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[实用新型]基于氩气和氦气混合气体的等离子体发生装置-CN202020926234.X有效
发明人：何桐桐;郑跃胜;舒胜文 -专利权人：福州大学
申请日： 2020-05-28 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本实用新型提出一种基于氩气和氦气混合气体的等离子体发生装置，包括：等离子体发生装置、激励电源和气体混合装置；所述气体混合装置用于生成含有氩气、氦气和掺杂气体的混合气体；所述等离子体发生装置用于将所述混合气体施加电场，在竖直下方产生等离子体；所述激励电源用于为等离子体发生装置提供高电压激励。其在装置上实现了氩气、氦气和掺杂气体的混合并产生等离子体，使得氦气和氩气的化学特性互补，有助于提升活性粒子的产生效率，增强等离子体射流的化学活性，从而提高应用效果。
基于氦气混合气体等离子体发生装置

[发明专利]等离子体清洗设备-CN201510505460.4在审
发明人：魏钰;袁广才;王东方 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-08-17 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体清洗设备。所述等离子体清洗设备包括多个等离子体发生筒；所述等离子体发生筒的一端为进气口，另一端为出气口，每个所述等离子体发生筒将位于其内部的气体激发为等离子体；所述多个等离子体发生筒阵列设置；且所述多个等离子体发生筒下端的开孔交错设置上述等离子体清洗设备输入到玻璃基板表面的等离子体可以均匀地将玻璃基板覆盖，减少未被等离子体覆盖的死角，从而可以保证对玻璃基板的清洗效果。
等离子体清洗设备

[发明专利]测量等离子体频率监控等离子体处理系统中处理的方法和装置-CN200580039838.0无效
发明人：程家成;蒂莫西·J·吉尼;拉奥·安纳普拉加达;苏布哈什·德希穆克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2005-09-23 - 公布日： 2007-12-12 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：公开了一种用于在具有处理室的等离子体系统中原位监控处理的方法。该方法包括在等离子体处理室中定位衬底。该方法还包括在将衬底设置在等离子体处理室内时在等离子体处理室中撞击等离子体。该方法进一步包括获得撞击等离子体之后存在的测量等离子体频率，该等离子体频率值具有当等离子体不存在时的第一值以及当等离子体存在时的不同于第一值的至少一个第二值。该方法还包括如果等离子体频率值在预定等离子体频率值包络之外，则使测量等离子体频率值与处理的属性相关。
测量等离子体频率监控等离子体处理系统方法装置

[实用新型]一种智能化的等离子体垃圾焚烧装置-CN201820603322.9有效
发明人：吴征威 -专利权人：吴征威
申请日： 2018-04-26 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： F23G7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种智能化的等离子体垃圾焚烧装置，包括等离子体焚烧系统、气体采集模块、智能化控制平台，其中等离子体焚烧系统包含等离子体焚烧装置、气体处理装置和固体处理装置，气体采集模块包含O₂气体传感器和可燃性气体传感器，智能化控制平台包含数据分析处理装置、等离子体功耗处理装置和燃烧空气控制装置，垃圾经等离子体焚烧装置处理后，生成无害的CO₂、H_{2利用传感器采集燃烧后气体的成分，通过智能化控制平台及时调整等离子体焚烧装置的功率及燃烧空气的量，精准控制等离子体焚烧设备的能耗及燃烧空气量，解决目前等离子体焚烧系统存在焚烧不彻底造成环境污染或者浪费电量的问题}
等离子体智能化控制平台焚烧系统焚烧装置垃圾焚烧装置气体采集模块燃烧空气智能化可燃性气体传感器数据分析处理装置固体处理装置气体处理装置本实用新型传感器采集固体颗粒物气体传感器燃烧空气量焚烧设备功耗处理精准控制控制装置酸性气体电量焚烧能耗垃圾燃烧

