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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]气体阻隔性层叠膜-CN201080015879.7有效
发明人：长谷川彰;黑田俊也;石飞昌光;真田隆;田中利彦 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-04-08 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种气体阻隔性层叠膜，其具备基材和在所述基材的至少单侧上所形成的至少1层薄膜层，其中，所述薄膜层中的至少1层满足下述条件中的至少1个条件，满足硅分布曲线、氧分布曲线及碳分布曲线的条件(i)～(本发明的气体阻隔性层叠膜不但具有足够的气体阻隔性，而且在弯曲后可充分抑制气体阻隔性的降低。本发明的气体阻隔性层叠膜非常适用于使用有机电致发光元件(有机EL元件)的柔性照明、有机薄膜太阳能电池、液晶显示器等。
气体阻隔层叠

[发明专利]气体阻隔性薄膜、基材薄膜及有机电致发光元件-CN200610101931.6无效
发明人：岩永宏;樱井靖也 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-07-11 - 公布日： 2007-01-24 - 主分类号： B32B33/00 文献下载
摘要：本发明提供具有适于连续成膜的高生产率的高气体阻隔性薄膜。其包含基材薄膜和在该基材薄膜上具有的气体阻隔性层叠体，该气体阻隔性层叠体的构成为：具有至少1个由以硅氧氮化物层、硅氧化物层、硅氧氮化物层的顺序相互邻接配置的3层所构成的单元。
气体阻隔薄膜基材有机电致发光元件

[发明专利]气体阻隔性膜的制造方法、气体阻隔性膜和电子设备-CN201380054591.4有效
发明人：江连秀敏 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2013-10-11 - 公布日： 2015-06-24 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供即便在高温高湿的使用环境下也能够维持优异的气体阻隔性、且挠性(弯曲性)和密合性优异的气体阻隔性膜的制造方法以及气体阻隔性膜和使用其的电子设备元件。本发明的气体阻隔性膜的制造方法是在树脂基材的一个面上具备含有碳原子、硅原子和氧原子的气体阻隔层并在该树脂基材的与具有气体阻隔层的面相反的一侧的面上具有导电层的气体阻隔性膜的制造方法，其特征在于，上述气体阻隔层是使用含有有机硅化合物的原料气体和氧气并利用在施加了磁场的辊间具有放电空间的放电等离子体化学气相生长法而形成的，上述导电层在23℃、50％RH的环境下的表面电阻率值在1×103～1×1010Ω/□的范围内。
气体阻隔制造方法电子设备

[发明专利]气体阻隔性铝蒸镀膜及使用其的层叠膜-CN201880015709.5有效
发明人：铃木孝司;石井贵宏;小林俊树 -专利权人：东丽薄膜先端加工股份有限公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： B32B33/00 文献下载
摘要：气体阻隔性铝蒸镀膜，其特征在于，在基材膜表面的至少一面上形成有蒸镀层，所述蒸镀层的组成从膜厚为25nm以上的铝金属层连续地变化为膜厚为5nm以上的氧化铝层，进一步在所述蒸镀层上层叠有膜厚为0.1～4μm的气体阻隔树脂层，该气体阻隔树脂层由将乙烯醇系树脂与具有烷氧基的有机硅化合物进行缩聚而得到的气体阻隔性组合物形成。本发明提供具有优异的氧及水蒸气阻隔性能、具有层压强度、耐弯曲性、耐拉伸性的气体阻隔性铝蒸镀膜及使用其的层叠膜。
气体阻隔性铝蒸镀膜使用层叠

