大件挡板影响机器运作,使待基板上产生印记不良。该设备还对应源设置了遮挡部,这种小巧轻便的挡板设计能够改善设备挡板的固定点易于损坏的问题,进而避免印记不良。
  • 一种设备
  • [发明专利]设备以及方法-CN201811119290.6有效
  • 杨锋 - 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2018-09-25 - 2020-12-18 - C23C14/24
  • 本发明提供一种设备以及方法,属于显示器制备技术领域,其可至少部分解决现有源与基板之间的距离比较小时设备沉积的薄膜不均匀的问题。本发明的一种设备,用于在基板上沉积薄膜,设备包括:基板架,用于安装基板;台,用于安装源,源用于将待物质加热而形成蒸汽;腔室,基板架和台以相对设置的方式安装于腔室内,腔室包括调节结构,调节结构用于在密封状态下调节腔室内的空间的体积。
  • 设备以及方法
  • [发明专利]方法及设备-CN201710055136.6有效
  • 彭兆基;邱林;李倩;何麟;高峰 - 昆山国显光电有限公司
  • 2017-01-24 - 2020-04-21 - C23C14/24
  • 本发明涉及一种方法及设备。上述方法包括如下步骤:将材料放置于设备源中,将源与待基板相对设置,且源的开口朝向待基板;对源进行加热至预设温度后,移动源和/或待基板,使源相对于待基板采用上述方法进行时,即使TS距离较小,由于源相对于待基板,在平行于待基板的平面上移动的轨迹为波浪线,则shadow effect贡献度低、分布均匀且无周期性波动,不容易形成低视角G向mura,从而能够提高PPI。此外,本发明还涉及一种可采用上述方法的设备
  • 方法设备
  • [发明专利]设备方法-CN201510438233.4有效
  • 丁立薇;党鹏乐;朱晖;张小宝 - 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司
  • 2015-07-23 - 2017-11-21 - C23C14/04
  • 本发明涉及一种设备方法,用于AMOLED基板,设备包括基板载物台,用于承载AMOLED基板;掩膜板,开设有作为图案的空槽,掩膜板压设于AMOLED基板;蒸发源装置,与基板载物台相邻,用于提供材料;阻挡装置,罩设于掩膜板及蒸发源装置,并与掩膜板及蒸发源装置形成腔。上述设备掩模板通过自身重量贴合于AMOLED基板,蒸发源装置提供的材料在蒸发后由于阻挡装置的反射而附着在AMOLED基板上。如此,在过程中,掩膜板其形状在过程中不发生变化,从而避免因掩模板及AMOLED基板倒置而位置的偏差或混色。
  • 设备方法
  • [发明专利]设备方法-CN201510688878.3在审
  • 黄俊淞;申永奇;叶岚凯 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
  • 2015-10-21 - 2015-12-23 - C23C14/24
  • 本发明是关于一种设备方法,属于真空技术领域。所述设备包括:基板、腔及波纹管;所述腔内设置有源,所述腔的侧壁设置有两个限制板;所述基板设置于所述源的正上方,所述波纹管设置于所述腔的底部。本发明在腔的底部设置波纹管,通过波纹管的转动带动腔上下移动,从而改变源与限制板之间的相对高度,无需对设备进行改造,即可满足不同有机材料的条件,不仅明显地提高了设备灵活性,而且节省了时间及资源消耗
  • 设备方法
  • [发明专利]一种设备及其应用方法-CN202210701056.4在审
  • 曾苏伟;曾辉;孙凌霄 - 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2022-06-20 - 2022-09-20 - C23C14/24
  • 本申请实施例公开了一种设备及其应用方法,设备包括腔,其内部设有基台和源;所述基台用以固定待基板;所述源包括至少两个单元,所述单元包括喷嘴,所述单元通过所述喷嘴在过程中在所述待基板的表面形成镀层;其中,在所述过程中,至少一个单元与所述基台的距离大于其他单元与所述基台的距离。本申请实施例的有益效果在于,本申请实施例的设备及其应用方法通过在时移动掺杂材料的源,使其以固定速率逐渐远离待基板,从而实现对待基板上镀膜层的渐变掺杂,能够精确控制膜层的厚度以及掺杂比
  • 一种设备及其应用方法
  • [发明专利]设备方法-CN200410088841.9无效
  • 周国庆 - 中华映管股份有限公司
  • 2004-11-05 - 2006-05-10 - C23C14/24
  • 一种方法,适用于设备,以将至基板上。此设备具有纯化室与室,其中纯化室内设置有加热装置,而室内设置有成膜装置。首先,提供源于纯化室内,其中源表面形成杂质。然后,通过加热装置加热源,以使杂质成为气体而与源分离。接着,将源移至室内,以通过成膜装置将至基板上。因此,此方法可在成膜之前除去杂质,以提供较佳之方法合格率。
  • 设备方法
  • [发明专利]源清洁设备系统-CN201910459263.1有效
  • 方刚;陈策;王宝友;尹俊 - 昆山国显光电有限公司
  • 2019-05-29 - 2020-09-08 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种源清洁设备系统。该源清洁设备包括真空腔室、设置在真空腔室内的第一源加热单元和第二源加热单元,第一源加热单元包括支撑部,支撑部用于放置至少一个点源,第一源加热单元内能够生成热辐射以对点源进行清洁;第二源加热单元与第一源加热单元间隔分布,第二源加热单元包括用于放置线源或面源的至少一个容置槽,容置槽能够产生热辐射对线源或面源进行清洁。本发明公开的源清洁设备能够去除点源、线源以及面源的杂质,不会对腔室的工艺造成影响,进而可以提升效率,提升系统稼动率。
  • 蒸镀源清洁设备系统

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