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[发明专利]基于激光场复合制导的单兵火箭弹系统-CN202211173029.0在审
发明人：马骏;王家豪 -专利权人：苏州宇安精导光子科技有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： F42B15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于激光场复合制导的单兵火箭弹系统，包括激光场复合制导系统和单兵火箭弹系统，所述单兵火箭弹系统与所述激光场复合制导系统信号连接，并能够对所述激光场复合制导系统检测到的多个目标进行防空打击；所述激光场复合制导系统包括红外探测单元和激光场制导单元，所述红外探测单元检测跟踪敌方的多个目标，并将多个目标的空间方位信息传输给激光场制导单元，所述激光场制导单元将多个目标的空间方位与激光场空间方位信息进行编码，并将编码后的信息通过激光场数据链传输到所述单兵火箭弹系统，便于所述单兵火箭弹系统对目标进行防空打击，从而解决了无法实现多目标同时打击以及作战隐蔽性弱的技术问题。
基于激光复合制导单兵火箭弹系统

[实用新型]适用于难加工材料的匀场激光辅助铣削装置-CN202022969447.3有效
发明人：曾凯;吴贤;沈剑云;刘力;李远;杜明扬 -专利权人：华侨大学;厦门市同安职业技术学校
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： B23P25/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种适用于难加工材料的匀场激光辅助铣削装置，包括高斯激光器(1)、匀场激光整形系统(2)、匀场激光整形器夹持装置(3)、机床主轴架(4)、铣刀刀柄与铣刀(5)、机床工作台(6)；工件通过夹具固定在机床工作台(6)上，高斯激光器(1)和匀场激光整形系统(2)进行光路连接，构成匀场激光热源；匀场激光热源通过夹持装置固定于机床主轴上，通过调节夹持装置各关节出射光可聚焦于工件待加工区域进行加热；高斯激光器(1)和匀场激光整形系统(2)构成激光辅助加热系统。应用本技术方案可实现用匀场激光加热辅助铣削难加工材料，适用于刀具半径或加工区域任意大小的加工场合。
适用于加工材料激光辅助铣削装置

[实用新型]一种微型投影模组-CN202222184650.9有效
发明人：李长磊;黄泽铗;刘欣 -专利权人：奥比中光科技集团股份有限公司
申请日： 2022-08-18 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G03B21/20 文献下载
摘要：本实用新型属于投影技术领域，提供的微型投影模组，包括：基板、垫高台阶、泛光光场投射激光器、散斑光场投射激光器、支撑架、金线以及准直镜。泛光光场投射激光器和散斑光场投射激光器一个设置于垫高台阶的背离基板端，另一个和垫高台阶、支撑架分开设置在基板上，准直镜设置于支撑架，位于散斑光场投射激光器和泛光光场投射激光器出光方向上，金线电连接散斑光场投射激光器的正极、泛光光场投射激光器的正极以及对应的外围电路，从而节约基板损耗，减小结构光模组的尺寸，同时支撑架垫高准直镜，避免金线和泛光光场投射激光器、散斑光场投射激光器与准直镜发生碰撞。
一种微型投影模组

[发明专利]一种雾滴采集布场方法及装置-CN202011376745.X有效
发明人：兰玉彬;常坤;刘圣搏;陈盛德;展义龙;邱幸妍;林泽山;钟万强 -专利权人：华南农业大学
申请日： 2020-11-30 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： G01N1/20 文献下载
摘要：本发明公开一种雾滴采集布场方法及装置，该装置包括支撑柱和布场模块；所述支撑柱至少设有三个；所述布场模块包括主布场模块、副布场模块以及辅助布场模块，所述主布场模块包括两个激光发射器，两个激光发射器的发射方向相互垂直；所述副布场模块包括一个激光发射器和一个激光接收器，所述副布场模块的激光发射器的发射方向与副布场模块的激光接收器的接收方向垂直；所述辅助布场模块包括一个激光接收器；所述布场模块、副布场模块和辅助布场模块还包括用于夹持在支撑柱上的第一夹持机构和用于对采集雾滴的试验仪器进行夹持的第二夹持机构
一种雾滴采集方法装置