[发明专利]气体阻隔性膜及柔性电子器件-CN201780071065.7在审
发明人：伊藤丰;山下恭弘 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2017-11-17 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供尤其是高温高湿下的气体阻隔性的经时性下降被抑制的气体阻隔性膜。本发明涉及气体阻隔性膜，其是至少具有基材层和无机薄膜层的气体阻隔性膜，所述基材层至少包含挠性基材，该基材层与该无机薄膜层之间的密合性按照ASTM D3359测定为2B以上，该无机薄膜层具有至少1个切断端面，并且具有选自由剥离及裂缝组成的组中的至少1种缺陷、或者不具有该缺陷，此处，该无机薄膜层具有该缺陷的情况下，其存在区域为从该切断端面起沿着法线方向的120μm以下的范围内。
气体阻隔性膜无机薄膜层基材层切断端面柔性电子器件气体阻隔性法线方向高温高湿挠性基材经时性密合性裂缝剥离自由

[发明专利]用于调节气体阻隔性的包装粘合剂混合物-CN96108869.9无效
发明人：Ｒ·Ｍ·兰伯特;Ｈ·Ｄ·舍曼 -专利权人：莫顿国际股份有限公司
申请日： 1996-07-22 - 公布日： 2003-04-16 - 主分类号： C09J127/04 文献下载
摘要：以一定的比例将一种高气体阻隔性的丙烯酸/氯化乙烯基或丙烯酸/氯化乙烯基/乙烯基胶乳粘合剂组分以及一种低气体阻隔性的丙烯酸/乙烯基胶乳粘合剂组分混合，并用该混合物粘合低气体阻隔性材料的膜(如聚烯烃膜)，从而得到能调节气体阻隔性能的粘合层
用于调节气体阻隔包装粘合剂混合物

[发明专利]一种PE多层阻隔复合薄膜及其制备方法-CN202211392791.8有效
发明人：宋新 -专利权人：江苏欧晟新材料科技有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： B32B27/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种PE多层阻隔复合薄膜及其制备方法，制备时以PE聚乙烯层作为外层和内层，以EVOH层作为中间阻隔层，EVOH(乙烯‑乙烯醇共聚物树脂)具有较优异的机械强度和气体阻隔性，能够有效防止氧气、二氧化碳等气体的透过，本申请构建外PE层‑阻隔层‑内PE层的夹心膜层结构，利用聚乙烯较优异的水蒸汽阻隔性能来提高复合膜层的气体阻隔性能。本发明制备得到的复合膜具有优异的氧气、水蒸汽阻隔性能，且复合膜层的机械性能优异，抗菌性较好，可广泛应用于包装、密封保鲜等领域，具有较高的实用性。
一种 pe 多层阻隔复合薄膜及其制备方法

[发明专利]气体阻隔性薄膜及采用了该薄膜的有机器件-CN200810165630.9无效
发明人：伊藤滋英;千贺武志 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2008-09-19 - 公布日： 2009-03-25 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种气体阻隔性薄膜，其在挠性支撑基板的表面上设置至少1层的氢化氮化硅层和至少1层的氮化硅层。该薄膜具有高的气体阻隔性。
气体阻隔薄膜采用有机器件

[发明专利]气体阻隔性膜和电子设备-CN201580038447.0有效
发明人：森孝博 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2015-06-24 - 公布日： 2019-01-08 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：本发明提供一种具有高的气体阻隔性和优异的气体阻隔性的面内均匀性的气体阻隔性膜。此外，本发明提供一种在高温高湿环境下的耐久性优异的电子设备。一种气体阻隔性膜，其在基材上依次具有锚固涂层、与上述锚固涂层接触且通过真空成膜法形成的气体阻隔层，上述锚固涂层是对含有聚硅氮烷的层施加能量来进行改性处理而得到的层，且在将上述锚固涂层的厚度设为A(nm)
气体阻隔电子设备

[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法、以及气体阻隔性层叠体-CN201380014960.7有效
发明人：杉田健太郎;大川原千春;山内康嗣 -专利权人：三菱树脂株式会社
申请日： 2013-03-29 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种雾度值低且透明性优异、不产生外观不良、可抑制背景反射、并且水蒸气阻隔性优异的气体阻隔性膜等。所述气体阻隔性膜是在形成于基材膜的至少一面的无机层上设置含有聚乙烯醇和硅化合物的树脂层而成的，基于JIS Z8722进行测定而得的b*值为‑1.0～1.0，a*值为‑1.0～1.0。
气体阻隔及其制造方法以及层叠

