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[发明专利]气体涡轮引擎的条件确定-CN202010113072.2有效
发明人：扎希德·M·侯赛因;休·D·托马斯 -专利权人：劳斯莱斯有限公司
申请日： 2020-02-24 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： B64F5/60 文献下载
摘要：本文公开了一种自动确定用于飞行器的气体涡轮引擎10的至少部分的操作条件的方法，所述方法包括：由气体压力检测器401测量一个或多个气体压力波，其中所述气体压力检测器401位于所述气体涡轮引擎10中；以及由计算系统根据所述气体压力检测器401的输出信号自动确定气体涡轮引擎10的至少部分的操作条件。
气体涡轮引擎条件确定

[发明专利]微晶硅膜的制造方法及半导体装置的制造方法-CN201110308492.7无效
发明人：小松立;神保安弘;宫入秀和;山元良高 -专利权人：株式会社半导体能源研究所;夏普株式会社
申请日： 2011-10-12 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明的微晶硅膜的制造方法包括如下步骤：在第一条件下在绝缘膜上形成具有混合相微粒的微晶硅膜，在其上，在第二条件下形成第二微晶硅膜。第一条件和第二条件是如下条件：将包含硅的沉积气体和包含氢的气体用作第一原料气体和第二原料气体。作为第一条件的第一原料气体的供给，交替进行第一气体的供给以及第二气体的供给。
微晶硅膜制造方法半导体装置

[发明专利]一种模拟不同土壤环境条件下土壤污染释放的装置-CN201711326223.7在审
发明人：周海燕;林龙勇;肖荣波;邓一荣 -专利权人：广东省环境科学研究院
申请日： 2017-12-13 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： G01N33/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种模拟不同土壤环境条件下土壤污染释放的装置，包括至少一个用于装载土壤样品的样品罐，样品罐内设有布水装置，样品罐的底部设有出液口，样品罐的下侧连通有进气管，进气管的进口端设有气体发生装置，进气管上串联有气体流量计、气体控温装置和气体控湿装置。布水装置模拟喷淋或降雨条件下污染物的释放，通过压力系统调节样品罐内的气压，通过气体控温装置模拟不同温度条件下的土壤条件，通过气体温度控湿装置模拟不同湿度条件下的土壤条件；当气体控温装置和气体控湿装置串联设置之后，更是能模拟干冷、湿冷、干热、湿热、厌氧、好氧等多种土壤环境条件。
一种模拟不同土壤环境条件下土壤污染释放装置

[实用新型]一种模拟不同土壤环境条件下土壤污染释放的装置-CN201721749062.8有效
发明人：周海燕;林龙勇;肖荣波;邓一荣 -专利权人：广东省环境科学研究院
申请日： 2017-12-13 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： G01N33/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种模拟不同土壤环境条件下土壤污染释放的装置，包括至少一个用于装载土壤样品的样品罐，样品罐内设有布水装置，样品罐的底部设有出液口，样品罐的下侧连通有进气管，进气管的进口端设有气体发生装置，进气管上串联有气体流量计、气体控温装置和气体控湿装置。布水装置模拟喷淋或降雨条件下污染物的释放，通过压力系统调节样品罐内的气压，通过气体控温装置模拟不同温度条件下的土壤条件，通过气体温度控湿装置模拟不同湿度条件下的土壤条件；当气体控温装置和气体控湿装置串联设置之后，更是能模拟干冷、湿冷、干热、湿热、厌氧、好氧等多种土壤环境条件。
土壤环境条件控温装置进气管样品罐土壤污染布水装置控湿装置土壤条件释放污染物气体发生装置本实用新型气体流量计串联设置降雨条件模拟测试湿度条件土壤样品温度条件压力系统装置模拟出液口进口端温度控干热好氧喷淋湿冷湿热厌氧气压连通串联装载

[发明专利]加臭剂添加装置以及燃料气体供应系统-CN200880012647.9有效
发明人：末松启吾;上野真;横山龙昭;藤谷宏;松叶充司;平形修二 -专利权人：丰田自动车株式会社
申请日： 2008-04-10 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： C10L3/10 文献下载
摘要：一种加臭剂添加装置，在消耗燃料气体的气体系统中向所述燃料气体添加加臭剂，所述加臭剂添加装置包括：添加单元，向由气体系统消耗的燃料气体添加加臭剂；环境条件检测单元，在气体系统中检测与燃料气体中的加臭剂的扩散相关的环境条件；以及添加调整单元，基于通过环境条件检测单元检测出的环境条件来调整由添加单元添加加臭剂的添加方式。由此，能够在将燃料气体作为燃料来消耗的气体系统中更可靠地检测该燃料气体的泄漏，并大大地提高安全性。
加臭剂添加装置以及燃料气体供应系统

