专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种化学机械抛光研磨的制备方法及化学机械抛光方法-CN201911338227.6在审
  • 杨鹏;周文斌;张磊 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2019-12-23 - 2020-05-01 - C09G1/02
  • 本申请公开了一种化学机械抛光研磨的制备方法及化学机械抛光方法,其中,化学机械抛光研磨的制备方法在获取了待处理研磨和预设有机硅烷后,利用预设有机硅烷对分散在有机溶剂中的待处理研磨进行表面改性处理,并对待分离液体进行处理,以获得表面改性的化学机械抛光研磨,表面改性的化学机械抛光研磨可以被有机化合物均匀包裹,在避免表面改性的化学机械抛光研磨研磨液体中团聚,避免在化学机械抛光处理过程中团聚的研磨对半导体元件表面造成损伤情况的基础上另外,表面改性的化学机械抛光研磨与有机化合物的结合更加紧密,有利于提升在化学机械抛光的研磨过程中的缓冲效果。
  • 一种化学机械抛光研磨剂制备方法
  • [发明专利]带冷却功能的防沉集中转车-CN201610558683.1在审
  • 袁树明;韦建晶 - 苏州伟仕泰克电子科技股份有限公司
  • 2016-07-16 - 2016-10-26 - B24B57/00
  • 本发明涉及带冷却功能的防沉集中转车,包括车体、回收泵、过滤器、冷却管、储液罐、搅拌机,实际使用时,先将研磨注入储液罐,当研磨达到一定量时,启动回收泵,将研磨从储液罐中泵出至过滤器内,经过滤器过滤后,再从过滤器出液端输送至研磨设备的进液口,由于研磨内的大颗粒容易沉集,因此本发明在储液罐上设置搅拌机,并将搅拌机的搅拌桨部分设置在储液罐底部,这样当启动搅拌机时,可以促使研磨处于一个动态的状态下,避免沉集现象发生,同时,当研磨温度较高时,将冷却管与低温液体循环泵连接,通过低温液体在冷却管内的循环来带走研磨内的多余热量。
  • 冷却功能集中转车
  • [实用新型]带冷却功能的防沉集中转车-CN201620749394.5有效
  • 袁树明;韦建晶 - 苏州伟仕泰克电子科技股份有限公司
  • 2016-07-16 - 2017-02-22 - B24B57/00
  • 本实用新型涉及带冷却功能的防沉集中转车,包括车体、回收泵、过滤器、冷却管、储液罐、搅拌机,实际使用时,先将研磨注入储液罐,当研磨达到一定量时,启动回收泵,将研磨从储液罐中泵出至过滤器内,经过滤器过滤后,再从过滤器出液端输送至研磨设备的进液口,由于研磨内的大颗粒容易沉集,因此本实用新型在储液罐上设置搅拌机,并将搅拌机的搅拌桨部分设置在储液罐底部,这样当启动搅拌机时,可以促使研磨处于一个动态的状态下,避免沉集现象发生,同时,当研磨温度较高时,将冷却管与低温液体循环泵连接,通过低温液体在冷却管内的循环来带走研磨内的多余热量。
  • 冷却功能集中转车
  • [发明专利]研磨再循环处理系统及研磨回收·再生方法-CN201980020537.5有效
  • 月形扶美子;前泽明弘;南条崇 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2019-03-06 - 2023-06-02 - B24B57/02
  • 本发明的课题在于提供用于从加工完的研磨浆料中有效率地回收研磨、将其作为再生研磨浆料而再利用的研磨再循环处理系统及研磨回收·再生方法。本发明的研磨再循环处理系统控制用于研磨研磨浆料中的研磨的构成成分和被研磨物的构成成分的浓度,且继续研磨加工,从加工完的研磨浆料中将被研磨物的构成成分除去,将研磨回收·再生,其特征在于,具有:研磨加工工序部;和具有浆料供给罐的研磨浆料回收工序部,所述浆料供给罐贮存用于研磨研磨,一边进行控制以使浆料供给罐中的研磨的构成成分的浓度成为研磨加工工序开始时的初期浓度以下,一边向浆料供给罐中供给再生研磨浆料
  • 研磨剂再循环处理系统回收再生方法
  • [发明专利]再生研磨浆料的制备方法和研磨浆料-CN202210485071.X在审
  • 高桥笃;前泽明弘;月形扶美子;沟口启介 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2022-05-06 - 2022-11-08 - C09K3/14
  • 本发明的课题在于提供研磨速度的降低少且划痕、腐蚀的产生少的再生研磨浆料的制备方法和研磨浆料。本发明的再生研磨浆料的制备方法的特征在于,使用含有氧化铈研磨和分散剂的基准研磨浆料研磨硅为主成分的被研磨物后,由使用完毕的研磨浆料制备再生研磨浆料,其中,经过浆料回收工序、分离浓缩工序和研磨再生工序来制备再生研磨浆料,所述研磨再生工序是通过在该分离浓缩后的上述氧化铈研磨中添加pH调节和上述分散剂从而调整再生研磨浆料以使得25℃换算的pH值在6.0~10.5的范围内并使电导率的值相对于上述基准研磨浆料在0.10
  • 再生研磨剂浆料制备方法

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