专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果4457942个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]红薯清洗设备-CN201621301564.X有效
  • 邓新玻;葛先萍 - 彭水县龙须晶丝苕粉有限公司
  • 2016-11-30 - 2017-10-24 - A23N12/02
  • 本实用新型公开了一种红薯清洗设备,包括依次设置的推进清洗机、去石清洗机、桨叶清洗机和鼠笼式清洗机。推进清洗机内设有呈螺旋结构的旋转推进机构。去石清洗机竖向设置于推进清洗机的一侧,去石清洗机内设有螺旋清洗桨叶,去石清洗机内于螺旋清洗桨叶的下端设有过滤筛。桨叶清洗机设置于去石清洗机的一侧,该桨叶清洗机内设有搅拌清洗机构。鼠笼式清洗机设置于桨叶清洗机的一侧,鼠笼式清洗机设置有呈螺旋结构的旋转上料机构。推进清洗机、去石清洗机、桨叶清洗机和鼠笼式清洗机内分别设有多个清洗喷头。本实用新型分四道清洗工序清洗,提高了红薯的清洗质量,降低了劳动力成本,提高了红薯清洗效率。
  • 红薯清洗设备
  • [发明专利]用于机械零部件整体清洗的斜坡清洗-CN201710581024.4在审
  • 王卫东 - 无锡市白马机械设备有限公司
  • 2017-07-17 - 2017-09-15 - B08B3/02
  • 本发明公开了一种用于机械零部件整体清洗的斜坡清洗箱,包括斜坡清洗箱和超声波清洗箱,所述斜坡清洗箱倾斜向上延伸设置,所述超声波清洗箱设于所述斜坡清洗箱下端,所述超声波清洗箱通过所述出料口与所述斜坡清洗箱连通,所述斜坡清洗箱底部斜坡面上设有多根并排滚动设置的输送辊,所述斜坡清洗箱两侧箱体上安装设置有高压水喷枪,所述斜坡清洗箱上端设有折叠端盖板,所述超声波清洗箱一侧箱体上安装有超生波振荡清洗机构。通过上述方式,本发明能够专用于机械部件的卸料清洗工作。
  • 用于机械零部件整体清洗斜坡
  • [发明专利]一种清洗机台-CN202110250285.4在审
  • 王建东;顾立勋 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-03-08 - 2021-07-09 - H01L21/67
  • 本发明实施例公开了一种清洗机台,其特征在于,包括:槽清洗部,单片清洗部以及转移部;所述槽清洗部包括至少一个槽清洗单元,所述槽清洗单元一次可以清洗一片或者多片晶片;所述单片清洗部包括至少一个单片清洗单元,所述单片清洗单元一次仅可以清洗一片晶片;所述转移部用于在所述槽清洗部和所述单片清洗部之间转移晶片。
  • 一种清洗机台
  • [实用新型]一种碟管反渗透膜清洗系统-CN202020047488.4有效
  • 李红;孙巍;鲁彦君 - 四川水之子环保科技有限公司
  • 2020-01-10 - 2020-10-16 - B01D65/02
  • 本实用新型公开了一种碟管反渗透膜清洗系统,包括清洗供液泵和碟管膜柱组件,清洗供液泵进水端与水箱通过清洗进液管连通,清洗供液泵出水端与袋过滤器进水端通过管道相连通,碟管膜柱组件包括碟管膜柱A和碟管膜柱B,碟管膜柱A的清洗进口A与袋过滤器出水端相连通,碟管膜柱A的清洗液回流口A密闭连通有清洗液回流管A,碟管膜柱A的回流水出水口A密闭连通有清洗回流水管A,碟管膜柱A具有浓水出水管A,碟管膜柱B与碟管膜柱A结构相同。本实用新型可以在清洗液压力过大时回流部分清洗液,同时在碟管膜柱中能够形成一个清洗搅拌水流,提高了清洗效率,可以节约清洗液用量,让清洗液中的药剂得到充分利用。
  • 一种碟管式反渗透清洗系统
  • [发明专利]半导体圆晶清洗设备-CN202011524625.X在审
  • 陈铁龙;林智颖;陈坤;张振;孙东初 - 苏州睿智源自动化科技有限公司
  • 2020-12-22 - 2021-04-16 - B08B3/02
  • 本发明公开了一种半导体圆晶清洗设备,包括机架,所述机架由干湿隔断门分隔成湿清洗区和干清洗区;所述湿清洗区包括化学试剂清洗室、纯水清洗室、用于运输花篮的湿机械手和用于清洗湿机械手的机械手清洗室;所述干清洗区包括圆晶甩干室、圆晶存放室和用于运输花篮的干机械手;所述机架上安装有用于驱动所述湿机械手/所述干机械手进行上下和/或左右移动的驱动模组。本发明利用机械手实现化学试剂清洗、纯水清洗和甩干三道工序,提高半导体清洗的自动化程度;且各个清洗室的结构设计利于提高半导体清洗的洁净效果,有助于产品良率的提高。