[发明专利]立体物件成型系统及其校正方法-CN201610072685.X有效
发明人：周金源;丁明雄 -专利权人：三纬国际立体列印科技股份有限公司;金宝电子工业股份有限公司
申请日： 2016-02-02 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： B29C64/135 文献下载
摘要：本发明公开了一种立体物件成型系统及其校正方法，该系统包含透光件、光束产生模块、平场激光聚焦透镜、平场感光件及控制器。透光件具有工作区。光束产生模快供产生呈线性的成型光束。平场激光聚焦透镜位于光束产生模块及透光件之间，呈线性的成型光束穿过平场激光聚焦透镜后形成平场激光扫描路径，平场激光扫描路径涵盖工作区。平场感光件设置于平场激光扫描路径上，用以接收穿过平场激光聚焦透镜的呈线性的成型光束并产生对应于光束的光功率的感光信号。控制器电连接于光束产生模块及平场感光件。
立体物件成型系统及其校正方法

[实用新型]一种激光掺杂设备-CN202320709996.8有效
发明人：王子港;吴魁艺 -专利权人：天合光能股份有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：本申请提供了一种激光掺杂设备，该激光掺杂设备包括：激光器，远心场镜，可移动工作台以及定位机构，其中，所述激光器发射单路激光，所述单路激光经过所述远心场镜，垂直投射到待加工电池片上；所述远心场镜，用于将所述单路激光聚焦后得到加工激光；所述加工激光，用于垂直投射到所述待加工电池片的加工面以进行激光掺杂加工；可移动工作台，用于固定所述待加工电池片，并运送所述待加工电池片到指定加工位置；定位机构，用于定位所述待加工电池片。在上述技术方案中，通过设置远心场镜，取代了普通场镜，减少了因为场镜场曲因素导致的激光光斑畸变问题，减少了激光热损伤，能够有效提升电池效率。
一种激光掺杂设备

[发明专利]激光投射模组-CN202110220184.2在审
发明人：范真涛 -专利权人：嘉兴驭光光电科技有限公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G01S7/481 文献下载
摘要：本申请公开了一种激光投射模组，其包括激光光源和衍射光学元件，其中，激光投射模组具有第一工作模式和第二工作模式，在第一工作模式下，来自激光光源的激光光束以第一入射状态照射衍射光学元件，并且衍射光学元件投射出第一光场，第一光场至少包括图案化的光场；在第二工作模式下，来自激光光源的激光光束以不同于第一入射状态的第二入射状态照射衍射光学元件，并且衍射光学元件投射出第二光场，第二光场包括匀光光场。根据本发明实施例，提供了一种具有不同工作模式的激光投射模组，其将投射图案化光场和投射匀光光场的功能集于一身。
激光投射模组

[发明专利]复杂流场信息监测系统及方法-CN202210519988.7在审
发明人：盖建新;韦自豪;王亚立;张玲珲 -专利权人：哈尔滨理工大学
申请日： 2022-05-13 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G01N21/39 文献下载
摘要：复杂流场信息监测系统及方法，属于流场信息电子测量技术领域。解决了现有流场信息监测系统存在只能对单一气体进行测量、无法直观表达非均匀流场的结构特征和空间位置特征，也难以预测气体运动特征缺陷的问题。本发明中，激光发射单元用于产生流场测量单元所需的入射激光；流场测量单元用于通过激光对流场中的待测气体进行探测采集激光穿过流场后的投影数据；数据采集单元用于采集流场测量单元输出的投影数据，获得含有流场信息的吸收光谱信号；上位机单元用于利用代数重建算法对含有流场信息的吸收光谱信号进行处理完成流场参数的可视化二维重建；还用于控制激光发射单元发射相应波长的激光。
复杂信息监测系统方法

