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[实用新型]一种基于光纤光栅保护泵浦源的光纤激光器-CN202223448321.7有效
发明人：王健强;刘家兴;吉贵军;王兴龙 -专利权人：珠海光库科技股份有限公司
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： H01S3/067 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基于光纤光栅保护泵浦源的光纤激光器，包括泵浦源、输出光纤和输出头，输出光纤连接在泵浦源和输出头之间，输出光纤的部分卷绕形成增益光纤，输出光纤上设置有啁啾倾斜光纤光栅、高反光纤光栅、低反光栅和模式滤除器，泵浦源、啁啾倾斜光纤光栅、高反光纤光栅、增益光纤、低反光栅、模式滤除器和输出头依次沿光输出方向布置。利用高反光纤光栅既为激光器谐振腔提供高反的功能，同时利用啁啾倾斜光纤光栅可以将高反光纤光栅无法反射的信号光滤除，继而高效地起到保护泵浦源的作用。
一种基于光纤光栅保护泵浦源激光器

[发明专利]X射线双相位光栅相衬成像系统-CN201811647639.3在审
发明人：李冀;雷耀虎;黄建衡;刘鑫 -专利权人：深圳大学
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： G01N23/041 文献下载
摘要：本发明公开了一种X射线双相位光栅相衬成像系统，包括沿X射线发射方向依次设置的X射线管、源光栅G₀、相位光栅和X射线探测器，所述相位光栅包括间隔设置第一相位光栅G₁和第二相位光栅G′₁，所述第一相位光栅G₁、第二相位光栅G′₁位于源光栅G₀和X射线探测器之间，在第一相位光栅G₁后形成自成像次级源G₂；所述X射线管发出的X射线、源光栅G₀与第一相位光栅G₁组成一个泰伯劳系统；所述自成像次级源G₂与第二相位光栅G′₁组成逆泰伯劳系统。本发明的系统能够避免小周期、高深宽比的源光栅和大面积、小周期、高深宽比吸收光栅的使用，降低光栅相衬成像系统的实现难度。
相位光栅源光栅相衬成像系统高深宽比次级源自成像光栅相衬成像间隔设置吸收光栅依次设置

[发明专利]用于X射线的源光栅、用于X射线相衬图像的成像装置和X射线计算层析成像系统-CN200980112851.2有效
发明人：伊藤英之助;市村好克;中村高士;今田彩 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2009-04-13 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： G21K1/02 文献下载
摘要：提供用于X射线等的源光栅，所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间，并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120)，所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。
用于射线光栅图像成像装置计算层析系统

[发明专利]基于MOSFET源漏极光栅化THz探测器制备方法-CN201811456352.2在审
发明人：马建国;周绍华 -专利权人：天津大学
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2019-04-19 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于MOSFET源漏极光栅化THz探测器制备方法：在硅基底上依次通过光刻、离子注入、去胶、氧化物生长、牺牲层沉积、刻蚀、源漏区离子注入，制备出THz探测器底部器件；在底部器件上通过掩膜版光刻刻蚀手段制备出符合要求的源极光栅结构和漏极光栅结构；将源极光栅结构和漏极光栅结构分别利用电子束蒸发制备出沉积厚度满足预期的源极层和漏极层，完成器件的源漏极光栅化；将完成源漏极光栅化的器件进一步蒸镀栅极层。
光栅结构光栅化源漏极制备探测器制备探测器漏极源极沉积离子发明制备工艺太赫兹探测器电子束蒸发氧化物生长集成化漏极层牺牲层掩膜版预期的源极层源漏区栅极层光刻硅基可控刻蚀量产去胶蒸镀成熟

[发明专利]一种用于裸眼立体显示的分光系统-CN201110361757.X有效
发明人：胡跃辉;尹静;吕国强;吴娟 -专利权人：合肥工业大学
申请日： 2011-11-16 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： G02B27/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于裸眼立体显示的分光系统，采用高频像源，在高频像源光路前方依次设置有一级光栅、二级光栅，其中一级光栅为衍射光栅，二级光栅为黑白光栅，最后得到在空间中形成梳状分布的多个子像源。本发明提出的分光系统分光效果较好，通过一级衍射光栅的和二级黑白光栅依次对高频像源的出射光进行调制，能大幅度的减少基于视差式立体显示中存在的串扰现象。
一种用于裸眼立体显示分光系统

[发明专利]用于结构光投射的全息波导设备-CN201780031387.9有效
发明人： M·M·波波维奇;J·D·沃德恩;A·J·格兰特 -专利权人：迪吉伦斯公司
申请日： 2017-04-10 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：一种结构光投射器包括：光源，发射第一波长的光；至少一个可切换光栅，能够在非衍射状态和衍射状态之间切换；以及至少一个无源光栅。可切换光栅和无源光栅中的至少一个提供第一光栅配置，以用于在第一时间间隔中投射均匀照明。可切换光栅和无源光栅中的至少一个提供第二光栅配置，以用于在第二时间间隔中内投射结构照明。
用于结构投射全息波导设备