[发明专利]半导体器件的制造方法及衬底处理装置-CN201610397426.4有效
发明人：矶边纪之;龟田贤治;及川幸一 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2016-06-07 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供用于将来自清洁气体的残留卤族元素从处理室内除去的新型吹扫技术。一种半导体器件的制造方法，其包括下述工序：向利用包含卤族元素的清洁气体将附着于内部的构件的氧化膜除去后的处理室内，以第一处理条件供给包含氢及氧的吹扫气体并进行排气的工序；和在以第一处理条件供给吹扫气体并进行排气的工序之后，以与第一处理条件不同的第二处理条件将吹扫气体供给至处理室内并进行排气的工序，第一处理条件是下述处理条件：与第二处理条件相比，将清洁气体供给至处理室内时残留于处理室内的卤族元素与吹扫气体的反应性相对高。
半导体器件制造方法衬底处理装置

[发明专利]物理仿真方法、装置、计算机设备和存储介质-CN202111197310.3有效
发明人：张心欣;曹亚帝 -专利权人：深圳泽森软件技术有限责任公司
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：方法包括：获取目标固体对象在当前时间步的当前固体状态以及目标气体对象在当前时间步的当前气体状态；基于当前固体状态对目标固体对象进行位置移动仿真，得到中间固体状态；基于当前气体状态对目标气体对象进行对流仿真，得到中间气体状态；基于中间气体状态、中间固体状态以及交界约束条件进行耦合仿真，得到目标固体对象在下一时间步的目标固体状态以及目标气体对象在下一时间步的目标气体状态；其中交界约束条件为目标固体对象与目标气体对象之间的交界对应的约束条件，交界约束条件包括交界压强约束条件。
物理仿真方法装置计算机设备存储介质

[发明专利]用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统-CN201710462095.2在审
发明人：伊时塔克·卡里姆;阿德里安·拉瓦伊 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统。公开了一种沉积膜的方法和系统。所述方法可以包括(a)确定用于在所述室内进行膜沉积的工艺条件，所述工艺条件包括在所述室内围绕每个站的周边流动的帘式气体的流动条件，(b)根据(a)中确定的所述工艺条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流到所述室内的每个站，(c)在(b)期间或之后，确定所述室内的所述帘式气体的经调节的流动条件，以改善衬底的不均匀性；以及(d)在(c)之后，根据(c)中确定的所述经调节的流动条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流动。所述系统可以包括气体输送系统、处理室以及具有用于执行(a)‑(d)中的一项或多项的控制逻辑的控制器。
用于轮廓调节喷头气体方法系统

[发明专利]用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统-CN202211279416.2在审
发明人：伊时塔克·卡里姆;阿德里安·拉瓦伊 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统。公开了一种沉积膜的方法和系统。所述方法可以包括：(a)确定用于在所述室内进行膜沉积的工艺条件，所述工艺条件包括在所述室内围绕每个站的周边流动的帘式气体的流动条件，(b)根据(a)中确定的所述工艺条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流到所述室内的每个站，(c)在(b)期间或之后，确定所述室内的所述帘式气体的经调节的流动条件，以改善衬底的不均匀性；以及(d)在(c)之后，根据(c)中确定的所述经调节的流动条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流动。所述系统可以包括气体输送系统、处理室以及具有用于执行(a)‑(d)中的一项或多项的控制逻辑的控制器。
用于轮廓调节喷头气体方法系统

[发明专利]用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统-CN202211279459.0在审
发明人：伊时塔克·卡里姆;阿德里安·拉瓦伊 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统。公开了一种沉积膜的方法和系统。所述方法可以包括：(a)确定用于在所述室内进行膜沉积的工艺条件，所述工艺条件包括在所述室内围绕每个站的周边流动的帘式气体的流动条件，(b)根据(a)中确定的所述工艺条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流到所述室内的每个站，(c)在(b)期间或之后，确定所述室内的所述帘式气体的经调节的流动条件，以改善衬底的不均匀性；以及(d)在(c)之后，根据(c)中确定的所述经调节的流动条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流动。所述系统可以包括气体输送系统、处理室以及具有用于执行(a)‑(d)中的一项或多项的控制逻辑的控制器。
用于轮廓调节喷头气体方法系统

