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[实用新型]一种用于高基频晶片的镀膜夹具-CN202022345164.1有效
发明人：刘青彦;黄建友;杨清明 -专利权人：成都晶宝时频技术股份有限公司
申请日： 2020-10-20 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于高基频晶片的镀膜夹具，包括上掩膜板、下掩膜板和定位片，晶片位于上掩膜板和下掩膜板之间，晶片通过定位片进行固定位置后，再由上掩膜板和下掩膜板进行压紧固定。晶片在压紧固定过程中，定位片将晶片进行固定，工作时，晶片不能在定位片所在的平面移动。上掩膜板和下掩膜板将晶片压紧时，晶片不会出现上下运动。从而将晶片进行充分的固定，而不会发生移动的现象。本实用新型所提供的一种用于高基频晶片的镀膜夹具通过更改上下掩膜板厚度，将上掩膜板和下掩膜板以外的部分进行削减，利用上掩膜板凸台和下掩膜板凸台将定位片晶片孔位内晶片进行顶紧，达到固定晶片位置的作用。
一种用于基频晶片镀膜夹具

[发明专利]掩膜装置-CN201910411830.6有效
发明人：曾佳;陈奎;宋育准;曹东旭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种掩膜装置，其包括框架结构、至少一个掩膜板及至少一个收缩片，该掩膜板与所述框架结构连接；所述收缩片连接所述掩膜板与所述框架结构，和/或所述收缩片连接相邻所述掩膜板；其中，所述收缩片能够在收缩过程中向所述掩膜板施加拉力，从而可减轻掩膜板的褶皱和下垂量，以提高蒸镀良率。
装置

[实用新型]一种背接触电池掩膜结构-CN202121873963.4有效
发明人：高嘉庆;屈小勇;吴翔;张博;杨爱静;张天杰 -专利权人：青海黄河上游水电开发有限责任公司西宁太阳能电力分公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司西安太阳能电力分公司;国家电投集团黄河上游水电开发有限责任公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司
申请日： 2021-08-11 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种背接触电池掩膜结构，包括扩散舟和多片掩膜板，所述扩散舟包括底板和连接在所述底板两端的侧板，多片所述掩膜板沿所述底板的长度方向间隔地布置，且所述掩膜板立于所述底板上，相邻的所述掩膜板之间预留有供电池片插设的间隙本实用新型的扩散舟上可拆卸地卡持有多片掩膜板，掩膜板与掩膜板之间形成电池片插设的间隙，当电池片插设于对应的掩膜板间隙内后，利用扩散舟进行材料扩散的同时即可直接获得背接触太阳能电池的P+或N+掺杂区域，而且掩膜板的位置可以根据需要进行调节
一种接触电池膜结构

[发明专利]掩膜组件及其制造方法-CN201811005162.9有效
发明人：林治明 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-08-30 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜组件及其制造方法，其包括异型条状掩膜体，异型条状掩膜体包括异型遮挡片和支撑条，支撑条之间形成一间隔第二掩膜板和异型遮挡片接触的间隔空间。本申请通过异型条状掩膜体的间隔空间的设置，避免了第二掩膜板和第一掩膜板的异型条状掩膜体存在非线性接触的情况，提高了玻璃基板和第二掩膜板贴合的均匀性。
组件及其制造方法

[发明专利]扫描曝光设备和方法，以及装置制造方法-CN03148254.6无效
发明人：香田徹;筒井慎二 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2003-06-27 - 公布日： 2004-02-04 - 主分类号： G03F7/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种扫描曝光设备，包括：照射光学系统，用于利用弧形照射光照射掩膜上的图形；投影光学系统，用于将由所述照射光学系统照射的掩膜上的图形投影到一个板片上；掩膜托架，用于扫描掩膜；板片托架，用于扫描该板片，所述扫描曝光设备相对于所述投影光学系统同步扫描所述掩膜托架和板片托架；掩膜支撑机构，用于支撑掩膜的边缘；以及掩膜托架倾斜机构，用于将由弧形照射光照射的区域中的图形置于所述投影光学系统的对象表面侧聚焦平面中，其中掩膜由于其自身的重量从被支撑的边缘变形。
扫描曝光设备方法以及装置制造

[发明专利]一种UV掩膜板及其曝光方法-CN201510512365.7有效
发明人：代磊;高永益;黄炜赟;龙跃 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2015-08-19 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明公开了一种UV掩膜板及其曝光方法，其中，UV掩膜板包括：掩膜板本体和遮光片；所述掩膜板本体包括遮光区域和漏光区域；所述相邻遮光区域之间形成漏光区域；所述漏光区域为第一方向的缝隙或第二方向的缝隙；所述遮光片用于遮挡非曝光区域本发明采用掩膜板与遮光片拼接遮挡方式对基板曝光，达到UV掩膜板共用的效果，不同尺寸的基板均可以采用本发明提供的UV掩膜板曝光显影制作，无需单独开打UV掩膜板，节约了显示装置的制作成本。
一种 uv 掩膜板及其曝光方法

