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- [发明专利]防爆型底盖-CN202010212711.0在审
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赖贤记
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浙江东成印业有限公司
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2020-03-24
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2020-05-12
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B65D83/40
- 本发明公开了防爆型底盖，包括气雾罐体，所述气雾罐体下端通过铆接固定有底盖，所述气雾罐体正面设置有标示贴，所述标示贴包含有热敏纸及透明塑料膜，所述底盖正面开设有刻痕，所述热敏纸通过第一胶水粘粘固定于气雾罐体上，所述热敏纸上表面设置有透明塑料膜，所述透明塑料膜内侧混溶有荧光粉；通过设置有刻痕，便于避免气雾罐体内侧压力过大时，没有很好的泄压处，造成气雾罐体四处发生炸裂，安全性低，通过设置有热敏纸、透明塑料膜及荧光粉，便于使用者对多个气雾罐体进行区分，避免多个不同使用量的气雾罐体发生混放后，区分不便。
- 防爆型底盖
- [实用新型]成膜系统及成膜装置-CN202220519843.2有效
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坂爪崇寛;桥上洋
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信越化学工业株式会社
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2022-03-10
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2022-12-02
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C23C16/40
- 本实用新型的成膜装置对经雾化的原料溶液进行热处理而在基板上进行成膜，所述成膜装置包括：雾化部，将所述原料溶液雾化而产生雾；载气供给部，供给载气，所述载气搬送所述雾化部中所产生的所述雾；成膜部，在内部包括载置所述基板的载置部，将由所述载气搬送的所述雾供给至所述基板上；以及排气部，从所述成膜部排出废气，且在所述成膜部内的所述载置部的上方进而包括：喷嘴，向所述基板上供给所述雾；以及顶板，将从所述喷嘴供给的所述雾进行整流。由此，提供一种能够应用雾CVD法、能够形成膜厚的面内均一性优异的膜的成膜系统及成膜装置。
- 系统装置
- [实用新型]防爆型底盖-CN202020384590.3有效
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赖贤记
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浙江东成印业有限公司
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2020-03-24
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2020-10-30
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B65D83/40
- 本实用新型公开了防爆型底盖，包括气雾罐体，所述气雾罐体下端通过铆接固定有底盖，所述气雾罐体正面设置有标示贴，所述标示贴包含有热敏纸及透明塑料膜，所述底盖正面开设有刻痕，所述热敏纸通过第一胶水粘粘固定于气雾罐体上，所述热敏纸上表面设置有透明塑料膜，所述透明塑料膜内侧混溶有荧光粉；通过设置有刻痕，便于避免气雾罐体内侧压力过大时，没有很好的泄压处，造成气雾罐体四处发生炸裂，安全性低，通过设置有热敏纸、透明塑料膜及荧光粉，便于使用者对多个气雾罐体进行区分，避免多个不同使用量的气雾罐体发生混放后，区分不便。
- 防爆型底盖
- [发明专利]成膜方法-CN201980055286.4在审
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渡部武纪;桥上洋
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信越化学工业株式会社
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2019-06-13
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2021-04-02
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C23C16/455
- 本发明为一种成膜方法，其是在成膜部对雾进行热处理而进行成膜的成膜方法，其包括：在雾化部将原料溶液雾化而产生雾的工序；经由连接所述雾化部和所述成膜部的输送部，通过载气将所述雾从所述雾化部输送至所述成膜部的工序；以及，在所述成膜部对所述雾进行热处理，从而在基体上进行成膜的工序，当将所述载气的流量设为Q(L/分)、将所述载气的温度设为T(℃)时，以7＜T+Q＜67的方式对所述载气的流量和所述载气的温度进行控制。由此可以提供一种成膜速度优异的成膜方法。
- 方法
- [实用新型]一种高效气雾分离装置-CN201720217713.2有效
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杨科武;唐鸿志;李晓东;陈锦技
