专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种废水循环回用处理系统-CN201120122581.8无效
  • 丁水法 - 丁云法
  • 2011-04-25 - 2011-10-05 - C02F9/04
  • 本实用新型公开了一种废水循环回用处理系统,包括依次连接的污水池、隔油调节池、用于一次沉淀的斜管沉淀池、用于废水浮选的池、用于二次沉淀的吸附沉淀池、组合净水装置以及清水池;所述池上连接有溶气机构为其提供溶水;还包括有加药装置为斜管沉淀池与池提供混凝药剂、与所述斜管沉淀池、池、吸附沉淀池通过排泥装置连接的污泥池。系统构架合理、动力消耗少、成本低,废水处理后的水质可达到回用中水质量标准。
  • 一种废水循环用处系统
  • [发明专利]一种废水循环回用处理系统及其处理工艺-CN201110103299.X有效
  • 丁水法 - 丁云法
  • 2011-04-25 - 2012-01-11 - C02F9/04
  • 本发明公开了一种废水循环回用处理系统及其处理工艺,处理系统包括依次连接的污水池、隔油调节池、用于一次沉淀的斜管沉淀池、用于废水浮选的池、用于二次沉淀的吸附沉淀池、组合净水装置以及清水池;所述池上连接有溶气机构为其提供溶水;还包括有加药装置为斜管沉淀池与池提供混凝药剂、与所述斜管沉淀池、池、吸附沉淀池通过排泥装置连接的污泥池。系统构架合理、动力消耗少、成本低,废水处理后的水质可达到回用中水质量标准。
  • 一种废水循环用处系统及其处理工艺
  • [发明专利]一种废水循环回用的处理工艺-CN202010294591.3在审
  • 周其胤;高寒;贺振洲 - 安徽美自然环境科技有限公司
  • 2020-04-15 - 2020-08-14 - C02F9/14
  • 本发明公开了一种废水循环回用的处理工艺,包括如下步骤:1)废水经水处理后由自动刮渣机进行过滤;2)经步骤与1)处理后的废水进入调节池后由提升泵泵入池内;3)经池处理后废水依次进入缺氧池和曝气池内进行进一步处理;4)经曝气池处理后的废水进入高密度沉淀池沉淀后进入V滤池系统进行深度过滤,所得滤水流入清水池内进行厂房回用;经本发明处理后的废水可循环回用于厂房,不仅建设成本低,运行方便,且处理效果好,可实现100
  • 一种废水循环处理工艺
  • [发明专利]一种染中水的前段回用系统及处理印染废水的方法-CN201810865137.1有效
  • 钱建锋;李辉 - 嘉兴市金乐染织有限公司
  • 2018-08-01 - 2021-01-08 - D06B3/10
  • 本发明公开了一种染中水的前段回用系统及处理印染废水的方法,属于污水处理技术领域,其技术要点为:一种染废水的处理系统,包括染缸一,用于浅色面料的上染;池一,用于浅色染料水的退色,池一上设有管道一,管道一的另一端与染缸一连通;染缸二,用于中色面料的上染,池一的出水管一与染缸二连通并设有抽水泵;池二,用于中色染料水的退色,池二设有管道二,管道二的另一端与染缸二连通;染缸三,用于深色面料的上染,池二的出水管二与染缸三连通并有提升泵。其处理印染废水的方法包括调节池、初沉池、活性污泥池、二沉池、接触氧化池和三沉池,本发明提高了染料废水的重复利用率,节约了水资源,保护了环境。
  • 一种染织中水前段系统处理印染废水方法
  • [发明专利]非接触眼压测量方法及装置-CN200710093150.1无效
  • 陈骥;赵晓明 - 重庆大学
  • 2007-12-17 - 2008-06-25 - A61B3/16
  • 采用气体润滑技术中气体静压理论设计的眼压测量模块置于外壳内,外壳后壁装有压力传感器,外壳固定于微调装置上。调节微调装置使眼压测量模块达到额定测量距离,当眼压测量模块处于力平衡状态时,眼压测量模块前部喷嘴平眼角膜额定面积的压力和气眼压测量模块后喷嘴至压力传感器产生的作用力相平衡,微处理器控制与信息处理装置测出作用力并计算显示出眼压值
  • 接触眼压测量方法装置
  • [发明专利]带有周向收敛楔形微构的环瓣环密封结构-CN202310160542.4在审
  • 赵欢;王双;孙丹;任国哲;张国臣;温帅方 - 沈阳航空航天大学
  • 2023-02-23 - 2023-05-30 - F16J15/32
  • 本发明公开了一种带有周向收敛楔形微构的环瓣环密封结构,包括:密封座、密封环瓣和周向弹簧,密封环瓣为多个,配合安装于密封座上并通过周向弹簧夹紧,密封环瓣的内周面上开设有周向卸荷槽、轴向卸荷槽和楔形微构,轴向卸荷槽为多个,一端与高压入口侧连通,另一端与周向卸荷槽连通,楔形微构为凹槽结构,沿密封环瓣的周向设置,楔形微构的一端与轴向卸荷槽连通,另一端与密封环瓣的内周面相接,且楔形微构的深度沿转子的转动方向逐渐减小该带有周向收敛楔形微构的环瓣环密封结构可以显著增强环瓣环密封周向流体动压效应,降低转速工况下密封环磨损程度,拓宽环瓣环密封适用工况,延长环瓣环密封服役寿命。
  • 带有收敛楔形微织构环瓣式浮环密封结构
  • [实用新型]旋杯静电喷涂装置-CN201620363060.4有效
  • 李耀钧;周南平 - 李耀钧
  • 2016-04-27 - 2016-11-09 - B05B5/04
  • 本实用新型属于静电喷涂技术领域,具体涉及一种旋杯静电喷涂装置。提出的一种旋杯静电喷涂装置具有空心轴(10)、转子(8)和杯(1);还设置有用以对转子(8)进行悬浮支撑的轴承;转子(8)的后端伸出气轴承,并在其后端具有叶轮;对应转子(8)还设置有用以驱动其转动的气动马达;轴承的外侧设置有杯外套(2),且杯外套(2)后端位于后座(7)的内孔内;杯外套(2)的外侧包覆有杯罩(3);杯罩(1)与所述杯外套(2)之间具有用以空气流通的空气通道。
  • 旋杯式静电喷涂装置
  • [发明专利]带有V形微构的环密封结构及密封跑道-CN202310437365.X在审
  • 赵欢;樊汝凤;孙丹;任国哲;温帅方;徐文峰 - 沈阳航空航天大学
  • 2023-04-23 - 2023-07-14 - F16J15/16
  • 本发明公开了一种带有V形微构的环密封结构及密封跑道,其中所述环结构包括:转子、密封座和环密封组件,环密封组件包括密封跑道和密封环,密封跑道固定套设在转子上,密封环安装于密封座内且配合套设于密封跑道的外周,密封跑道的外周沿其周向均匀开设有多组V形微构,V形微构包括左斜槽和右斜槽,左斜槽和右斜槽的前端连通形成V形微构的尖部,后端形成V形微构的尾部,V形微构的尖部朝向转子的旋转方向,且V形微构的深度沿其尖部向尾部的方向逐渐减小或阶梯减小该带有V形微构的环密封结构及密封跑道,结构简单,可显著增强环密封流体动压效应,降低密封环磨损程度,延长密封组件使用寿命。
  • 带有形微织构密封结构跑道

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