[实用新型]一种高基频石英晶体片腐蚀工装-CN202023108663.5有效
发明人：白利才;杜敏;姚晓文;卞玉 -专利权人：廊坊中电熊猫晶体科技有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C30B33/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高基频石英晶体片腐蚀工装，包括由上至下依次设置的上掩膜、中间板、下掩膜，所述上掩膜和所述下掩膜上下对称，所述中间板中部设有与石英晶体片尺寸相匹配的镂空，所述上掩膜和所述下掩膜的中部设有镂空，所述上掩膜和所述下掩膜上相对的表面上设有若干均匀分布的凸点，所述中间板上的镂空中心与所述上掩膜、所述下掩膜上的镂空中心在同一竖直线上。本实用新型提高了同一石英晶体片不同部位腐蚀的一致性和腐蚀效率，从而达到对高基频石英晶体片的腐蚀效果。
一种基频石英晶体腐蚀工装

[发明专利]扫描曝光方法以及装置制造方法-CN200510093213.4无效
发明人：香田徹;筒井慎二 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2003-06-27 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： G03F9/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种扫描曝光方法，用于利用弧形照射光照射掩膜上的图形，并且用于将由照射光学系统照射的掩膜上的图形投影到板片上，扫描曝光设备相对于投影光学系统同步扫描掩膜和板片，所述方法包括如下步骤：曝光焦距测量图形掩膜；由板片上的焦距测量图形图像的光强度或分辨率性能，测量特定区域的聚焦位置；线性内插测量结果并确定图像平面位置；计算用于倾斜掩膜和/或板片的倾斜角度，使得将板片表面置于图像表面位置的聚焦平面中；根据计算的数据，校正掩膜托架和/或板片托架的倾斜；以及曝光实际的掩膜。本发明还提供了一种装置制造方法包括如下步骤：使用上述扫描曝光方法将装置图形曝光到板片上，并将已被曝光的板片显影。
扫描曝光方法以及装置制造

[发明专利]掩膜板及彩色滤光片的制作方法-CN201810079698.9在审
发明人：莫超德 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2018-01-26 - 公布日： 2018-06-15 - 主分类号： G03F1/76 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板及彩色滤光片的制作方法。本发明的掩膜板用于制作彩色滤光片，具有图案区域，所述图案区域为半透光区域，且所述图案区域的透光率由掩膜板的四周边界处向中心处递减，从而使通过掩膜板的照射能量由四周边界处向中心处递减，使用该掩膜板制作彩色滤光片，能够有效改善现有技术中因掩膜板自重向下弯曲而造成其图形拉伸不均一进而导致彩色滤光片上图形尺寸大小不均一的问题，得到线宽均匀的图案。本发明的彩色滤光片的制作方法采用上述的掩膜板，能够得到线宽均匀的图案，有效改善大尺寸显示产品中彩色滤光片上图形尺寸大小不均一的问题。 1
掩膜板彩色滤光片图案区域制作四周边界中心处均一线宽递减图案半透光区域大尺寸显示向下弯曲照射能量透光率拉伸

[发明专利]一种间隙光刻机构及其光刻方法-CN201911316488.8有效
发明人：晏志鹏;张勋;赵凯锋;赵家辉;刘旭;赵恒;花肖航;高艳霞 -专利权人：中航电测仪器股份有限公司
申请日： 2019-12-19 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种间隙光刻机构及其光刻方法，包括掩膜架，所述掩膜架为两端开口的中空结构，所述掩膜架的上端面用于放置掩膜版，所述掩膜架的下方设置有承片台，所述承片台的上端面用于放置柔性箔板，且用于放置柔性箔板的区域周围设置有若干限位柱，限位柱的上端面高出柔性箔板的光刻胶面，所述承片台能够进入所述掩膜架内；当所述承片台进入所述掩膜架内，且限位柱的上端面与掩膜版的药膜面接触时，掩膜版的药膜面与柔性箔板的光刻胶面之间具有间隙。本发明在光刻时掩膜版的药膜面与柔性箔板的光刻胶面能够形成固定的间隙，避免了两者的接触，从而提高了掩膜版的使用率，并大幅改善产品的外观质量缺陷，提高了产品的合格率。
一种间隙光刻机构及其方法