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上海道多生物科技有限公司
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2017-03-07
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2017-12-12
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B01D50/00
- 本实用新型公开了一种高效气雾分离装置，包括底部的安装折流板的折流分离段和上部的膜分离段，膜分离段包括安装于管壁内侧的分离膜安装座和分离膜，分离膜安装座中部为导气管筒，导气管筒外周安装分离膜，分离膜与导气管筒之间围成分离腔开关门关闭时，气雾通过导气管筒进入分离腔，气体通过膜排出，水雾凝结成水珠附着在分离膜上，分离膜的分离能力下降，打开开关门，气雾快速由导气管筒进入分离腔并通过开关门回到生物滤塔内，同时把凝结在分离膜上的水珠带走，从而恢复分离膜的分离功能，再关上开关门即可再次进行气雾分离，既能保证大流量的分离气雾又能保证良好的分离效果。
- 一种高效分离装置
- [发明专利]氧化镓半导体膜的制造方法及成膜装置-CN202180045966.5在审
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渡部武纪
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信越化学工业株式会社
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2021-05-17
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2023-04-21
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H01L21/365
- 本发明是一种氧化镓半导体膜的制造方法，其使用雾化CVD法，包含以下工序：雾产生工序，在雾化部中雾化包含镓的原料溶液而产生雾；载气供给工序，向所述雾化部供给用于输送所述雾的载气；输送工序，经由连接所述雾化部与成膜室的供给管利用所述载气从所述雾化部向所述成膜室输送所述雾；整流工序，在所述成膜室中向基板的表面供给的所述雾及所述载气的流动被整流成沿着所述基板的表面的流动；成膜工序，对经过所述整流的雾进行热处理而在所述基板上进行成膜；以及排气工序，向所述基板的上方排出废气。由此，提供一种膜厚的面内均匀性、成膜速度优异的氧化镓半导体膜的制造方法。
- 氧化半导体制造方法装置
- [发明专利]一种水体高效增氧方法-CN202211334848.9在审
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李飞鹏;韩金昌
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浙江尚理环保科技有限公司;上海理工大学
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2022-10-28
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2023-01-24
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C02F7/00
- 本发明涉及一种水体高效增氧方法，其特征在于：包括设置一水容器，由气雾分散器组成的气雾管网置于水中，控制装置放置于水中或者地面，气源站通过管道与控制装置及气雾管网相联通，为水下提供微纳米级的气雾，该气雾分散器具有包括采用物理干法生产的微小多孔性纳米膜的外包膜，该微小多孔性纳米膜的气孔率为8‑30％，厚度为6‑40微米，平均气孔大小为0.01‑1纳米，该外包膜总厚度小于4毫米，该气雾分散器产生微纳米气雾的最小大气压数值为0.02Mpa；通过空压机，提供给多个气雾分散器，每一个气雾分散器在0.01‑0.05MPa压力即可产生微纳米级的气雾。
- 一种水体高效方法
- [发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202180027330.8在审
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坂爪崇宽
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信越化学工业株式会社
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2021-03-22
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2022-12-02
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H01L21/365
- 本发明是一种成膜装置，其至少具备：雾化部，其雾化原料溶液而产生雾；连接于所述雾化部、并输送含有所述雾的载气的配管；输送向含有所述雾的载气中混合、并以1种以上的气体为主成分的添加用流体的至少一根以上的配管；与成膜部连接、并输送将含有所述雾的载气和所述添加用流体混合后的混合雾流体的配管；连接部件，其连接输送含有所述雾的载气的配管、输送所述添加用流体的配管、以及输送所述混合雾流体的配管；以及成膜部，其对所述雾进行热处理而在基体上进行成膜，通过所述连接部件连接的、输送所述添加用流体的配管与输送所述混合雾流体的配管所成的角是120度以上。由此，提供一种能够应用成膜速度优异的雾化CVD法的成膜装置。
- 装置方法
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