  • 半导体清洗设备
  • [实用新型]半导体圆晶清洗设备-CN202023111090.1有效
  • 陈铁龙;林智颖;陈坤;张振;孙东初 - 苏州睿智源自动化科技有限公司
  • 2020-12-22 - 2021-10-22 - B08B3/02
  • 本实用新型公开了一种半导体圆晶清洗设备,包括机架,所述机架由干湿隔断门分隔成湿清洗区和干清洗区;所述湿清洗区包括化学试剂清洗室、纯水清洗室、用于运输花篮的湿机械手和用于清洗湿机械手的机械手清洗室;所述干清洗区包括圆晶甩干室、圆晶存放室和用于运输花篮的干机械手;所述机架上安装有用于驱动所述湿机械手/所述干机械手进行上下和/或左右移动的驱动模组。本实用新型利用机械手实现化学试剂清洗、纯水清洗和甩干三道工序,提高半导体清洗的自动化程度;且各个清洗室的结构设计利于提高半导体清洗的洁净效果,有助于产品良率的提高。
  • 半导体清洗设备
  • [发明专利]基板清洗装置及清洗方法-CN201210499934.5有效
  • 王晖;陶学成;陈福平 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
  • 2012-11-29 - 2018-01-16 - B08B3/04
  • 本发明公开了一种基板清洗装置和方法,装置包括单片清洗腔体,用于基板的清洗和干燥;槽清洗腔体,用于基板浸泡清洗和/或干燥,槽清洗腔体具有盛放多片基板的支架和用于升降和翻转支架的支架翻转装置;第一机械手,将干态基板放入或取出单片清洗腔体;及第二机械手,在单片清洗腔体和槽清洗腔体之间传输基板。本发明将槽清洗与单片清洗相结合,对基板进行槽清洗或单片清洗或两者结合,基板在槽清洗腔体中清洗结束后,可不用干燥处理而直接传输至单片清洗腔体,缩短了工艺流程周期,降低了工艺成本,做到了基板干湿分离。
  • 清洗装置方法
  • [实用新型]一种莲藕清洗装置-CN201620047343.8有效
  • 张士清 - 天津市士清莲藕种植有限公司
  • 2016-01-19 - 2016-12-21 - A23N12/02
  • 本实用新型提供一种莲藕清洗装置,包括清洗池、支架、导轨、框清洗管路和网清洗篮,所述支架设置于清洗池两侧;所述网清洗篮位于清洗池内部,体积小于清洗池,该网清洗篮顶部两侧设置有可挂在清洗池侧壁顶端的挂钩;所述导轨包括一条水平设置的横向导轨和两条设置于横向导轨两端的纵向导轨,所述纵向导轨设置于支架上,所述横向导轨通过滑块与纵向导轨相连,在纵向导轨上进行往复移动,该横向导轨位于清洗池上方;所述框清洗管路设置于横向导轨上,将网清洗篮框在内部;该框清洗管路上设置有若干喷嘴,所述喷嘴均朝向网清洗篮。本实用新型具有清洗效果好,劳动强度低,工作效率高的优点。
  • 一种莲藕清洗装置
  • [发明专利]清洗垂直炉管的设备及其方法-CN03153391.4有效
  • 曾国邦;王朝祥 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2003-08-12 - 2005-02-16 - F28G9/00
  • 一种清洗垂直炉管的设备及其方法,该清洗垂直炉管的设备,包括一溢流槽,待清洗垂直炉管放置在溢流槽内;以及一清洗液供应装置,配置在垂直炉管底部,以对垂直炉管内部喷洒清洗液;清洗液喷洒至垂直炉管后会流下来至溢流槽内,使垂直炉管底部浸泡在清洗液中。该清洗方法,是将待清洗垂直炉管放置在溢流槽内,再由设于炉管底部内的清洗液供应装置喷洒清洗液至炉管内部,之后清洗液会顺着炉管内壁流下至溢流槽内,而使炉管底部浸泡在清洗液中。另溢流槽底部设有至少一排出孔,可控制清洗液多寡,进而控制炉管底部浸泡在清洗液中的时间。由于通常在炉管底部有较厚的沉积物,故此清洗方法可将炉管底部清洗干净,且清洗液不会对炉管其它部位造成过度侵蚀。
  • 清洗垂直炉管设备及其方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top