[发明专利]复合掩膜板及其制造方法、复合掩膜板组件-CN201480000657.6在审
发明人：孙尚传 -专利权人：安徽省大富光电科技有限公司
申请日： 2014-07-21 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种复合掩膜板的制造方法、复合掩膜板及复合掩膜板组件，复合掩膜板的制造方法包括：提供支撑片材(12)，所述支撑片材(12)具有第一表面(21)和与所述第一表面(21)相对的第二表面(11)；在支撑片材(12)的第一表面(21)通过电铸工艺生长出掩膜图案(31)，其中掩膜图案(31)具有多个第一开口(32)；在支撑片材(12)的与第一表面(21)相对的第二表面(11)形成多个第二开口(121)，其中第二开口(121)与第一开口(32)连通，进而形成掩膜通道。通过上述方式，能够使得掩膜图案(31)上的第一开口(32)尺寸可以做的更小，掩膜图案(31)更加精细，从而可以提高最终的OLED产品的分辨率。
复合掩膜板及其制造方法组件

[发明专利]一种石英振荡器真空溅射镀膜装置-CN201410804202.1在审
发明人：王栋;李新生;张浩 -专利权人：西安鸿腾信息科技有限公司
申请日： 2014-12-20 - 公布日： 2016-07-13 - 主分类号： H03H3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种石英振荡器真空溅射镀膜装置，包括底板、溅射夹具和多块掩膜板，溅射夹具安装在底板上，溅射夹具包括单边卡槽和双边卡槽，双边卡槽设置在两个所述单边卡槽之间，两个所述掩膜板分别嵌入所述双边卡槽与两个单边卡槽之间，掩膜板包括上框架、下框架、上掩膜板和下掩膜板，上掩膜板由所述上框架固定，下掩膜板由所述下框架固定，石英晶片放置在所述上掩膜板和所述下掩膜板之间。本发明为一种石英振荡器真空溅射镀膜装置，采用两片掩膜板插入溅射，同一片掩膜板上镀膜厚度更加均匀，并且能够提高材料利用率，降低了生产成本，具有推广使用的价值。
一种石英振荡器真空溅射镀膜装置

[实用新型]一种掩膜组件-CN202321186074.X有效
发明人：蔡永安;王珏;王志强;徐希翔 -专利权人：隆基绿能科技股份有限公司
申请日： 2023-05-16 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本实用新型公开一种掩膜组件，涉及太阳能发电技术领域，用于解决操作较繁琐，生产效率较低的问题。掩膜组件包括：多个电池片和至少一个掩膜，掩膜为高分子膜，且至少两个电池片与同一掩膜结合以形成结合体；载板，载板包括第一框架和支撑梁，支撑梁的两端与第一框架连接，载板能够承载至少一个结合体，结合体置于载板上后，电池片在掩膜上的投影与支撑梁在掩膜上的投影相错设置。由于后续工艺完毕后，只需将整个掩膜从多个电池片上取下，操作更加简单便捷，提高了生产效率。
一种组件

[实用新型]一种用于磁控溅射工艺的立式掩膜夹具-CN201420466952.8有效
发明人：徐晓 -专利权人：昆山萬豐電子有限公司
申请日： 2014-08-14 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种用于磁控溅射工艺的立式掩膜夹具，包括掩膜部分、滑动阻挡部分和紧固部分。所述掩膜部分由两片结构相同的掩膜板组成。所述的滑动阻挡部分由阻挡板、阻挡片、滑块组成。两片掩膜板中分别装入待溅射陶瓷基体，滑动阻挡部分位于两片掩膜板之间，夹具对位扣紧后由紧固部分紧固。夹具竖立后，滑块沿阻挡片的倾斜滑道滑下，将阻挡片推向两侧，进而将阻挡片两侧的待溅射陶瓷基体顶紧在掩膜板上，可同时实现不同厚度陶瓷基体的密封，解决了磁控溅射工艺规模化生产中因陶瓷基体厚度差异导致的密封不严问题
一种用于磁控溅射工艺立式夹具

[实用新型]一种用于磁控溅射工艺的掩膜夹具-CN201420466953.2有效
发明人：徐晓 -专利权人：昆山萬豐電子有限公司
申请日： 2014-08-14 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种用于磁控溅射工艺的掩膜夹具，包括掩膜部分、弹性阻挡部分和紧固部分。所述掩膜部分由两片结构相同的掩膜板组成。所述的弹性阻挡部分由阻挡板、阻挡片、弹簧组成。两片掩膜板中分别装入待溅射陶瓷基体，弹性阻挡部分位于两片掩膜板之间，夹具对位扣紧后由紧固部分紧固。掩膜板下的陶瓷基体被压入弹性阻挡部分，将弹簧压缩，进而通过弹簧弹力将待溅射陶瓷基体顶紧在掩膜板上，可同时实现不同厚度陶瓷基体的密封，解决了磁控溅射工艺规模化生产中因陶瓷基体厚度差异导致的密封不严问题，提高了磁控溅射法制备陶瓷电子元器件电极的合格率
一种用于磁控溅射工艺夹具

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