[发明专利]一种分段式激光光源系统-CN201711115336.2在审
发明人：张金旺;何龙;田海军;陈志洁 -专利权人：四川长虹电器股份有限公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本发明涉及激光显示技术领域，公开了一种分段式激光光源系统，解决现有技术中激光投影显示的散斑效应和不均匀性的问题。本发明包括半导体激光光源、望远缩束系统、激光消散斑‑匀化器；所述半导体激光光源包括二极管阵列模组、阵列准直透镜、分光镜，二极管阵列模组通过各自对应的阵列准直透镜后平行输出激光光场，激光光场通过分光镜耦合成共孔径的激光光场，并进入望远缩束系统；望远缩束系统对激光光场进行孔径压缩，压缩后的激光光场输出至激光消散斑‑匀化器，激光消散斑‑匀化器对压缩后的光场进行匀化、消散斑处理并在其光棒出口处产生均匀的方形光场。
一种段式激光光源系统

[发明专利]一种激光等离子体流场压强的表征方法及系统-CN202211394863.2在审
发明人：李亚举;钱东斌;周毛吉;陈良文;马新文;杨磊;张少锋 -专利权人：先进能源科学与技术广东省实验室;中国科学院近代物理研究所
申请日： 2022-11-07 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光等离子体流场压强的表征方法及系统，包括步骤：通过脉冲激光辐照离散颗粒堆积物表面以产生激光等离子体；调节激光参数以改变产生的激光等离子体流场压强，并捕获通过激光等离子体流场加速形成的颗粒射流；对捕获到的颗粒射流进行分析，以获取颗粒射流速度或者动能参数；根据获取的不同激光参数下对应的颗粒射流速度或者动能参数获取激光等离子体流场压强；通过颗粒射流速度表征不同激光参数下产生的激光等离子体流场压强本发明通过颗粒射流速度直接关联到了激光等离子体流场压强，其通过测量宏观可见的颗粒射流，构建了一个方便、快捷、实时、原位表征激光烧蚀离散微颗粒堆积物时产生的激光等离子体流场压强的方法。
一种激光等离子体压强表征方法系统

[发明专利]基于微透镜阵列与脉冲激光的弥散介质光学参数场重建装置及其重建方法-CN201610348998.3有效
发明人：乔要宾;齐宏;阮世庭;阮立明;谈和平;许传龙;张彪 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2016-05-24 - 公布日： 2019-01-08 - 主分类号： G06T3/40 文献下载
摘要：基于微透镜阵列与脉冲激光的弥散介质光学参数场重建装置及其重建方法，属于红外光学成像领域。目前缺少通过微透镜阵列测量光场信号的技术方法。基于微透镜阵列与脉冲激光的弥散介质光学参数场重建装置，数据采集处理系统(7)连接激光控制器(1)和三个微透镜阵列光场相机；激光控制器(1)连接激光头(2)，激光头(2)和三个微透镜阵列光场相机围成的区域中心设置弥散介质基于微透镜阵列与脉冲激光的弥散介质光学参数场重建方法，包括介质边界出射辐射测量、近红外脉冲激光在弥散介质的传输计算、光学参数场重建环节。本发明实现对弥散介质光学参数场的重建，为近红外光学成像和红外探测技术提供新的技术手段。
基于透镜阵列脉冲激光弥散介质光学参数重建装置及其方法