[发明专利]一种高气体阻隔性取向复合薄膜-CN202011064516.4在审
发明人：王文俊;刘平伟;李家旭;来蕾 -专利权人：浙江大学衢州研究院
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： C08J7/048 文献下载
摘要：本发明公开了一种高气体阻隔性取向复合薄膜。该复合薄膜由涂覆层和基础层构成，所述涂覆层厚度为10‑500nm，所述涂覆层中含有与涂覆层表面平行取向的第一二维材料；所述基础层厚度为1‑300μm，所述基础层中含有与基础层表面平行取向的第二二维材料。本发明所提供的高气体阻隔性取向复合薄膜，具有很高的氧气和水汽阻隔性，阻隔性明显优于无涂覆层薄膜，可应用于农业、电子、电器、建筑、食品、医疗等包覆与包装。
一种气体阻隔取向复合薄膜

[发明专利]无机层状化合物分散液、其制造方法及其用途-CN03819612.3有效
发明人：松冈裕;上野吉昭;加野仁纪 -专利权人：阪田油墨株式会社
申请日： 2003-08-18 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： C01B33/38 文献下载
摘要：本发明提供：无机层状化合物分散物，其中的无机层状化合物被劈裂成较薄的层状，且当其用作涂料或者气体阻隔性涂布剂时，可以赋予高的耐腐蚀性和气体阻隔性；气体阻隔性涂布剂组合物，当其以较薄的膜状形成气体阻隔层时，可以低成本地得到具有高透明性和充分的气体阻隔性的膜，而且，即使增加膜厚，也可以得到透明性良好且具有更高的气体阻隔性的膜；以及由具有高的气体阻隔性能的塑料及纸制成的气体阻隔性包装容器，该容器由涂布所述气体阻隔性涂布剂组合物而得到
无机层状化合物分散制造方法及其用途

[发明专利]真空绝热材料-CN201511000877.1有效
发明人：福崎智数;永山健一;木村光晴 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2015-12-28 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： F16L59/065 文献下载
摘要：公开了真空绝热材料，其中芯材料和气体吸附剂被插入一对具有气体阻隔性的外部材料的两个表面之间、被降低其内部的压力且被密封，其中该对具有气体阻隔性的外部材料的至少一个包括用准结晶金属形成的准结晶金属层。所述真空绝热材料可减少热桥，同时保持高的气体阻隔性。
真空绝热材料

[发明专利]气体阻隔性膜和气体阻隔性膜的制造方法-CN201780080718.8有效
发明人：高木宏司;森孝博 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2017-12-19 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的气体阻隔性膜是在基材上依次形成有第一气体阻隔层和第二气体阻隔层的气体阻隔性膜，上述第二气体阻隔层为聚硅氮烷改性层，且上述第二气体阻隔层的表面的以纳米压痕法测定的弹性模量和硬度满足下述条件[A]和
气体阻隔制造方法

[发明专利]气体阻隔性膜、气体阻隔性膜的制造方法及电子器件-CN201280031320.2有效
发明人：森孝博 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2012-06-13 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供具有非常优异的气体阻隔性能和高的耐久性的气体阻隔性膜、其制造方法及使用了其的电子器件。本发明的气体阻隔性膜为在基材上层叠了至少含有Si、O和N的气体阻隔层2层以上的气体阻隔性膜，其特征在于，在气体阻隔层全体中厚度方向的组成分布如下：从接近基材方依次具有满足下述(A)的组成范围的在厚度方向上连续了的(A)在由SiOwNx表示气体阻隔层的组成时，为w≥0.8、x≥0.3、2w＋3x≤4。(B)在由SiOyNz表示气体阻隔层的组成时，为0＜y≤0.55、z≥0.55、2y＋3z≤4。
气体阻隔制造方法电子器件

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