专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]固体酸催化剂的应用方法-CN03122852.6有效
  • 赵福军;温朗友;闵恩泽 - 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油化工科学研究院
  • 2003-04-29 - 2004-11-03 - B01J38/50
  • 一种固体酸催化剂在相缩合反应中的应用方法,包括:在固体酸催化剂和洗脱的存在下,在10-250℃进行相缩合反应,其中洗脱选自C9以下芳烃或卤代芳烃、C3-C16烷烃、C1-C8脂肪醇或脂环醇以及C6以下卤代烷烃,洗脱摩尔量是反应物中非过量组分的2-60倍。本发明提供的固体酸催化剂的应用方法通过在反应原料中加入洗脱能力强、且不参与反应的洗脱剂,或是提高反应原料中某一种具有洗脱能力的组分的含量,来抑制固体酸催化剂上沉积物的沉积,并洗脱固体酸催化剂上的沉积物。该方法可使固体酸催化剂上的反应和再生在同一反应器中同时进行,不仅简化了工艺流程和生产操作,而且延长了催化剂的使用寿命和操作周期。
  • 固体催化剂应用方法
  • [实用新型]电泳沉积装置-CN202122445736.8有效
  • 邱成峰;莫炜静 - 佛山思坦半导体科技有限公司
  • 2021-10-11 - 2022-06-14 - C25D13/22
  • 本实用新型公开了一种电泳沉积装置,包括沉积单元、输送单元和清洗单元;所述沉积单元包括反应腔、设置于所述反应腔内的电极对和控制所述电极对间的电压和/或电流的第一控制器,所述电极对包括正电极和负电极;所述输送单元用于向所述反应腔输送电泳;所述清洗单元用于清洗所述反应腔。本实用新型能连续或同时沉积两种以上量子点材料,简化全彩显示器件的量子点沉积的工艺流程。
  • 电泳沉积装置
  • [发明专利]沉淀物分离装置及方法-CN202210408251.8有效
  • 赵敏;郭兴建 - 中国石油大学(北京)
  • 2022-04-19 - 2023-08-08 - C02F1/52
  • 本发明提供一种沉淀物分离装置,其包括主壳体、沉积件以及剥离组件;主壳体内部围成反应室,且主壳体的侧壁上开设有多个用于注入待处理的注水口,主壳体的底部具有可开闭的排水口;沉积件活动悬挂于反应室内,以沉积待处理中的沉淀物;剥离组件包括可转动地设置于沉积件的下方的叶轮,且叶轮被配置为在注水口的水流冲击下转动,并碰撞沉积件,以使沉积件上沉积的沉淀物由沉积件表面剥离。
  • 沉淀物分离装置方法
  • [实用新型]沉积生产装置-CN01224833.9无效
  • 梁沐旺;蒋邦民;陈朝明;黄振荣;叶清发 - 财团法人工业技术研究院
  • 2001-05-28 - 2002-03-06 - C23C18/00
  • 本实用新型系有关于一种沉积(LPD)生产装置,其主要构造包括一组饱和反应设备、一组稳流过饱和循环反应设备、一组溶液化学浓度自动监控设备,及一组废液回收处理设备。其中饱和反应设备包含一只混合槽、两只以上的原物料供给装置、搅拌器、过滤装置。稳流过饱和循环反应设备含一只过饱和反应槽、一只位控制槽、两只以上的反应剂供给装置、搅拌器、过滤循环装置。由于本实用新型采用单槽密闭、双出入口暨两侧溢流式稳流循环设备进行低温沉积,可使饱和反应过滤、循环、加热使用,达到良好的沉积薄膜可靠度。
  • 沉积生产装置
  • [发明专利]一种石墨件表面沉积碳化硅设备-CN202011063453.0有效
  • 马伟;张超 - 中钢新型材料股份有限公司
  • 2020-09-30 - 2022-11-11 - C23C16/32
  • 本发明提供了一种石墨件表面沉积碳化硅设备,包括沉积装置、喷淋装置、冷却装置及切换装置,沉积装置包括反应釜、置物台、抽真空管道、原料气管道、氮气管道及氯气通道;喷淋装置包括喷淋组件及集组件;冷却装置包括冷却组件、排水组件及限位组件,本发明通过在反应釜内设置置物台,置物台上设置集组件及可罩设在其上的喷淋组件,喷淋组件中环绕设置有与集组件连通的冷却组件,并且在切换装置的作用下,喷淋组件和冷却组件交替进行单独工作,使石墨件表面除杂和表面沉积在同一反应釜内完成,解决了现有技术中石墨件表面沉积需要在两个工位中进行导致石墨件转移过程中其表面易出现磨损进而影响沉积效果的技术问题。
  • 一种石墨表面沉积碳化硅设备
  • [发明专利]连续环式反应池内沉积污泥的处理方法-CN201010147933.5无效
  • 刘庆臣;韩厚强 - 安徽南风环境工程技术有限公司
  • 2010-04-16 - 2010-09-15 - C02F3/12
  • 本发明涉及废水处理技术领域,具体涉及一种连续环式反应池内沉积污泥的处理方法,包括以下步骤:间断开启或关闭直接相邻或间接相邻的曝气设备,采用这样的技术方案,当开启连续环式反应池内的曝气设备时,就会使连续环式反应池内的污泥混合具有一定的流速,然后关闭任意一台反应池内的曝气设备,这时由于池内的污泥混合液流速惯性,就会改变了部分污泥混合的流向,而污泥混合的流向变化会将池内沉积的污泥冲起,这就具有较好的搅拌、推流能力,从而就解决了连续环式反应池内的污泥沉积问题
  • 连续反应沉积污泥处理方法
  • [发明专利]化学气相沉积法涂层系统及工艺-CN201110246169.1有效
  • 朴万成;黄宇哲;李成哲;金哲男;金上万;李权星;王宏刚 - 沈阳金研机床工具有限公司
  • 2011-08-25 - 2013-03-06 - C23C16/44
  • 本发明涉及化学气相沉积法涂层系统及工艺。采用的技术方案是:涂层工艺如下:将基体置于托盘内,然后将托盘码于支撑筒内的沉积区;控制系统控制不同的反应气体分别经气体入口引入气体混合室;混合后的反应气体经进气管进入反应炉内,经预热区预热,挡板和隔板的分散,进入沉积区;控制系统控制加热炉升温,控制沉积反应温度为900~2000℃,于常压下对基体涂层;产生的尾气经排气帽、尾气入口Ⅰ,预热板和尾气出口Ⅰ进入点火装置,中和经喷淋装置喷淋,吸收中和尾气,净化后的尾气经尾气出口Ⅱ排出,吸收经吸收出口收集,集中处理。
  • 化学沉积涂层系统工艺

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