专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]PECVD装置及半导体器件的形成方法-CN201110366072.4有效
  • 周鸣 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2011-11-17 - 2013-05-22 - H01J37/32
  • 一种PECVD装置和半导体器件的形成方法,其中,所述PECVD装置包括PECVD设备和等离子体发生器,所述等离子发生器包括气体入口、等离子体发生腔、射频电极和气体出口,所述等离子体发生器的气体出口与PECVD所述半导体器件的形成方法形成刻蚀停止层时,将含有刻蚀停止层组成成分的气体通过等离子体发生器形成含有等离子体的反应气体,再通入PECVD设备,通过化学反应在形成有MOS器件的衬底上形成刻蚀停止层。本发明PECVD装置和半导体器件的形成方法能够减少PECVD设备内的光子数以及在刻蚀停止层表面累积的电荷数,防止光子和电荷对衬底内MOS器件的栅氧化层造成损伤,提高所制造半导体器件的性能。
  • pecvd装置半导体器件形成方法
  • [发明专利]用于制备致动器件离子聚合物、致动器件及其制备方法-CN202111455737.9有效
  • 杜飞鹏;黄潇;张慧 - 武汉工程大学
  • 2021-12-01 - 2022-12-27 - C08L83/04
  • 本发明公开一种用于制备致动器件离子聚合物、致动器件及其制备方法,属于功能材料技术领域。该用于制备致动器件离子聚合物,由离子化聚硅氧烷与金属盐溶于第一溶剂中得到铸膜液,之后干燥制得所述离子聚合物;所述离子化聚硅氧烷与所述金属盐的质量比为1:(2‑11);所述铸膜液中的固含量为30%‑50该致动器件的制备方法,包括以下步骤:将电极材料置于第二溶剂中,经分散形成电极层铸膜液;在上述离子聚合物形成的电解质层的上下两面涂覆所述电极层铸膜液,之后干燥形成所述致动器件。制得的致动器件在低电场作用下,具有较高的响应应变和应力。
  • 用于制备器件离子聚合物及其方法
  • [发明专利]日光灯管负离子发生器-CN201410463339.5在审
  • 熊开富 - 昆山博文照明科技有限公司
  • 2014-09-12 - 2015-01-21 - F21S2/00
  • 本发明提供一种日光灯管负离子发生器,它具有多重功能,在日光灯照明的同时会发出负离子,而且亮度增加,并能在普通日光灯支架上使用。日光灯管负离子发生器包括日光灯管、负离子发生器件,具体是:日光灯管和负离子发生器件为各自独立的两个实体,在日光灯管的玻璃外表上贴着反光膜,日光灯管一个灯脚插在负离子发生器件的插座上,负离子发生器件的另一端设有与日光灯管相同的灯脚
  • 日光灯管负离子发生器
  • [发明专利]日光灯管负离子发生器-CN200810061412.0无效
  • 孙裕康 - 施继君
  • 2008-04-28 - 2009-11-04 - F21V33/00
  • 本发明提供一种日光灯管负离子发生器,它具有多重功能,在日光灯照明的同时会发出负离子,而且亮度增加,并能在普通日光灯支架上使用。日光灯管负离子发生器包括日光灯管、负离子发生器件,具体是:日光灯管和负离子发生器件为各自独立的两个实体,在日光灯管的玻璃外表上贴着反光膜,日光灯管一个灯脚插在负离子发生器件的插座上,负离子发生器件的另一端设有与日光灯管相同的灯脚
  • 日光灯管负离子发生器
  • [发明专利]一种电致变色器件-CN202210337709.5在审
  • 曹子宜;马兰;许海波;陈梁 - 比亚迪股份有限公司
  • 2022-03-31 - 2023-10-24 - G02F1/153
  • 本申请提供了一种电致变色器件,所述电致变色层与离子存储层之间设有多孔离子传导层,所述多孔离子传导层被液体电解质所浸润,所述多孔离子传导层为多孔聚合物层,所述多孔聚合物层的孔隙率为20%‑60%,所述多孔聚合物层的平均孔隙大于该电致变色器件因含有多孔离子传导层,导致电致变色器件的结构有所改变,漏液率大大降低,有利于液态基电致变色器件的大规模生产。
  • 一种变色器件
  • [发明专利]PLDMOS器件及其制造方法-CN201710003959.4有效
  • 段文婷 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2017-01-04 - 2019-06-11 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种PLDMOS器件,包括:N型外延层,P阱,栅介质层,多晶硅栅,源区和漏区,沟道区由N型外延层叠加N型离子注入杂质形成,通过N型离子注入杂质提高沟道区的N型掺杂浓度并从而抑制源漏穿通;在沟道区表面形成有P型离子注入杂质,通过P型离子注入杂质抵消N型离子注入杂质对沟道区的表面的影响,从而使器件的阈值电压向由N型外延层的本体掺杂浓度决定的初始阈值电压恢复。本发明还公开了一种PLDMOS器件的制造方法。本发明能抑制器件的源漏穿通同时不影响器件的阈值电压,能使器件适用于更小的沟道长度。
  • pldmos器件及其制造方法

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