专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]激光整合装置、电子设备-CN202320231742.X有效
  • 杨玉怀;刘小龙;胡树坤 - 海目星激光科技集团股份有限公司
  • 2023-01-18 - 2023-09-01 - B23K26/064
  • 本实用新型公开了激光整合装置、电子设备,激光整合装置包括安装座、至少两个激光反射机构和场镜,其中,安装座设置有至少两个激光射入孔,各个激光射入孔位于安装座的同侧或者异侧;激光反射机构与激光射入孔逐一对应,激光反射机构设置在安装座内侧,激光反射机构包括X方向反射组件和Y方向反射组件,X方向反射组件用于将从激光射入孔的激光反射到Y方向反射组件,Y方向反射组件用于将从X方向反射组件反射过来的激光反射到场镜;场镜用于对激光反射机构反射激光进行聚焦,场镜设置于安装座外侧。因此,本实用新型能够实现一次激光轨迹实现对极片多层切割,每次切割的出功率较小,有效降低了激光切割的热影响区和毛刺尺寸。
  • 激光整合装置电子设备
  • [发明专利]光学薄膜元件热变形的检测-CN201410633609.2有效
  • 刘丽娜;陈志理;张元芫;安振杰 - 核工业理化工程研究院
  • 2014-11-12 - 2017-08-25 - G01B11/16
  • 本发明公开了光学薄膜元件热变形的检测,包括由固体激光器形成的辐照和由固He‑Ne激光器形成的入射,He‑Ne激光器起由近至远分别设置有准直透镜、扩束透镜、光学窗口和第二导光反射镜,倾斜的第二导光反射镜通过与其平行的第一导光反射镜将光束传输到由相互平行反射腔镜和光斑腔镜形成的腔中;固体激光器起由近至远分别设置有耦合聚焦镜片组,能量光纤和整形镜片组,经过整形镜片组的光束倾斜入射到光学窗口中。本发明低功率和高功率相互独立,避免了辐照对入射的交互影响,本发明适用范围广,可以实现对各类光学薄膜元件和光学基底热变形对光束的调制检测。
  • 光学薄膜元件变形检测
  • [实用新型]一种用于激光精密加工设备的激光精确准直系统-CN202022644531.8有效
  • 胡震;李书然 - 熊三(深圳)智能装备技术有限公司
  • 2020-11-16 - 2021-07-23 - B23K26/064
  • 本实用新型公开一种用于激光精密加工设备的激光精确准直系统,包括待准直的激光、图像采集单元和图像分析单元;待准直的激光包括激光发射单元、沿激光发射单元传播方向布置的激光扩束单元、沿激光扩束单元传播方向布置的第一反射镜、沿第一反射反射布置的第二反射镜和沿第二反射反射布置的加工头;图像采集单元用于获取不同位置的激光光斑的图像信息;图像分析单元与图像采集单元通信连接,用于获取偏移量和发散角设定值。本实用新型解决了传统目视调整方法无法精确量化路上的光斑位置偏差值,实现对激光的精确准直,有效提升了激光加工的加工精度和加工效果。
  • 一种用于激光精密加工设备精确系统
  • [发明专利]一种多通道光发射器组件及其定位方法-CN201711168495.9有效
  • 刘思用;胡百泉;郑盼;蒋方;周日凯 - 武汉电信器件有限公司
  • 2017-11-21 - 2019-08-16 - G02B6/42
  • 本发明涉及模块技术领域,提供了一种多通道光发射器组件及其定位方法。组件包括至少两个激光器,耦合透镜组,以及波分复用组件,第二激光器的入射与第一激光器的入射平行,第二激光器的信号穿过第二带通滤光片抵达玻璃基板的位置,与第一激光器的信号反射到玻璃基板上的位置重合;第二激光器位于第一激光器的信号在入射到波分复用组件时产生的第一反射,和第二激光器的信号在入射到波分复用组件时产生的第二反射之间。本发明通过确定多通道发射组件中各个激光器的产生的反射的路径,计算出会产生光信号串扰的区域,通过将各个激光器设置在不会产生光信号串扰的区域,达到保证各个通道激光信号稳定的目的。