[实用新型]一种新型振镜激光叠焊设备-CN201720895881.7有效
发明人：林晓聪;郭明华;车荣泓;林康鎬;蓝卓康;陈冠华;梅叶平;王进宝;雷新平;谢志宏;梁家辉 -专利权人：中山汉通激光设备有限公司
申请日： 2017-07-20 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： B23K26/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种新型振镜激光叠焊设备，振镜激光叠焊设备，包括基座，基座上设有光纤激光器和与光纤激光器一端相接的激光振镜，光纤激光器将激光导向至激光振镜内，激光振镜内设有能反射激光的X轴场镜和Y轴场镜以及驱动X轴场镜转动的第一驱动电机和驱动Y轴场镜转动的第二驱动电机，激光振镜上设有供激光射出的镜头，基座上在镜头下方设有供激光射入的保护气装置，保护气装置的出气口下方设有工件台，其技术要点为，由第一驱动电机驱动转动的X轴场镜与由第二驱动电机驱动转动的Y轴场镜复合反射激光控制投射到工件表面的激光螺旋前进，激光螺旋前进轨迹具有重叠加工区。
一种新型激光设备

[发明专利]激光场镜清洁装置及含有其的激光清洗装置、系统与方法-CN202211053675.3在审
发明人：肖刘永;丁志友;张鹏鹏 -专利权人：联亚智能科技（苏州）有限公司
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： B08B1/04 文献下载
摘要：本发明提供一种激光场镜清洁装置，包括固定板，以及设置于固定板上的放料卷组件、放料驱动组件、导向件、场镜清洁组件与收料卷组件；其中，所述放料驱动组件可带动放料卷组件输出的未使用的清洁布移动至与激光场镜相对应的工作位置，所述场镜清洁组件驱动清洁布移动至激光场镜的表面并运动以清洁激光场镜表面上的污物，所述收料卷组件可将使用后的清洁布回收打卷。本发明主要通过设计具有放料卷组件、放料驱动组件、导向件、场镜清洁组件与收料卷组件的激光场镜清洁装置，以实现可通过一键控制激光场镜清洁装置清理激光场镜表面的橡胶颗粒物等污物的功能，无需人工清理，具有操作简单
激光清洁装置含有清洗系统方法

[实用新型]架束制导武器激光信息场参数测试装置-CN201520468853.8有效
发明人：王兆祥;刘学工;常颖;张伟;郭清华;陈伟;王思昌;王利军;刘海滨;裴金顶;郭利强;徐龙堂;付丽;李永峰 -专利权人：中国人民解放军63966部队
申请日： 2015-07-03 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： F41G3/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种驾束制导武器激光信息场参数测试装置，属于激光制导技术领域。驾束制导武器激光信息场参数测试装置至少包括：滤光镜头、激光接收机、控制器和触摸显示屏，其中，滤光镜头用于接收光信号并滤除背景光只让激光信息场的激光透过，激光接收机将激光信息场的激光转换为电信号，对电信号放大、整形后提供给控制器，控制器根据激光接收机提供的整形后的电信号计算出激光信息场的参数，而后传送给触摸显示屏进行显示。本实用新型提供的驾束制导武器激光信息场参数测试装置受背景光的影响较小，测量精确度高。
制导武器激光信息参数测试装置

[发明专利]采用激光干涉场的共聚焦显微镜-CN201110070671.1无效
发明人：罗志勇;孟涛;付彦辉;仓怀兴;纪伟;张翔;扈建琦;崔亚姬 -专利权人：中国科学院生物物理研究所
申请日： 2011-03-23 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： G02B21/06 文献下载
摘要：本发明公开了采用激光干涉场的共聚焦显微镜。该共聚焦显微镜包括：激光干涉场系统、分光系统、物镜系统和成像系统，其中：激光干涉场系统，用于利用多束激光干涉产生空间周期性排列的激光干涉场；分光系统，用于将激光干涉场反射至物镜系统，并将从物镜系统透射的样品反射或激发的光透射或反射至成像系统；物镜系统，用于将激光干涉场成像至样品，并将从样品反射或激发的光透射至分光系统；成像系统，用于利用分光系统透射的样品反射或激发的光成像。本发明中，利用激光干涉元件形成空间周期分布的激光干涉场点光源阵列，从而简化了共聚焦显微镜的构造，减小了其加工的难度和成本。
采用激光干涉聚焦显微镜

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