[实用新型]一种用于水体治理的放电等离子体装置-CN202120173985.3有效
发明人：郝婧姝;王永生;王旭东 -专利权人：西安建筑科技大学;西安交通大学
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： C02F1/48 文献下载
摘要：一种用于水体治理的放电等离子体装置，包括：用于产生高频电压脉冲的高频谐振电源；在高频电压脉冲激励下放电产生等离子体的放电装置；诱导等离子体扩大水体作用范围的诱导装置。通过施加外施磁场或电场诱导放电等离子体通道转动，能够扩大等离子体在水体表面的作用面积，形成较大区域的辉光放电。
一种用于水体治理放电等离子体装置

[发明专利]使用含硫工艺气体的含碳硬掩模去除工艺-CN201980044844.7在审
发明人：戴芬;T·王;O·D·简;M-H·基姆;马绍铭;Z·刘 -专利权人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技有限公司
申请日： 2019-12-13 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：提供了用于在工件上进行硬掩模(例如，含碳硬掩模)去除工艺的装置、系统和方法。在一个示例实施中，工艺可包括允许工艺气体进入等离子体腔室，使用感应耦合的等离子体源从工艺气体在等离子体腔室中生成等离子体，和将含碳硬掩模暴露于等离子体以去除至少一部分的含碳硬掩模。感应耦合的等离子体源可通过接地的静电屏蔽与等离子体腔室分开以减少感应耦合的等离子体源和等离子体之间的电容耦合。
使用工艺气体含碳硬掩模去除

[发明专利]离子生成装置-CN201810181615.7有效
发明人：川口宏 -专利权人：住友重机械离子科技株式会社
申请日： 2018-03-06 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： H01J27/16 文献下载
摘要：本发明提供一种有助于提高离子照射装置的生产率的离子生成装置。离子生成装置(12)具备：电弧室(30)，内部具有等离子体生成区域；阴极(52)，朝向等离子体生成区域放出热电子；反射极(34)，隔着等离子体生成区域与阴极(52)轴向对置；以及屏蔽罩(72)，在电弧室(30)的内面与等离子体生成区域之间的位置，以部分包围等离子体生成区域的方式配置。
离子生成装置

[发明专利]涂覆的基板的等离子灰化-CN201980069982.0在审
发明人： R·阿斯金;S·克兰西;J·珍妮克;B·劳伦斯 -专利权人： HZO股份有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：一种用于对基板上的涂层进行等离子体蚀刻或灰化的系统包括等离子体室、第二电极、耦合至等离子体室的等离子体源、包括涂层的基板以及包括至少一个孔的等离子体掩模。等离子体室包括第一电极。等离子体掩模被配置成用于覆盖基板，同时通过至少一个孔暴露基板和所述涂层的选定表面。第一电极和第二电极被配置成用于在等离子体室内引发并维持等离子体。等离子体源包括气体。
等离子灰化

[发明专利]交流等离子体裂解废弃物成套装置-CN200310103200.1无效
发明人：盛宏至;魏小林;夏原;曹永仙;徐永香;王元原;陈文武 -专利权人：中国科学院力学研究所;北京同义兴科技有限公司
申请日： 2003-11-07 - 公布日： 2005-05-11 - 主分类号： F23G7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种交流等离子体裂解废弃物成套装置，它主要由进料装置、交流等离子体裂解装置和尾气排放装置构成，其核心部分是交流等离子体裂解装置。该裂解装置由一体化等离子体发生器和反应器组成(合称等离子体炉)，在其顶部设有进料口、进气口和三根斜插式、可移动电极。这三根电极用于产生电弧，电离工作气体，产生温度很高的等离子体，它们与交流电源相连；且互成120±15度夹角分布。等离子体反应器为利用等离子体裂解废弃物的容器。本发明利用高热的等离子体裂解废弃物，具有摧毁效率高，二次污染少，裂解废弃物快速、洁净、环保的优点。进料装置具有安全隔离防护及高度自动化控制功能和操作的安全可靠性。
交流等离子体裂解废弃物成套装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN201010623407.1有效
发明人：林大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-12-28 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种能够使等离子体稳定且对高频电场强度进行控制的等离子体处理装置。该等离子体处理装置，在能减压的处理容器内设置第一电极，将处理气体导入上述处理容器内，由高频电力的能量生成等离子体，通过上述等离子体对被处理体施行期望的等离子体处理。等离子体处理装置的第一电极，在由期望的电介质形成的上部基材(105a)中嵌入与该基材相同材质的电介质(205)，将上部基材(105a)和电介质(205)之间通过导电性粘着层(210a)粘着固定。
等离子体处理装置