[发明专利]用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统-CN202211279875.0在审
发明人：伊时塔克·卡里姆;阿德里安·拉瓦伊 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统。公开了一种沉积膜的方法和系统。所述方法可以包括：(a)确定用于在所述室内进行膜沉积的工艺条件，所述工艺条件包括在所述室内围绕每个站的周边流动的帘式气体的流动条件，(b)根据(a)中确定的所述工艺条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流到所述室内的每个站，(c)在(b)期间或之后，确定所述室内的所述帘式气体的经调节的流动条件，以改善衬底的不均匀性；以及(d)在(c)之后，根据(c)中确定的所述经调节的流动条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流动。所述系统可以包括气体输送系统、处理室以及具有用于执行(a)‑(d)中的一项或多项的控制逻辑的控制器。
用于轮廓调节喷头气体方法系统

[发明专利]半导体器件的制造方法、衬底处理装置及程序-CN202080104258.X在审
发明人：花岛建夫;石桥清久 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2020-09-24 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明具有通过将非同时地进行(a)向在表面设有凹部的衬底供给原料气体的工序、和(b)向衬底供给反应气体的工序的循环执行规定次数，从而在衬底上形成膜的工序，在(a)中，分多次向衬底供给原料气体，将最初供给原料气体时的处理条件设为与在第2次以后供给原料气体时的处理条件相比能够抑制原料气体的自分解的处理条件。
半导体器件制造方法衬底处理装置程序

[发明专利]真实条件下气体绝缘设备过热模拟装置及实验方法-CN201710881863.8在审
发明人：陈晓琳;陈林聪;曾福平;张薇;李欣然;祁鸣露;刘雪洋 -专利权人：海南电网有限责任公司电力科学研究院
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： G01R31/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种真实条件下气体绝缘设备过热模拟装置及实验方法，包括真实条件下气体绝缘设备过热模拟装置与真实条件下气体绝缘设备过热模拟实验方法，真实条件下气体绝缘设备过热模拟装置包括三相工作电源，六氟化硫气体绝缘设备，接触不良缺陷，可在现有六氟化硫气体绝缘设备基础上模拟发生过热性故障的热场情况；真实条件下气体绝缘设备过热模拟实验方法包括过热分解气体的采集与分析测试方法。本发明可在发电厂现有六氟化硫绝缘气体设备的基础上进行不同情况下的局部过热性故障情况模拟，克服了六氟化硫绝缘气体设备的过热性故障研究只在实验室模拟的不足，为六氟化硫绝缘气体设备的过热性故障下气体分解的理论分析和应用研究提供了一种行之有限的装置与方法
真实条件下气体绝缘设备过热模拟装置实验方法

[发明专利]字画沙丘气调保鲜柜-CN201410146370.6有效
发明人：李喜宏;刘霞;刘海东;杨维巧;姜云斌;马宏原;李瑶瑶 -专利权人：天津科技大学
申请日： 2014-04-14 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： B65D81/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种字画沙丘气调保鲜柜，其特征在于：包括字画保存箱和气体调节箱，字画保存箱放置于气体调节箱上，气体调节箱产生带有预设定的温度、湿度、气调、防霉的气体，气体经字画保存箱后循环回气体调节箱，再处理后继续循环，保证字画保存箱内温度、湿度、气调、防霉的恒定保存条件。本字画沙丘气调保鲜柜能够提高稳定字画保存条件，包括基本保存恒定的温度、湿度、气体条件、使字画的保存条件始终如一，能够延长字画的保存寿命，保持字画原有的颜色、光泽等，为字画的保藏提供充足的保证。
字画沙丘保鲜

[发明专利]可燃气体含热量的直接测量装置和方法-CN99804374.5无效
发明人：贝努特·弗罗利赫;迪迪尔·多明格斯 -专利权人：施蓝姆伯格工业公司
申请日： 1999-03-19 - 公布日： 2001-05-09 - 主分类号： G01N21/35 文献下载
摘要：测量管道输送的可燃气体中含热量的装置,包括测量所述管道中流通的气体在压力P和温度T条件下的体积V的气量计,及一种确定气体热量值的装置,所述的确定气体热量值的装置测量至少一个物理量,该物理量正比于给定体积的气体的不同组分的分子数;该装置被放置在靠近气量计的位置,以便确定温度和压力条件下的热量值,该温度和压力条件与气体的体积被测量时的条件是相同的,从而所述的装置能测定气体中的热能H(P,T)V(P,T)。
可燃气体热量直接测量装置方法

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