[发明专利]一种X射线光栅相位衬度成像装置和方法-CN201310557196.X在审
发明人：吴自玉;王志立;高昆;刘刚;潘志云 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2013-11-11 - 公布日： 2015-05-20 - 主分类号： A61B6/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种大视场、高衬度、低剂量的硬X射线光栅相位衬度成像装置和方法，所述装置包括源发射器(31)、源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)，该源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)依次设置在源发射器(31)的传播路径上，分束光栅(G1)的周期为30～50μm、高宽比不大于20。本发明通过增大光栅周期，提高分束光栅的空占比，同时增加物体到分析光栅的距离，提供了一种高图像衬度、低辐射剂量、大视场相位衬度成像的装置与方法，并且本发明能够利用常规多色X光源和现有的光栅制作工艺，适于实际临床应用
一种射线光栅相位成像装置方法

[发明专利]防误入带电铠装开关柜触电的智能管控装置及其控制方法-CN202211073985.1在审
发明人：倪汇川;曾伟华;权运良;贾万群;邹贤峰;王娟;杨波;王浩;汪雷鸣;章雄;叶秋诗;严石;叶宏 -专利权人：国网安徽省电力有限公司铜陵供电公司;上海爱科锐特控制技术有限公司
申请日： 2022-09-02 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H02B1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种防误入带电铠装开关柜触电的智能管控装置，包括与控制装置连接的热释电人体红外幕墙、无源非金属接近开关及无源非金属光栅幕墙；所述无源非金属光栅幕墙包括两个平行设置的第一无源非金属光栅幕墙的非金属支架、第二无源非金属光栅幕墙的非金属支架，及安装在所述第一无源非金属光栅幕墙的非金属支架、第二无源非金属光栅幕墙的非金属支架内部的多个全反射棱镜实现无源非金属光栅幕墙。
防误入带电开关柜触电智能装置及其控制方法

[发明专利]源光栅、干涉计和被检体信息获取系统-CN201410337362.X无效
发明人：佐藤玄太 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-07-16 - 公布日： 2015-01-21 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：公开了源光栅、干涉计和被检体信息获取系统。源光栅包括：第一副源光栅，其中透过X射线的第一透过部和屏蔽X射线的第一屏蔽部在第一方向上交替排列；以及第二副源光栅，其中透过X射线的第二透过部和屏蔽X射线的第二屏蔽部在与第一方向正交的第二方向上交替排列第一副源光栅是弯曲的，使得该弯曲上的两个位置在第一方向上对齐。第二副源光栅是弯曲的，使得该弯曲上的两个位置在第二方向上对齐。
光栅干涉被检体信息获取系统

[发明专利]一种拉曼光纤激光器-CN201811605570.8有效
发明人：齐亮;王勇;赵冉冉 -专利权人：山东省科学院激光研究所
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： H01S3/067 文献下载
摘要：本发明公开了一种拉曼光纤激光器，包括依次连接的高反光纤光栅、拉曼激光种子源、光纤激光泵浦源和拉曼激光放大器，所述拉曼激光种子源包括依次连接的反射端级联光栅串、拉曼增益光纤和输出端级联光栅串，所述反射端级联光栅串与高反光纤光栅相连，所述光纤激光泵浦源包括依次连接的半导体泵浦激光器、光纤侧面合束器、反向输出光栅、掺镱光纤和正向输出光栅，所述半导体泵浦激光器与输出端级联光栅串相连，所述正向输出光栅与拉曼激光放大器相连，本发明所公开的拉曼光纤激光器具有结构简单
一种光纤激光器

[实用新型]一种便携式光栅干涉仪-CN201120441396.5有效
发明人：梁震华 -专利权人：浙江华震数字化工程有限公司
申请日： 2011-11-09 - 公布日： 2012-09-05 - 主分类号： G01B9/023 文献下载
摘要：本实用新型公开一种便携式光栅干涉仪，光栅干涉源控制电路包括第一单片机，经光电隔离连到第一步进电机驱动模块驱动第一步进电机完成对光栅干涉源的后聚焦控制，经光电隔离连到第三步进电机驱动模块驱动第三步进电机完成对光栅干涉源的光栅片的旋转控制，经光电隔离连到第四步进电机驱动模块驱动第四步进电机完成对光栅干涉源的光刀的开关控制，所述的光刀在所述的便携式三维重建数据获取系统用于在光栅干涉源中起到对光线的遮蔽作用，第一磁栅尺经光电隔离连到第一单片机第一磁栅尺用于测量光栅干涉源的后聚焦位移量。本实用新型对于光栅干涉仪提供了可便携化的硬件实现技术方案。
一种便携式光栅干涉仪