[发明专利]气雾生成装置-CN202210287746.X在审
发明人：王华博;李新军;洪锐;方小刚;胡瑞龙;李尹喆;徐中立;李永海 -专利权人：深圳市合元科技有限公司
申请日： 2022-03-22 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： A24F40/10 文献下载
摘要：本申请提出一种气雾生成装置，被配置为加热气溶胶生成制品生成气溶胶；包括：等离子体发生器，用于产生等离子体，以用于通过等离子体加热气溶胶生成制品。以上气雾生成装置，通过等离子体发生器向气溶胶生成制品提供等离子体的方式加热气溶胶生成制品。
生成装置

[发明专利]具有多个射频源频率的等离子体腔体-CN200410055192.2无效
发明人：丹尼尔·J·后曼;迪安娜·X·玛;叶洋;杨姜久;史蒂芬·C·雪农;艾力克斯恩德·派克森;斯而多洛斯·派纳购波洛斯;丹尼斯·S·格理玛;高仓惠子 -专利权人：应用材料有限公司
申请日： 2004-08-12 - 公布日： 2005-05-25 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种处理半导体基板的方法与装置。一种等离子体反应装置具有由数个射频功率来源驱动的电容式电极，且电极电容在所需等离子体密度与射频功率频率上与等离子体的负电容相匹配，以提供一电极等离子体共振支持宽制程窗，以于其中维持等离子体。
具有射频频率等离子体腔

[发明专利]等离子体显示装置-CN200510090460.9无效
发明人：禹锡均;金基正 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2005-08-15 - 公布日： 2006-03-29 - 主分类号： H01J17/49 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子体显示装置，该装置包括：显示图像的等离子体显示面板，放置在等离子体显示面板后面的底板，和放置在等离子体显示面板和底板之间的导热构件以及多孔绝热构件。
等离子体显示装置

[实用新型]等离子体处理工业废气装置-CN201020527649.6有效
发明人：李瑞莲 -专利权人：山东派力迪环保工程有限公司;上海复启环境科技有限公司
申请日： 2010-09-14 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： B01D53/76 文献下载
摘要：一种等离子体处理工业废气装置，其特征在于：包括等离子体发生管、进风发生管、出风收集管，以及分别于等离子体发生管相连接的等离子体电源系统和气体分配系统，等离子体发生管设置在进风发生管和出风收集管的两侧，采用前后对称排布并实现上下两层分布的结构本实用新型提供了一种稳定产生等离子体的介质阻挡放电组合装置，避免多电源同步工作相互干扰、匹配的问题，实现规模化工业应用，等离子体发生管采用前后对称排布，并实现上下两层的结构形式，将等离子体电源系统、等离子体发生管系统、气体分配系统装备在一起，实现装置一体化，使得设备更加紧凑，占地面积更小。
等离子体处理工业废气装置

[发明专利]分解处理装置、搭载分解处理装置的车辆以及分解处理方法-CN202010772435.3在审
发明人：矢口博文 -专利权人：螺旋株式会社
申请日： 2016-12-22 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明提供一种能够实现由水等离子体进行的分解处理的效率化的分解处理装置。分解处理装置(60)具有水等离子体产生装置(27)、以及向水等离子体的喷射气流(J)供给分解对象物的供给装置(50)，通过水等离子体对分解对象物进行分解处理，其中，所述水等离子体产生装置(27)通过在阴极(71)与阳极(73)之间所产生的电弧放电(AR)而喷射水等离子体。供给装置具备从顶端投入所述分解对象物的喷嘴(110,111)，沿所述喷射口的中心轴线依次排列配置有阴极、喷射口、阳极、喷嘴。喷嘴的顶端被配置在水等离子体的喷射气流的内部。
分解处理装置搭载车辆以及方法