专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种远红外电加热的制备方法-CN201610303521.3在审
  • 刘娜 - 苏州思创源博电子科技有限公司
  • 2016-05-09 - 2016-08-31 - H05B3/14
  • 本发明公开了一种远红外电加热的制备方法,该红外电热包括基底、第一电热和第二电热。本发明制备的远红外电加热结合了石墨电加热和半导体电加热的优点,二者配合使用,可将辐射热能转换成远红外热能,实现温度的迅速提高,并降低排潮损失的温度、增强被加热能吸收的速度、减少热能损失。微小的电流就能激活石墨远红外电加热部分,比传统电加热方式节能约60%,提高了电能的利用率,采用上述材料和配比的半导体电加热传热热阻小,化学稳定性和热稳定性,电‑热转换效率高,其中,该电加热阻具有正温度特性,可根据的不均匀自动调节电流的大小及自限流的特性,从而保证了电加热加热的均匀性。
  • 一种外电加热制备方法
  • [发明专利]感光性树脂组合物和感光性树脂层叠体-CN202080078423.9在审
  • 田尻十南;小坂隼也;山田辉久;国松真一 - 旭化成株式会社
  • 2020-11-11 - 2022-06-24 - G03F7/033
  • 提供一种在支承薄膜上层叠有感光性树脂层的感光性树脂层叠体,所述感光性树脂层包含感光性树脂组合物,所述感光性树脂组合物包含(A)碱溶性高分子10~90质量%、(B)具有属不饱和双键的化合物5~70质量%和(C)光聚合引发剂0.01~20质量%,前述(A)碱溶性高分子包含共聚物,所述共聚物包含具有碳原子数3~12的烷基的(甲基)丙烯酸酯作为共聚成分,作为前述(B)具有属不饱和双键的化合物,含有相对于前述(B)具有属不饱和双键的化合物总量为51~100质量%的丙烯酸酯单体,将包含前述感光性树脂组合物的感光性树脂层的记作T(μm),并将波长365nm下的吸光度记作A,满足0A/T≤0.007所示的关系,并且,包含前述感光性树脂组合物的感光性树脂层的为40μm以上且600μm以下。
  • 感光性树脂组合层叠
  • [发明专利]一种石墨型耐高温防腐涂料及制备方法-CN201610785395.X在审
  • 田幼华 - 燕园众欣纳米科技(北京)有限公司
  • 2016-08-26 - 2017-02-22 - C09D183/04
  • 本发明涉及一种石墨型耐高温防腐涂料,具体涉及一种石墨型耐高温防腐涂料及制备方法。所述的石墨型耐高温防腐涂料由以下组分及组分百分比原料制成:聚甲基硅氧烷15‑30%;流变剂0.3‑1.2%;氧化铝微片40‑60%;高浓度浓缩铝条9‑15%;有机官能硅烷0.6‑1.2%;有机钛酸盐0.6‑1.2%;正丁醇2‑6%;二甲苯3‑8%;三甲苯8‑15%;石墨0.02‑0.1%。本发明通过采用低粘度和无机物含量高的聚甲基硅氧烷树脂来融合颜料、填料、催化剂、溶剂及石墨,在高温400℃下成,成后长期在高温1000℃下(短期在温度1800℃下)漆膜的附着力不会发生改变,由于添加了石墨可以增大漆膜厚度,最大厚度可涂200μm,的漆膜可以增加对基材的防腐性能。
  • 一种石墨耐高温防腐涂料制备方法
  • [发明专利]基于Cl2反应的结构化石墨制备方法-CN201210158553.0无效
  • 郭辉;张克基;张玉明;张凤祁;邓鹏飞;雷天民 - 西安电子科技大学
  • 2012-05-22 - 2012-09-19 - C01B31/04
  • 本发明公开了一种基于Cl2反应的结构化石墨制备方法,主要解决现有技术中制备的石墨层数不均匀,且制作器件时由于光刻工艺导致石墨电子迁移率降低的问题。其实现过程是:(1)在4-12英寸的Si衬底基片上生长一层碳化层作为过渡;(2)在温度为1150℃-1300℃下利用气源C3H8和SiH4生长3C-SiC薄膜;(3)在3C-SiC薄膜表面淀积一层0.5-1μm的SiO2,并在SiO2上刻出图形窗口;(4)将开窗后裸露的3C-SiC在700-1050℃下与Cl2反应,生成碳;(5)将生成的碳置于Ar气中,在温度为1000-1100℃下退火10-25min,使碳在窗口处重构成结构化石墨用本发明方法制备的结构化石墨表面光滑,孔隙率低,可用于制作微电子器件。
  • 基于clsub反应结构化石制备方法
  • [发明专利]向3C-SiC注入Si的Ni退火石墨纳米带制备方法-CN201210152317.8有效
  • 郭辉;张克基;张玉明;张凤祁;赵艳黎;雷天民 - 西安电子科技大学
  • 2012-05-16 - 2012-09-05 - C01B31/04
  • 本发明公开了一种向3C-SiC注入Si的Ni退火石墨纳米带制备方法,主要解决现有技术中制备的石墨表面不光滑、连续性差,且制作器件时易造成电子迁移率降低的问题。3C-SiC的异质外延生长;接着,在3C-SiC样片上选取注入区,注入Si离子,并将3C-SiC样片置于外延炉中,加热至1200-1300℃,恒温时间为30-90min,使注入区的3C-SiC热解生成碳;然后,在Si基体上电子束沉积300-500nm的Ni,再将生成的碳样片置于Ni上,并将它们一同置于Ar气中,在温度为900-1200℃下退火10-20min生成石墨纳米带。本发明成本低,安全性高,注入区的3C-SiC热解温度降低,且生成的石墨纳米带表面光滑,连续性好,可用于制作微电子器件。
  • sic注入sini退火石墨纳米制备方法
  • [实用新型]真空镀膜用实时修正板-CN201420622836.0有效
  • 张殷;邓琪;张小飞;王静辉;吕子啸 - 杰莱特(苏州)精密仪器有限公司
  • 2014-10-24 - 2015-02-04 - C23C14/24
  • 本实用新型涉及一种真空镀膜用实时修正板,它属于光学真空镀膜实时修正的设备。本实用新型主要是解决现有的修正板存在的镀膜材料浪费大、镀膜不均匀和产品质量差的技术问题。本实用新型采用的技术方案是:真空镀膜用实时修正板,它包括修正板支架,其中:它还包括旋转修正板、旋转装置和固定修正板,固定修正板设在修正板支架的一边,在固定修正板上设有能使旋转修正板旋转的回转导轨,旋转修正板设在固定修正板的上面并使设置在旋转修正板上的导柱位于回转导轨中,旋转装置设在固定修正板上并位于旋转修正板的一侧。
  • 真空镀膜实时修正

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