[发明专利]一种用于X射线光栅相衬成像装置的探测器图像校正方法-CN201610331299.8有效
发明人：刘刚;胡仁芳;昝贵彬;韩华杰;高昆;陆亚林 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2016-05-17 - 公布日： 2020-03-27 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本发明提供了用于X射线光栅相衬成像装置的探测器图像校正方法，方法首先将源光栅、分束光栅和分析光栅从光路中移除，在X射线管关闭的状态下，采集探测器输出的图像，作为暗电流校正图像Ioffset，然后将源光栅放置于X射线管和探测器之间，打开X射线管，采集探测器输出的图像，作为采集增益校正图像Igain，接着将源光栅、分束光栅和分析光栅放回光路中，并将样品放置于源光栅和分束光栅或者分束光栅和分析光栅之间的光路上，采集探测器输出的图像，作为数据图像Iacquire，最后根据暗电流校正图像I
一种用于射线光栅成像装置探测器图像校正方法

[发明专利]基于MOSFET栅源极光栅化THz探测器制备方法-CN201811458950.3在审
发明人：马建国;周绍华 -专利权人：天津大学
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2019-04-19 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于MOSFET栅源极光栅化THz探测器制备方法：在硅基底上依次通过光刻、离子注入、去胶、氧化物生长、牺牲层沉积、刻蚀、源漏区离子注入、漏区电极生长，制备出THz探测器底部器件；在THz探测器底部器件上通过掩膜版光刻刻蚀手段制备出符合要求的源极光栅结构；将源极光栅结构利用电子束蒸发制备出沉积厚度满足预期的源极层，完成器件源极光栅化；将器件通过光刻刻蚀手段制备出符合要求的栅极光栅结构；将栅极光栅结构利用电子束蒸发制备出沉积厚度满足预期的栅极层，完成器件栅极光栅化。
制备光栅结构光栅化探测器源极沉积电子束蒸发探测器制备预期的栅源极离子发明制备工艺太赫兹探测器氧化物生长电极生长器件栅极集成化牺牲层掩膜版源极层源漏区栅极层光刻硅基可控刻蚀量产漏区去胶成熟

[发明专利]扫描式X射线光栅干涉成像系统及方法-CN201910198696.6在审
发明人：李晶;邓锴;谢卫平;袁建强 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2019-03-15 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： G01N23/20 文献下载
摘要：本发明提供一种扫描式X射线光栅干涉成像系统及方法，具备：产生X射线的光源；把从光源入射的X射线分离成多个线光源的源光栅；能使X射线波前产生相位分布从而在光栅下游产生规则的竖状条纹的相位光栅；采用X射线吸收光栅并将条纹图样的衰减、扭曲、或模糊信息转化为强度信息的分析光栅；和记录X射线透过分析光栅后的图像并使待测样品沿一个方向平移而进行连续扫描的探测器；其中，从光源入射X射线的方向依次配置源光栅、待测样品、相位光栅、分析光栅和探测器；源光栅、相位光栅和分析光栅中任意一个为错位的阶梯状光栅。
光栅相位光栅光源干涉成像系统待测样品扫描式源光栅探测器入射分析阶梯状光栅系统鲁棒性成像过程连续扫描模糊信息强度信息条纹图样相位分布平移配置源线光源条纹竖状衰减成像错位扭曲图像记录拓展转化

[发明专利]在微分相位对比成像中对齐源光栅到相位光栅距离以用于多阶相位调谐-CN201380043436.2有效
发明人： G·马滕斯;H·德尔;T·D·伊斯特尔;E·勒斯尔;U·范斯特文达勒 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2013-08-20 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：为了提供对用于微分相位对比成像系统中的制造和维护的预调谐和调整要求的降低，提供了一种用于微分相位对比成像的X射线成像系统(10)，其包括微分相位对比设置(12)，所述微分相位对比设置具有X射线源(14)和X射线探测器(16)、包括源光栅(20)、相位光栅(22)和分析器光栅(24)的光栅布置(18)，其中，所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，提供了用于在检查中的对象与所述光栅中的至少一个之间的相对移动的移动布置、以及处理单元(32)和用于平移所述源光栅的平移布置(34)。使所述源光栅相对于所述干涉仪单元错位，使得在所述探测器的平面中能检测到莫尔条纹。所述处理单元被配置为在X射线辐射后由所述探测器提供的信号中检测莫尔图样。所述处理单元还被配置为计算平移信号(38)，所述平移信号用于平移所述源光栅以实现预定的莫尔图样。所述平移布置被配置为基于所述平移信号的值至少在X射线投影方向(30)上调整所述源光栅的定位。
源光栅微分相位相位光栅分析器光栅平移对比成像探测器干涉仪单元处理单元平移信号光栅图样配置错位调谐莫尔条纹相对移动相位调谐对齐检测多阶平行移动制造检查维护

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