专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种石墨杂质的分离与测定方法-CN202111144321.5在审
  • 程飞飞;潘卫;于阳辉;张明;张韬;赖玮;韦凯 - 苏州中材非金属矿工业设计研究院有限公司
  • 2021-09-28 - 2022-01-11 - G01N5/04
  • 本发明公开了一种石墨杂质的分离与测定方法。本发明的分离与测定方法,包括如下步骤:1)将石墨原料与水混合后磨矿,得到浆料;2)在浆料中加入分散剂后进行超声分散;3)将超声分散后的浆料配置成重液;4)将重液搅拌分散;5)将上层悬浮物和下层沉淀物分离、过滤、干燥,获得上层高纯度石墨和下层杂质,计算杂质的百分含量;6)对上层高纯度石墨进行杂质成分的测定,获得杂质成分的具体化学组成及其含量。本发明的石墨杂质的分离与测定方法,实现了石墨与脉石矿物的便捷、高效的分离,并对分离出的高纯度石墨中的杂质进行了精确的组成及含量分析,为石墨、尤其是高纯度石墨石墨高值利用和进一步高效提纯提供了支撑。
  • 一种石墨杂质分离测定方法
  • [发明专利]一种低杂质含量石墨烯制备方法-CN201811492622.5有效
  • 李星;刘长虹;蔡雨婷;漆长席;蒋虎南 - 四川聚创石墨烯科技有限公司;大英聚能科技发展有限公司
  • 2018-12-07 - 2021-01-22 - C01B32/184
  • 本发明提供了一种低杂质含量石墨烯制备方法,所述方法包括:对含有官能团并含有杂质的氧化石墨烯进行纯化;对纯化后的氧化石墨烯进行还原,其中,所述纯化包括:将含有官能团并含有杂质的氧化石墨烯、络合剂与酸性溶液混合,形成混合液;对所述混合液进行超声震荡,过滤,得到纯化后的氧化石墨烯;所述对纯化后的氧化石墨烯进行还原的步骤包括:将纯化后的氧化石墨烯顺序经历温度和压强不同反应区,得到石墨烯。本发明的纯化能够有效地使氧化石墨烯和杂质离子分离,可以提高氧化石墨烯纯化的彻底性;利用在不同的温度、压强区域下制备石墨烯,能够去除石墨烯中的金属、非金属杂质,修复氧化石墨烯在制备过程中所导致的SP
  • 一种杂质含量石墨制备方法
  • [发明专利]区熔石墨-CN201210362789.6无效
  • 吴建洪 - 常州市立新石墨有限公司
  • 2012-09-25 - 2014-03-26 - C30B13/14
  • 本发明涉及一种区熔石墨舟,具有石墨舟本体(1),开设在石墨舟本体(1)内部的凹槽(2),所述石墨舟本体(1)中还具有杂质凹槽(3),凹槽(2)与杂质凹槽(3)之间由隔块(4)间隔开。本发明采用两段设计,能够对杂质流动有较好的导向性;具有单独的杂质储存区域,提高提纯效率。
  • 石墨
  • [实用新型]区熔石墨-CN201220492925.9有效
  • 吴建洪 - 常州市立新石墨有限公司
  • 2012-09-25 - 2013-03-13 - C30B13/14
  • 本实用新型涉及一种区熔石墨舟,具有石墨舟本体(1),开设在石墨舟本体(1)内部的凹槽(2),所述石墨舟本体(1)中还具有杂质凹槽(3),凹槽(2)与杂质凹槽(3)之间由隔块(4)间隔开。本实用新型采用两段设计,能够对杂质流动有较好的导向性;具有单独的杂质储存区域,提高提纯效率。
  • 石墨
  • [发明专利]一种减少杂质含量的石墨片制备工艺-CN202310344650.7在审
  • 李天明 - 湖南沛德新材料有限公司
  • 2023-04-03 - 2023-06-23 - C01B32/21
  • 本发明公开了一种减少杂质含量的石墨片制备工艺,包括如下步骤;步骤一:制备基底层,步骤二:去除石墨粉中的杂质,将炭原料经过煅烧、破碎与筛分制得石墨粉,然后将石墨粉和水倒入反应釜内,使得石墨粉形成浆状结构,在复选池中对石墨粉进行搅拌,步骤三:制备石墨片,步骤四:对导热硅胶进行处理,将导热硅胶与经过步骤二处理的石墨粉混合,然后在步骤三中制得的石墨片上涂覆混合后的导热硅胶,步骤五:处理保护膜,然后覆盖保护膜,步骤六:将基底层、石墨片、导热硅胶和保护膜叠合。该减少杂质含量的石墨片制备工艺,降低石墨中的金属杂质含量和沙石含量,提高石墨片的强度和韧性,提高石墨片的散热性。
  • 一种减少杂质含量石墨制备工艺
  • [发明专利]石墨烯的制备方法-CN201510152307.8在审
  • 杨玉洁 - 广东烛光新能源科技有限公司
  • 2015-04-01 - 2015-07-15 - C01B31/04