  • 一种通道发射器组件及其定位方法
  • [发明专利]一种飞秒激光频率梳合成波干涉测距方法及测距系统-CN201310122682.9有效
  • 吴冠豪 - 清华大学
  • 2013-04-10 - 2013-07-10 - G01S17/32
  • 本发明涉及一种飞秒激光频率梳合成波干涉测距方法及测距系统,它包括飞秒激光频率梳和迈克尔逊干涉系统等,飞秒激光频率梳发出的入射到第一分镜,经第一分镜透射发射到第一反射镜,经第一反射反射返回到第一分镜;经第一分反射发射到第二分镜,经第二分反射经第一单波长产生及移频发射到第二反射镜,经第二反射反射又经第一单波长产生及移频返回到第二分镜;经第二分镜透射经第二单波长产生及移频发射到第三反射镜,经第三反射反射又经第二单波长产生及移频返回到第二分镜;经第二反射反射和经第三反射反射在第二分镜处合,并与测量臂脉冲合,两个波长的干涉信号由衍射光栅分开后分别由两光电探测器探测接收
  • 一种激光频率合成干涉测距方法系统
  • [发明专利]硅光子芯片功率测量装置、设备、系统及测量方法-CN202010002907.7在审
  • 田桂霞;洪小刚;陈奔;王洁;冯振阳 - 亨通洛克利科技有限公司
  • 2020-01-02 - 2020-04-03 - G02B6/42
  • 本发明公开了一种硅光子芯片功率测量装置、设备、系统及测量方法,硅光子芯片上设有硅光波导,测量装置包括光反射部件,配置于硅光波导出射的传输路径上,硅光波导的出射光反射部件反射后产生反射整形部件,配置于反射的传输路径上,用于将发散的反射集束后输出;功率探测器,用于接收整形部件输出的反射光束,并测量反射光束的功率。本发明通过光反射部件将硅光波导的出射光反射进入空气,再通过整形部件将发散的反射调整为光束后输出,然后通过功率探测器接收并测量出反射光束的功率,以此,在不损伤硅光子芯片结构的前提下,精确有效地测量出硅光子芯片的出功率,实现硅光子芯片晶圆级出性能测试。
  • 光子芯片功率测量装置设备系统测量方法
  • [实用新型]硅光子芯片功率测量装置、设备及系统-CN202020004357.8有效
  • 田桂霞;洪小刚;陈奔;王洁;冯振阳 - 亨通洛克利科技有限公司
  • 2020-01-02 - 2020-08-11 - G02B6/42
  • 本实用新型公开了一种硅光子芯片功率测量装置、设备及系统,硅光子芯片上设有硅光波导,测量装置包括光反射部件,配置于硅光波导出射的传输路径上,硅光波导的出射光反射部件反射后产生反射整形部件,配置于反射的传输路径上,用于将发散的反射集束后输出;功率探测器,用于接收整形部件输出的反射光束,并测量反射光束的功率。本实用新型通过光反射部件将硅光波导的出射光反射进入空气,再通过整形部件将发散的反射调整为光束后输出,然后通过功率探测器接收并测量出反射光束的功率,以此,在不损伤硅光子芯片结构的前提下,精确有效地测量出硅光子芯片的出功率,实现硅光子芯片晶圆级出性能测试。
  • 光子芯片功率测量装置设备系统
  • [发明专利]光学头装置及光学头装置的调整方法-CN200510089488.0无效
  • 和出达贵 - 株式会社三协精机制作所
  • 2005-08-09 - 2006-03-15 - G11B7/12
  • 本发明提供具有能够简单而且稳定地进行受元件安装位置调整的结构的光学头装置。光学头装置1具有第1及第2激光发光元件31及32、具有接受光盘2的反射的受光面7a的受元件7、以及向受光面7a引导反射的导光反射镜21,受光面7a设置成朝向反射对物镜9的入射方向。受元件7设置成能够与受光面7a平行在X方向及Y方向的二维方向进行安装位置调整,导光反射镜21设置成能够与受光面7a平行在X方向的一维方向进行安装位置调整。
  • 光学装置调整方法

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