专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]远心光源及成像设备-CN202122224773.6有效
  • 陆洋;张庆相;姚康;康少清 - 深圳市视清科技有限公司
  • 2021-09-15 - 2021-11-09 - G01M11/02
  • 本实用新型实施例公开了一种远心光源及成像设备,该远心光源设置在成像设备上,包括外壳;光源后组,光源后组包括能够发射漫射光源组件以及设置在漫射的传播路径上的光阑,光阑上开设有多个按照一定规律排布的通孔;镜头前组,具有至少一个透镜,且位于漫射的传播路径上;光源组件发射的漫射经由光阑传播后能够形成明暗交替的光斑,且形成的明暗交替的光斑经由镜头前组传播后能够形成平行光射出外壳。通过在光阑上设置通孔,使得光源组件照射的漫射从光阑通过时形成明暗交替的光斑,经由镜头前组平行化后射向镜片,使得镜片上的每个定位点的位置均能够同时用三种光源进行检测,增加检测的准确性,也增加定位点检测的效率
  • 光源成像设备
  • [其他]晶片边缘检查系统-CN200990100581.9有效
  • C.福格斯;A.佩;A.R.菲利普;T.D.乐;W.周 - 鲁道夫科技公司
  • 2009-09-08 - 2012-05-30 - G01N21/00
  • 一种晶片边缘检查系统,其特征在于,所述晶片边缘检查系统包括:漫射体,其具有在其中形成的用于接受晶片边缘的狭槽,该漫射体适合于将朗伯光辐射到晶片边缘上;至少一个光源,其在基本上不发射漫射的情况下被直接指引到漫射体中;一对挡板,该对挡板中的每一个位于漫射体的任一侧以防止漫射接触漫射体,并防止漫射逸出漫射体,使得漫射体是用于照射晶片的边缘的高效光源
  • 晶片边缘检查系统
  • [发明专利]一种用于芯片缺陷检测系统图像获取的照明装置-CN202111096263.3有效
  • 程坦;刘涛;邹爱刚;汪玮 - 中科海拓(无锡)科技有限公司
  • 2021-09-18 - 2023-08-04 - G01N21/01
  • 本发明公开了一种用于芯片缺陷检测系统图像获取的照明装置,包括遮光罩、镜头固定座、同轴平行光源模块和漫射模块,所述镜头固定座安装在遮光罩的上端。本发明所述的一种用于芯片缺陷检测系统图像获取的照明装置,通过设有的同轴平行光源模块和漫射模块,当平行光线照射在芯片表面时,引脚面和中心焊盘等金属区域部分在平行光的照射下发生镜面发射,而塑封面由于其表面粗糙度较大,则发生漫反射,而由漫射模块的漫射LED灯珠发射的漫射照射在芯片表面时,可以增强照射在塑封面表面的光照强度,使得芯片表面缺陷成像效果更加的均匀,可以提高芯片表面缺陷图像的质量,有利于后续更好的对图像进行处理和分析
  • 一种用于芯片缺陷检测系统图像获取照明装置

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