  • 本发明属于石墨烯技术领域,特别涉及一种石墨烯的制备方法:即在氧化反应完成的初始洗涤过程中,仅对氧化反应产物进行粗洗,其中残余的杂质可以有效的抑制氧化石墨的水解;待还原反应后,含有杂质的氧化石墨变成含有杂质石墨烯,此时在进行精洗,此时石墨烯与氧化石墨不同,不会出现水解现象,洗涤效率高,对应的成本也能得到有效的控制,同时还能提高最终产品石墨烯的收率。
  • 石墨制备方法
  • [发明专利]用于检测离子源污染的分析器-CN201210033028.6有效
  • 许飞 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2012-02-14 - 2013-08-14 - H01J37/244
  • 本发明涉及一种用于检测离子源污染的分析器,包括离子筛选管,还包括控制器,所述离子筛选管的侧壁上设有若干相互隔离且并排的石墨条,所述控制器与各石墨条相连接,所述各石墨条接收单种杂质离子,所述控制器时时监测各石墨条上的杂质离子用于检测离子源污染本发明在离子筛选管侧壁上设有相互隔离并排的石墨条,由于杂质离子的离子运动半径不同,因而会落在分析器的离子筛选管侧壁上的不同位置,即不同的石墨条会接收到不同的杂质离子,各石墨条后端连接控制器,检测各石墨条上的电流,监测杂质离子是否有异常,从而判断离子源是否有污染或是否不稳定,进而避免大规模的产品污染。
  • 用于检测离子源污染分析器
  • [发明专利]基于酸雾与气磨石墨的原位石墨烯的制备方法-CN201610284042.1有效
  • 赵帅;宋文龙 - 赵帅
  • 2016-05-04 - 2017-11-14 - C01B32/184
  • 本发明公开了一种基于酸雾与气磨石墨的原位石墨烯的制备方法,该方法包含以下几个步骤球磨机石墨处理,通过气磨机风选提纯,将含硅类杂质石墨晶体分离,较轻的石墨悬浮,通过分析机和分级机进行筛分回收,在达到8000目排除20%以上杂质,获得固定碳70%以上,力度达到8000目以上石墨粉,将初选气磨管道的石墨石墨坩锅高温中滤出杂质,然后通过气流导向系统吹出到反应釜,获得固定碳99.9%高纯石墨。用雾化酸雾将气磨石墨酸蚀,得到氧化石墨;高度气化分散的氧化石墨再进一步还原制得高品质石墨烯。
  • 基于磨石原位石墨制备方法
  • [实用新型]一种PECVD多晶硅一体式镀膜杂质吸附装置-CN202223575085.5有效
  • 袁洋;戈伟业;房鹏成 - 中润新能源(滁州)有限公司
  • 2022-12-30 - 2023-04-11 - C23C16/50
  • 本实用新型公开了一种PECVD多晶硅一体式镀膜杂质吸附装置,包括用于多晶硅片镀膜的镀膜石墨舟和用于对镀膜石墨舟进行支撑的支撑座,镀膜石墨舟内部设有若干用于放置多晶硅片的放置槽,支撑座内部设有用于对镀膜石墨舟内部杂质进行沉积吸附的沉积台,支撑座内部设有通槽,沉积台滑移连接在通槽内部,沉积台内部设有用于对镀膜石墨舟内部表面杂质进行吸附的吸附组件,镀膜石墨舟内部设有用于对镀膜沉积气体进行过滤的过滤组件,旨在对多晶硅片在石墨舟内部进行进行镀膜时实时进行过滤和吸附,一方面对传输的沉积气体进行气流过滤,另一方面对石墨舟内部沉积的杂质进行吸附,对石墨舟进行底部分隔设置,便于对吸附杂质进行高效清理。
  • 一种pecvd多晶体式镀膜杂质吸附装置
  • [发明专利]一种低结构缺陷石墨烯生产方法-CN201811492609.X有效
  • 李星;刘长虹;蔡雨婷;漆长席;蒋虎南 - 四川聚创石墨烯科技有限公司;大英聚能科技发展有限公司
  • 2018-12-07 - 2021-01-22 - C01B32/184
  • 本发明提供了一种低结构缺陷石墨烯生产方法,所述方法包括:对含有官能团并含有杂质的氧化石墨烯进行纯化;对纯化后的氧化石墨烯进行还原,其中,进行纯化包括:将含有官能团并含有杂质的氧化石墨烯、络合剂与酸性溶液混合,形成混合液;对混合液进行超声震荡,过滤,得到纯化后的氧化石墨烯;进行还原包括:将纯化后的氧化石墨烯依靠重力作用顺序经历竖向设置的不同温度和压强的反应区进行反应,得到石墨烯。本发明的纯化能够有效地使氧化石墨烯和杂质离子分离,可以提高氧化石墨烯纯化的彻底性;利用在不同的温度、压强区域下制备石墨烯,能够去除石墨烯中的金属、非金属杂质,修复氧化石墨烯在制备过程中所导致的SP
  • 一种结构缺陷石墨生产方法

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