专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]溶液流方法-CN200680009649.3无效
  • 武田亮 - 富士胶片株式会社
  • 2006-03-02 - 2008-04-16 - B29C41/28
  • 本发明提供聚合物膜(76,102)的溶液流。将含有三乙酸纤维素聚合物和溶剂的涂料(22,115-117)在移动的支持带(34,121)上,以形成膜(69,122),然后将膜从支持带上剥离并且干燥,以制备聚合物膜。在溶液流延中,将膜在将膜从支持带上剥离之前不久冷却。优选地,将冷却膜的冷却温度设置在低于6℃。将膜在预定冷却区内冷却,安置所述的预定冷却区以在膜剥离点处开始,并且从此处向上游延伸等于或短于支持带长度的25%的长度。膜由用于冷却的引起流动的冷却气体吹风。
  • 溶液方法
  • [发明专利]金刚石-碳化硅基板及其制备方法与应用-CN202011603006.X有效
  • 何新波;刘鹏飞;何十三;吴茂 - 北京科技大学广州新材料研究院
  • 2020-12-29 - 2022-09-27 - C04B35/571
  • 本发明涉及一种三维连续结构金刚石‑碳化硅基板的制备方法,包括如下步骤:将聚碳硅烷、硅粉、分散剂、粘结剂、塑化剂和溶剂混合后进行湿法球磨,制备浆料;将浆料进行成型,干燥,制备坯;在坯中通过化学气相渗透过程填充金刚石通过以聚碳硅烷为陶瓷前驱体,成型法制备薄板状多孔碳化硅,化学气相渗透在多孔碳化硅上沉积致密的金刚石,达到了致密化的目的。本发明中的三维连续结构金刚石‑碳化硅基板的制备方法,不仅克服了硅蒸汽渗透导致的基体中大量硅残余与金刚石易石墨化的问题,还有利于提高复合材料热导率。
  • 金刚石碳化硅及其制备方法应用
  • [发明专利]双玻组件用透明EVA封装胶膜的生产工艺-CN201610324245.9在审
  • 张好宾;吕松;何胡送 - 常州斯威克光伏新材料有限公司
  • 2016-05-16 - 2016-09-28 - C09J123/08
  • 首先将乙烯‑醋酸乙烯共聚物,与晶体粉末状光稳定剂及粉末状抗氧剂等按一定比例混合均匀后经过挤出造粒制备成EVA功能性母粒;然后再将乙烯‑醋酸乙烯共聚物与母粒、液体交联剂、硅烷偶联剂、交联促进剂等充分混合后,经过工艺生产,工艺流程为:混料‑挤出‑‑测厚‑压花‑定型‑切边‑收卷‑包装;本生产工艺采用先EVA母粒制备,后进行工艺制备胶膜具有以下特点:首先母粒制备可有效避免少量粉末助剂在配方中的混合不均匀以及对薄膜生产产生的粉体污染;工艺生产,比传统压延工艺,胶膜冷却效果好;生产出的胶膜尺寸稳定性好,收缩率低。
  • 组件透明eva封装胶膜生产工艺
  • [发明专利]法制备层状硼化锆超高温陶瓷的方法-CN201010622380.4无效
  • 魏春城;田贵山;冯柳;周立娟 - 山东理工大学
  • 2010-12-30 - 2011-09-07 - C04B35/66
  • 本发明提供一种法制备层状硼化锆超高温陶瓷的方法,其特征在于采用以下步骤:1)采用分别制备两种不同组分和厚度的硼化锆片:先将粘结剂和增塑剂加入溶剂中搅拌均匀,再分别加入硼化锆陶瓷粉料、搅拌均匀,形成两种不同组分的料,然后成型,室温干燥脱模后分别得到300~1000μm厚的硼化锆片A和20~100μm厚的硼化锆片B;2)对流片A和片B依照模具大小分别切片;3)将切片后的片A和片B交替叠加放入石墨磨具中,真空脱脂;4)在氩气气氛下热压烧结,烧结温度为1900~2000℃,压力为20~40MPa,即得层状超高温陶瓷。本发明采用成型技术,工艺简单,所得材料的韧值高达9.3MPa·m1/2。
  • 法制层状硼化锆超高温陶瓷方法
  • [发明专利]光学膜的制造方法-CN201780064089.X有效
  • 中岛新之助;南条崇 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2017-07-19 - 2021-05-18 - B29C41/24
  • 本发明的通过溶液流制膜来制造光学膜的方法,包含工序和剥离工序。在工序中,使包含聚酰亚胺树脂、环烯烃树脂、以及聚芳酯树脂中任一树脂和溶剂的胶浆从模(2)中排出,延到支持体(3)上,并对流延后的胶浆进行干燥来形成膜(5)。在剥离工序中,从支持体(3)上剥离膜(5)。其中,将从模(2)的宽度端部排出胶浆的排出速度设为V1E(m/min),将从模(2)的宽度中心部排出胶浆的排出速度设为V1C
  • 光学制造方法

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