专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]镀膜设备及其镀膜方法-CN202080001814.0有效
  • 宗坚 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2020-06-09 - 2022-09-27 - C23C16/513
  • 一镀膜装置包括一具有一反应腔的腔室体,一支撑架,一单体释放源以及一等离子激发。所述单体释放源具有至少一释放进口用于引入膜层形成材料进入所述腔室体的所述反应腔。所述等离子激发被配置于所述腔室体的所述反应腔以激发所述膜层形成材料。所述支撑架被设置以支撑一基材,其中所述支撑架被操作地在所述反应腔内移动,以引导所述基材交替地移动靠近所述单体释放源和所述等离子激发,以避免所述膜层形成材料过度分解。
  • 镀膜设备及其方法
  • [发明专利]镀膜设备及其镀膜方法-CN202080001818.9有效
  • 宗坚 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2020-06-09 - 2023-04-28 - C23C16/458
  • 镀膜装置,用于涂覆多个基材,包括一具有一反应腔的腔室体,一支撑架,一单体释放源以及一等离子激发。所述单体释放源具有至少一释放进口用于引入膜层形成材料进入所述腔室体的所述反应腔。所述等离子激发被配置于所述腔室体的所述反应腔的一中间区域以激发所述膜层形成材料,其中多个所述基材被适应性地布置于在所述腔室体内的所述等离子激发的周围,以增加在所述基材的所述表面的镀膜均匀性和提供沉积速度
  • 镀膜设备及其方法
  • [发明专利]荧光检测系统-CN200580046269.2有效
  • 小威廉·D·比克莫尔;丹文·雷·罗伯茨 - 高级分子系统公司
  • 2005-12-20 - 2008-04-23 - G01N21/64
  • 公开了用于在样品中激发和检测荧光的设备和方法。在一个实施例中,提供了用于保持多个样品的样品保持器以及具有所述多个样品中的每一个的激发、光敏接收器或二者的光学集管。在另一实施例中,所述光学集管仅包含所述激发或光敏接收器二者之一,且所述激发和光敏接收器二者中的另一个与所述样品保持器相联结。此系统允许无需使用移动部件并且无任何光学机械干扰或电子干扰地快速激发并测量荧光。它呈现出优异的信噪比,这允许其对非常低水平的荧光差异进行区分。
  • 荧光检测系统
  • [发明专利]用于菌斑检测的设备和方法-CN201580052578.4有效
  • O·T·J·A·弗梅尤伦 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-09-11 - 2020-11-03 - A61B5/00
  • 菌斑检测设备(70)和方法利用激发(72)、光检测器(74)和控制器(76)。激发(72)将波长调制光(λex)输出至评价部位(80),波长调制光具有周期性改变波长,周期性改变波长以对应于对于选取的菌斑的吸收和/或荧光激发光谱中的一个或多个中的非线性的波长为中心控制器(76)可操作地耦合至激发(72)和光检测器(74)用于控制激发输出波长调制光并且根据检测到的光(λsite)和波长调制频率的至少一个高次谐波检测菌斑
  • 用于检测设备方法
  • [发明专利]镀膜设备及其镀膜方法-CN202010517204.8有效
  • 宗坚 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2020-06-09 - 2023-01-10 - C23C16/513
  • 本发明提供一种镀膜设备及镀膜方法,所述镀膜装置包含一反应腔,一支撑架,一单体释放源以及一等离子激发。所述支撑架具有一支撑区以供支撑所述基材。所述等离子激发被安置以供激活所述膜层形成材料,其中所述支撑架的所述支撑区被定位于介于所述单体释放源和所述等离子激发之间,使得所述膜层被均匀地形成于所述基材的表面,且沉积速度加快。
  • 镀膜设备及其方法
  • [实用新型]用于镀膜设备的镀膜组件-CN202021051622.4有效
  • 宗坚 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2020-06-09 - 2021-04-16 - C23C16/513
  • 本实用新型提供一种用于一镀膜设备的镀膜组件,所述镀膜装置包括一反应腔和一支撑架,所述镀膜组件包括一单体释放源以及一等离子激发。所述支撑架具有一支撑区以供支撑所述基材。所述等离子激发被安置以供激活所述膜层形成材料,其中所述支撑架的所述支撑区被定位于介于所述单体释放源和所述等离子激发之间,使得所述膜层被均匀地形成于所述基材的表面,且沉积速度加快。
  • 用于镀膜设备组件

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